CN210571621U - 研磨仪 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及一种研磨仪。本申请实施例提供一种研磨仪。所述研磨仪包括基座、驱动装置和防溅盖。所述驱动装置设置于所述基座。所述驱动装置具有输出轴。所述输出轴设置有研磨件。所述防溅盖设置于所述驱动装置或所述研磨件。所述输出轴带动所述研磨件上下在所述样品杯内上下运动并搅拌时,从所述样品杯溅出的样品会被所述防溅盖挡住,避免了样品的浪费,且保持了研磨过程的清洁。
Description
技术领域
本申请涉及食品安全设备领域,特别是涉及一种研磨仪。
背景技术
近几年来,随着国家及百姓对食品安全的重视,肉类、果品、蔬菜等与百姓生命健康息息相关的各种食材的检测愈来愈受到重视,随之而来的是检测品类和数量的急剧增加,这就要求检测的前处理必须快速可靠,而作为检测第一步的研磨在操作中的重要性尤为重要,但是在对样品的研磨过程中,由于研磨件旋转速度快,容易使得样品飞溅,造成不必要的浪费。
发明内容
针对上述问题,本申请提供一种研磨仪。
一种研磨仪,包括:
基座;
驱动装置,设置于所述基座,所述驱动装置具有输出轴,所述输出轴设置有研磨件;
防溅盖,设置于所述驱动装置或所述输出轴或所述研磨件或样品杯。
在一个实施例中,所述防溅盖套设于所述驱动装置或所述输出轴或所述研磨件,所述防溅盖的边缘间隔设置多个刮块。
在一个实施例中,所述防溅盖套设于所述驱动装置或所述输出轴或所述研磨件,由所述输出轴到所述防溅盖的边缘,所述防溅盖朝向背离重力方向的一侧倾斜。
在一个实施例中,所述防溅盖套设于所述驱动装置或所述输出轴或所述研磨件,由所述输出轴到所述防溅盖的边缘,所述防溅盖朝向靠近重力方向一侧倾斜。
在一个实施例中,所述驱动装置包括驱动壳体,所述输出轴由所述驱动壳体伸出,所述防溅盖套设于所述驱动壳体,所述防溅盖的边缘设置有喷射嘴。所述喷射嘴可以与供气或者供水管道连接。
在一个实施例中,所述防溅盖包括上盖体和下盖体,所述上盖体和所述下盖体之间包围形成容纳空间,所述容纳空间内设置有喷射管路,所述喷射管路与所述喷射嘴连接。
在一个实施例中,所述喷射嘴的喷射方向与所述防溅盖的倾斜方向一致。
在一个实施例中,所述驱动装置包括驱动壳体,所述输出轴由所述驱动壳体伸出,所述防溅盖的中心具有通孔,所述通孔与所述输出轴间隙配合。
在一个实施例中,所述驱动装置设置有压力传感器。
在一个实施例中,还包括清洗装置,用于清洗所述研磨件。
本申请实施例提供的所述研磨仪,所述输出轴带动所述研磨件上下在所述样品杯内上下运动并搅拌时,从所述样品杯溅出的样品会被所述防溅盖挡住,避免了样品的浪费,且保持了研磨过程的清洁。
上述实施例中,刮块、喷射嘴、防溅盖跟随驱动装置向下运动等设置都是为了将研磨过程中喷溅到研磨杯壁、和所述防溅盖上的样品推回到研磨杯中,使得研磨效果更佳。
附图说明
图1为本申请实施例提供的研磨仪侧视图;
图2为本申请实施例提供的研磨仪俯视图;
图3为本申请另一实施例提供的研磨仪侧视图;
图4为本申请另一实施例提供的研磨仪俯视图;
图5为本申请实施例提供的防溅盖示意图;
图6为本申请实施例提供的防溅盖俯视图;
图7为本申请另一个实施例提供的防溅盖示意图;
图8为本申请另一个实施例提供的防溅盖示意图;
图9为本申请另一个实施例提供的防溅盖示意图;
图10为本申请另一个实施例提供的防溅盖示意图;
图11为本申请实施例提供的防溅盖俯视图;
图12为本申请实施例提供的清洗装置示意图;
图13为本申请另一实施例提供的清洗装置示意图;
图14为本申请另一实施例提供的清洗装置示意图;
图15为本申请实施例提供的研磨件示意图;
图16本申请另一实施例提供的研磨仪侧视图;
图17为本申请另一实施例提供的研磨仪侧视图。
附图标记:
清洗装置10
清洗杯110
壳体112
旋转座114
清洗件120
第一清洗架122
毛刷124
清洗柱126
旋转电机128
第二清洗架132
第一喷水口134
第二喷水口136
清洗液出口138
旋转臂140
进水口150
出水口160
研磨件300
第一研磨刀310
第二研磨刀320
基座100
驱动装置200
输出轴210
样品座400
样品位410
轨道610
电动机620
研磨仪20
防溅盖700
刮块711
喷射嘴710
上盖体720
下盖体730
容纳空间740
喷射管路750
驱动壳体220
通孔760
调整缝761
压力传感器770
样品杯800
第一驱动装置810
第二驱动装置820。
具体实施方式
为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下通过实施例,并结合附图,对本申请的研磨仪进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请,并不用于限定本申请。
本文中为部件所编序号本身,例如“第一”、“第二”等,仅用于区分所描述的对象,不具有任何顺序或技术含义。而本申请所说“连接”、“联接”,如无特别说明,均包括直接和间接连接(联接)。在本申请的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
请参见图1-4,本申请实施例提供一种研磨仪20。所述研磨仪包括基座100、驱动装置200和防溅盖700。所述驱动装置200设置于所述基座100。所述驱动装置200具有输出轴210。所述输出轴210设置有研磨件300。所述防溅盖700设置于所述驱动装置200或所述研磨件300或样品杯800。
所述基座100用以固定所述驱动装置200。所述驱动装置200可以为电机。所述驱动装置200用以带动所述输出轴210旋转。所述防溅盖700用于阻止在所述研磨件300研磨物料时从样品杯800溅出的样品。可以理解,当所述防溅盖800设置于所述驱动装置200或所述研磨件300时,所述防溅盖700的直径可以与所述样品杯800的直径相同或略小于所述样品杯。所述防溅盖700的边缘可以为柔性材料制成,以避免磕碰所述样品杯的周缘。所述输出轴210带动所述研磨件300在所述样品杯800内上下运动并搅拌时,从所述样品杯800溅出的样品会被所述防溅盖700挡住,避免了样品的浪费,且保持了研磨过程的清洁。所述防溅盖700设置于所述输出轴210或者所述研磨件300时由于被初步研磨的样品会向上向四周飞溅,所述防溅盖700在跟随输出轴210向下运动过程中,可以将被初步研磨的样品向样品杯800的底部推动进行进一步精细研磨,保证了研磨效果。
所述防溅盖700设置于所述样品杯800时,同样可以防止样品朝所述样品杯800的开口处飞溅。所述防溅盖700可以固定于所述样品杯800。所述防溅盖700可以是软性弹性材质,如橡胶或者硅胶等。在所述防溅盖700中间可以设有所述通孔760,所述通孔760可以是一字型,或者十字型,或者为圆孔结构。当研磨件300相对于样品杯800运动接触所述防溅盖700时,所述输出轴210可以通过通孔760挤入样品杯800内。此时由于防溅盖700为软性弹性材质,所述通孔760会挤压所述输出轴210重新将所述通孔760密封,这样研磨过程中,研磨样品飞溅到上方可以被所述防溅盖700阻止飞出。
在一个实施例中,所述研磨仪20还包括所述样品杯800。所述样品杯800设置于所述驱动装置200的下方,即所述输出轴210可以带动所述研磨件300沿着竖直方向上下运动研磨所述样品杯800中的样品。所述输出轴210也可以带动所述研磨件300旋转以研磨所述样品。
请参见图5-6,在一个实施例中,所述防溅盖700套设于所述驱动装置200或所述输出轴210或所述研磨件300,所述防溅盖700的边缘设置一个或多个刮块711。所述防溅盖700可以相对于所述输出轴210或所述研磨件300固定。当所述防溅盖700套设于所述输出轴210或所述研磨件300时,所述防溅盖700可以与所述输出轴210或所述研磨件300一起旋转。可以理解, 所述研磨件300可以具有旋转轴,所述防溅盖700可以套设于所述旋转轴。所述防溅盖700带动所述刮块711旋转时,所述刮块711可以用于将溅落在所述样品杯800周边的样品刮下。所述刮块711可以为柔性材料制成,如橡胶等,可以避免所述样品杯800的边缘受到磨损。
请参见图7,在一个实施例中,所述防溅盖700套设于所述驱动装置200或所述输出轴210或所述研磨件300上。由所述输出轴210到所述防溅盖700的边缘,即所述防溅盖700的中心到所述防溅盖700的边缘,所述防溅盖700朝向背离重力方向的一侧倾斜。当所述研磨件300研磨样品时,位于所述样品杯800边缘的浆料在搅拌过程中线速度较快,因此容易从所述样品杯800的边缘飞溅。相对应地,所述防溅盖700的边缘容易被飞溅的样品浆料覆盖,通过使得所述防溅盖700由所述防溅盖700的中心到所述防溅盖700的边缘逐渐向背离重力方向的一侧倾斜,即所述防溅盖700的边缘到所述防溅盖700的中心逐渐向重力方向倾斜。可以使得溅落在所述防溅盖700的边缘的样品浆料向所述防溅盖700的中心流动并沿着所述输出轴210流向所述研磨件300,样品再次被研磨,提高了研磨效率。可以理解,所述防溅盖700可以相对于所述输出轴210固定,因此所述防溅盖700可以相对于所述输出轴210固定设置。所述防溅盖700可以与所述输出轴210一起旋转。
请参见图8,在一个实施例中,所述防溅盖700套设于所述驱动装置200或所述输出轴210或所述研磨件300上。由所述输出轴210到所述防溅盖700的边缘,即所述防溅盖700的中心到所述防溅盖700的边缘,所述防溅盖700朝向靠近重力方向的一侧倾斜。所述输出轴210带动所述研磨件300旋转时,所述研磨件300研磨飞溅的样品会别所述防溅盖700阻挡。所述样品浆料会沿着所述防溅盖700的边缘顺着所述样品杯800的边滑落下来,并带动被喷溅到所述样品杯800内壁上的样品一同流回研磨杯800中,并被再次研磨,因此提高了研磨的均匀性。
请参见图9,在一个实施例中,所述驱动装置200包括驱动壳体220。所述输出轴210由所述驱动壳体220伸出,所述防溅盖700套设于所述驱动壳体220。所述防溅盖700的边缘设置有喷射嘴710。所述防溅盖700可以固定套设于所述驱动壳体220的表面。所述防溅盖700也可以随着所述输出轴210旋转。使用时,所述喷射嘴710可以向所述样品杯800喷射气体或液体。通过向所述样品杯800中喷射高压气体可以将所述样品杯800中的样品吹向特定的方向。因而便于控制所述样品杯800中样品浆料的位置。
在一个实施例中,所述防溅盖700包括上盖体720和下盖体730。所述上盖体720和所述下盖体730之间包围形成容纳空间740,所述容纳空间740内设置有喷射管路750。所述喷射管路750与所述喷射嘴710连接。本实施例中,所述上盖体720和所述下盖体730可以一体成型,也可以拼接构成所述防溅盖700。所述上盖体720和所述下盖体730之间可以形成所述容纳空间740。所述容纳空间740的所述喷射管路750可以为柔性管道,也可以为硬质的管道。所述喷射管路750可以与高压气泵或者供水泵连接。
在一个实施例中,所述喷射嘴710的喷射方向与所述防溅盖700的倾斜方向一致。因此,所述喷射嘴710可以朝向所述防溅盖700遮挡所述样品的一侧喷射气体或液体,以将位于所述防溅盖700上的样品吹下或者冲洗到所述样品杯800中进一步研磨,以提高研磨的均匀程度。
请参见图10-11,在一个实施例中,所述驱动装置200包括驱动壳体220。所述输出轴210由所述驱动壳体220伸出。所述防溅盖700的中心具有通孔760,所述通孔760与所述输出轴210间隙配合。可以使得所述通孔760相对于所述输出轴210固定设置。同时,当所述输出轴210沿着轴线方向运动时,当所述防溅盖700受到较大的阻力时,所述防溅盖700可以相对于所述输出轴210运动,以避免所述防溅盖700受到的阻力过大而损坏所述防溅盖700。
在一个实施例中,所述驱动装置200包括驱动壳体220。所述输出轴210由所述驱动壳体220伸出。所述防溅盖700的中心具有通孔760,所述通孔760的边缘开设有调整缝761。所述通孔760的直径小于所述驱动壳体220的直径,所述防溅盖700通过所述通孔760套设于所驱动壳体220时,所述驱动壳体220使所述调整缝761裂开并扩大所述通孔760的直径,以使得所述防溅盖700套设于所述驱动壳体220。所述通孔760卡合于所述驱动壳体220。
本实施例中,所述防溅盖700相对于所述驱动壳体220可以不完全抱死。当所述驱动壳体220上下移动,所述防溅盖700可以相对于所述驱动壳体220静止,所述防溅盖700遇到障碍时,所述防溅盖700可以相对于所述驱动壳体220运动。即所述防溅盖700与所述驱动壳体220之间的摩擦力不足以使得所述防溅盖700相对于所述驱动壳体220抱死。当所述通孔760套入所述驱动壳体220时,所述调整缝761有缩小所述通孔760的趋势,因而可以使得所述通孔760抱住所述驱动壳体220。
在一个实施例中,所述驱动装置200设置有压力传感器770。所述输出轴210的端部受到的抵触压力可以传递给所述驱动装置200中的所述压力传感器770。当所述抵触压力值达到一预设值时,所述驱动装置200可以控制所述输出轴210停止上下运动,或者可以使得所述驱动轴210停止并反向运动。
在一个实施例中,所述输出轴210和所述研磨件300在竖直方向可以固定不动,通过设置驱动装置可以将所述样品杯800或清洗装置10推向所述输出轴210和所述研磨件300所在的方向,以使得所述样品杯800或清洗装置10相对于研磨件300运动,同样可以达到研磨样品或者清洗所述研磨件300的目的。
请参见图16,在一个实施例中,所述基座100为柱状结构,所述基座100设置有用于带动所述样品杯800在竖直方向运动的第一驱动装置810。所述第一驱动装置810可以通过螺杆或者齿轮传动沿着所述基座100竖直运动。
请参见图17,在一个实施例中,所述样品杯800的底部可以设置第二驱动装置820。所述第二驱动装置820可以为伸缩杆。通过所述第二驱动装置820可以带动所述样品杯800沿着竖直方向运动。
在一个实施例中,所述研磨仪20还包括清洗装置10。所述清洗装置用于清洗所述研磨件300。
请参见图12,在一个实施例中,所述清洗装置10包括清洗杯110、旋转座114和清洗件120。所述清洗杯110包括壳体112,所述壳体设置有进水口150和出水口160。所述进水口150可以为所述清洗杯110的杯口。所述出水口160可以为清洗杯110的杯口,也可以设置于所述壳体112的底部,并通过管路将水导出。所述旋转座114设置于所述壳体112的底部。所述清洗件120设置于所述旋转座114,所述旋转座114用于带动所述清洗件120旋转,以使所述清洗件120刷洗所述研磨件300。
本实施例中,所述清洗装置10可以用于清洗所述研磨仪20中的研磨件300,所述研磨件300可以为研磨刀等。所述研磨仪20可以用以研磨水果、蔬菜、化学试剂等。当所述研磨件300使用完毕后,可以将所述研磨件300放在所述清洗杯110中。所述壳体112可以为立方体或者圆柱体等。所述清洗件120可以为清洗刷、喷水泵等。所述旋转座114可以通过电动机620带动。所述清洗件120旋转时能够多角度全方位对所述研磨件300清洗,达到快速清理所述研磨件300的目的。可以理解,所述旋转座114的上方可以为所述旋转座114和所述壳体112构成的空间。所述研磨件300可以放置于所述空间中清洗。
本申请实施例中,通过将所述研磨件300放置于所述壳体112中,然后通过所述旋转座114带动所述清洗件120旋转,对所述研磨件300全方位清洗,能够提高清洗效果和清洗效率。
在一个实施例中,可以是驱动装置200旋转带动所述驱动轴210和所述研磨件300旋转从而达到对所述研磨件300全方位清洗的目的,能够提高清洗效果和清洗效率。
在一个实施例中,所述清洗件120包括第一清洗架122。所述第一清洗架122设置于所述旋转座114的周缘。所述第一清洗架122靠近所述旋转座114轴线的一侧设置有毛刷124。所述旋转座114的旋转方向与所述研磨件300的旋转方向相反。可以理解,所述第一清洗架122远离所述旋转轴线114的一侧也设置有毛刷124。所述清洗架122靠近所述旋转座114的表面也可以设置有所述毛刷124,因此所述旋转座114带动所述第一清洗架122旋转时,所述第一清洗架122远离所述旋转轴线114的一侧的毛刷可以清洗所述壳体112的内壁。所述清洗架122靠近所述旋转座114的底部的毛刷可以清洗所述壳体112的底部。所述旋转座114的旋转方向与所述研磨件300的旋转方向相反,以便将缠绕在研磨件300上的纤维、筋膜等反向解缠绕,所述清洗件10在清洗毛刷过程中,同时清洗了所述壳体112,实现所述清洗件10的自清洁。
本实施例中,所述第一清洗架122可以为中空的圆柱结构。所述圆柱结构的直径可以与所述旋转座114的直径相同。所述圆柱结构的轴线可以与所述旋转座114的轴线重合。因此所述旋转座114可以带动所述清洗件120自转。所述旋转座114可以为齿轮,所述第一清洗架122的底部也可以设置齿轮,所述旋转座114底部的齿轮可以通过电机带动。因而通过齿轮啮合可以带动所述第一清洗架122旋转。所述毛刷124的长度可以不同。当所述研磨件300进入所述第一清洗架122后,所述第一清洗架122自转,并通过毛刷124清洗所述第一清洗架122。可以理解,所述研磨件300在研磨样品时会朝着一个方向转动。因此在研磨件300上会顺着旋转方向缠绕部分残骸。通过使所述研磨件300的旋转方向与所述研磨件300的旋转方向相反,可以使得缠绕在所述研磨件300上的残骸解旋,比如将缠绕在所述研磨件300上的纤维、筋膜等反向解缠绕。达到快速彻底清洗的目的。
请参见图13,在一个实施例中,所述清洗件120包括至少两个清洗柱126。所述至少两个清洗柱126间隔设置于所述旋转座114的边缘,所述清洗柱126的表面设置有毛刷124。本实施例中,所述清洗柱126可以为圆柱体结构。所述清洗柱126的设置位置可以根据所述研磨件300的形状调整。所述清洗柱126可以转动安装于所述旋转座114。因此所述清洗柱126可以自转,而所述旋转座114可以带动所述清洗柱126公转。通过所述清洗柱126上的所述毛刷124可以对所述研磨件300进行清洗,同时对所述壳体进行自清洁。每一个所述清洗柱126可以以相同或不同的速度、相同或不同的方向旋转,以达到更好的清洗效果。
在一个实施例中,所述清洗件120还包括旋转电机128。所述清洗柱126通过所述旋转电机128设置于所述旋转座114的边缘。通过所述旋转电机128可以带动所述清洗柱126自转。所述旋转座114可以带动所述清洗柱126绕着所述旋转座114的轴线公转。因此,所述清洗件120对所述研磨件300的清洗方式更为灵活多样,能够提高清洗效果和清洗效率。
在一个实施例中,所述壳体112的内壁设置有第三喷水口136和第四喷水口137。所述第三喷水口136和所述第四喷水口137可以沿着竖直方向间隔设置于所述壳体112的内壁。通过所述第三喷水口136和所述第四喷水口137可以向壳体112内喷射高压水,以清洗所述研磨件300。
请参见图14,在一个实施例中,所述清洗件120包括第二清洗架132和喷水装置130。所述第二清洗架132设置于所述旋转座114的周缘。所述喷水装置130设置于所述第二清洗架132。通过所述喷水装置130可以对深入所述第二清洗架132的研磨件300进行喷水清洗。所述喷水装置130包括第一喷水口134、第二喷水口134和清洗液出口138。所述第二清洗架132设置于所述旋转座114的周缘。所述第一喷水口134和所述第二喷水口136沿着竖直方向间隔设置于所述第二清洗架132。可以理解,所述第一喷水口134和所述第二喷水口132可以不再一条竖直线上。即所述第一喷水口134和所述第二喷水口132沿着重力方向的投影可以不重合。
所述在一个实施例中,所述清洗液出口138用于向所述研磨件喷射清洗液。在一个实施例中,所述清洗液出口138设置于所述第二清洗架132,并位于所述第一喷水口134和所述第二喷水口136之间。所述第二清洗架132可以为中空的圆柱结构。在竖直方向上,所述第一喷水口134和所述第二喷水口136之间可以为所述研磨件300的清洗区。所述第一喷水口134和所述第二喷水的喷射方向可以都朝向所述第一喷水口134和所述第二喷水口136在竖直方向的中部,因而可以集中对所述研磨件300进行清洗。所述第一喷水口134和所述第二喷水口136可以为高压喷水口。所述清洗液出口138可以喷射清洗剂。
在一个实施例中,所述研磨仪20还包括样品座400。所述样品座400位于所述输出轴210的下方。所述样品座400设置多个样品位410。所述驱动装置200用以带动所述输出轴210沿着竖直方向运动。所述输出轴210沿着竖直方向运动可以带动所述研磨件深入到位于所述样品为410中的样品杯对样品进行研磨。所述样品位410中可以设置不同的样品。
在一个实施例中,所述样品座400与所述基座100间隔设置,并位于所述输出轴210的下方。所述样品座400设置多个样品位410,且所述多个样品位410呈圆周排布于所述样品座400,所述样品座400用以带动所述多个样品位410旋转。所述驱动装置200用以带动所述输出轴210沿着竖直方向运动。
在一个实施例中,所述研磨件300包括第一研磨刀310和第二研磨刀320。所述第一研磨刀310和第二研磨刀320沿着所述输出轴210的轴线方向依次间隔设置于所述输出轴210。所述研磨件300可以包括所述旋转轴,所述旋转轴与所述输出轴传动连接,所述输出轴210可以带动所述旋转轴轴向旋转。所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320可以设置于所述旋转轴。且所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320可以交叉设置。
所述输出轴210可以带动所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320旋转。所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320交叉设置,因此所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320旋转时可以形成较大的研磨直径。所述样品座400可以设置于所述基座100的下方。所述样品位410可以用于放置样品杯。所述样品座400可以自转。即所述样品座400可以具有自转中心。所述多个样品位410可以设置于所述样品座400的四周。所述样品位410中放置的样品可以为肉类、果品、蔬菜等。所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320的长度可以为所述样品杯的半径。所述驱动装置200可以包括电机。通过电机可以带动丝杆或者气缸,因而可以带动所述输出轴210沿着竖直方向运动。
所述研磨仪20工作时,可以先确定需要研磨的样品。然后将所述样品位410旋转到所述输出轴210的正下方。所述样品位410旋转到所述输出轴210的正下方后,通过使得所述输出轴210下降至所述样品杯中并使得第一研磨刀310和所述第二研磨刀320与所述样品接触开始研磨。样品在被研磨后占用空间会变小。当一个所述样品位410中的样品被研磨后,可以使得所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320离开所述样品。然后可以清洗所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320。并驱动所述样品座400旋转,使得下个需要研磨的样品旋转至所述输出轴210的正下方,开始下一个研磨周期。当所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320使用完毕后,可以使用所述清洗装置10对所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320清洗。
在一个实施例中,所述样品座400设置有多个样品位410,所述多个样品位410呈圆周排布,所述样品座400用以带动所述多个样品座400旋转,根据需要可以将所述样品位410选择到所述输出轴210的正下方。通过所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320可以研磨该样品,并可以在研磨完一个样品后通过选择所述样品座400快速对下个样品研磨,大大提高了工作效率。
在一个实施例中,所述样品座400还包括至少一个清洗位。所述清洗位可以用以放置所述清洗装置10。所述清洗位与所述多个样品位410可以位于同一圆周。通过所述样品座400旋转可以带动所述清洗位旋转。当所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320需要清洗时,可以将所述清洗位旋转到所述输出轴210的下方,对所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320清洗。所述清洗位中可以放置清洗装置10。所述清洗装置10还可以包括超声波清洗装置10、洗刷装置等。
在一个实施例中,所述研磨仪20还包括旋转臂140。所述旋转臂140固定设置于所述基座100。所述旋转臂140的旋转半径在竖直方向的投影覆盖所述清洗装置10。所述驱动装置200设置于所述旋转臂140远离所述基座100的一端。所述旋转臂140可以带动所述驱动装置200旋转。当所述研磨件300工作完毕需要清洗时,通过所述旋转臂140旋转,可以将所述清洗件120带动到所述清洗装置10。通过所述驱动装置200可以带动所述研磨件300深入到所述清洗装置10中清洗。
在一个实施例中,所述研磨仪20还包括轨道610,所述基座100滑动设置于所述轨道610,所述清洗装置10设置于所述轨道610的延伸方向。
本实施例中,所述轨道610可以为直线轨道610。当所述研磨件300使用完毕后,通过所述轨道610可以带动所述基座100运动到所述清洗装置10。通过所述清洗装置10可以对使用后的所述研磨件300进行清洗。
在一个实施例中,所述研磨仪20可以设置多个所述驱动装置200和多个所述研磨件300。所述多个驱动装置200可以并排排列。所述样品位410可以为多个,且成排排列,所述清洗装置10也可以为多个对应成排排列,因此所述多个研磨件300可以同时对多个样品位410中的样品进行研磨,然后同时沿着所述轨道610运输到所述多个清洗装置10中分别清洗。
在一个实施例中,所述清洗装置10还可以包括清水清洗池、超声波清洗池和刷洗池。这些池中都可以设置所述清洗杯110,不同功能可以配合使用。所述清水清洗池可以用于盛放清水。所述超声波清洗池可以设置超声波发生器。
在一个实施例中,所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320可以依次通过刷洗池、超声波清洗池和清水清洗池清洗,通过刷洗池可以清除明显的污垢。通过所述声波清洗池可以对所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320彻底清洗。通过所述清水清洗池可以对所述第一研磨刀310和所述第二研磨刀320漂洗,所述清洗杯110在每个步骤中均可以起到提高清洗效率的功能。
请参见图15,在一个实施例中,所述第二研磨刀320远离所述输出轴210的一侧朝着背离重力的方向凹陷,所述第二研磨刀320靠近所述输出轴210的一侧朝着重力的方向凸起。所述第二研磨刀320相比于所述第一研磨刀310先接触样品杯中的样品。可以理解,所述研磨刀远离所述输出轴210的一端线速度较大,因此该部分的表面相对于所述样品的旋转速度快,通过使得所述第二研磨刀320远离所述输出轴210的一侧朝着背离重力的方向凹陷,可以使该侧凹陷部分距离所述样品液面具有一定缝隙。由于该侧相对所述样品的旋转速度快,因而在该部分所述第二研磨刀320与所述样品液面会形成气膜,通过气膜可以保护所述第二研磨刀320的表面,延长所述第二研磨刀320的使用寿命,且不会影响研磨效果。而在所述第二研磨刀320靠近所述输出轴210的一侧,由于所述第二研磨刀320的旋转角速度较慢,因此研磨效果不好,通过使得所述第二研磨刀320靠近所述输出轴210的一侧朝着重力的方向凸起,可以提高所述第二研磨刀320与所述样品的接触面积,因而可以提高研磨效果。
在一个实施例中,所述第一研磨刀310靠近所述输出轴210的一侧朝着背离重力的方向凹陷,所述第一研磨刀310远离所述输出轴210的一侧朝着重力的方向凸起。可以理解,经过所述第而研磨刀研磨后的样品会接触所述第一研磨刀310,经过所述第一研磨刀310研磨后的样品杯周边的样品的运动速率较慢,因此通过,所述第一研磨刀310远离所述输出轴210的一侧朝着重力的方向凸起可以提高与样品接触面积,提高研磨效果。而在所述第一研磨刀310靠近所述输出轴210的一侧,由于第二研磨刀320研磨该部分时接触面积大,基本没有气膜,因而经过所述第二研磨刀320研磨后的该部分样品速率较快,通过使得所述第一研磨刀310靠近所述输出轴210的一侧朝着背离重力的方向凹陷,可以使该部分样品和所述第一研磨刀310接触的部分产生气膜,保护所述第一研磨刀310的内侧不易被直接接触摩擦而损坏。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为本专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本申请的保护范围。因此,本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种研磨仪,其特征在于,包括:
基座(100);
驱动装置(200),设置于所述基座(100),所述驱动装置(200)具有输出轴(210),所述输出轴(210)设置有研磨件(300);
防溅盖(700),设置于所述驱动装置(200)或所述输出轴(210)或所述研磨件(300)或样品杯(800)。
2.如权利要求1所述的研磨仪,其特征在于,所述防溅盖(700)套设于所述驱动装置(200)或所述输出轴(210)或所述研磨件(300),所述防溅盖(700)的边缘间隔设置多个刮块(711)。
3.如权利要求1所述的研磨仪,其特征在于,所述防溅盖(700)套设于所述驱动装置(200)或所述输出轴(210)或所述研磨件(300),由所述输出轴(210)到所述防溅盖(700)的边缘,所述防溅盖(700)朝向背离重力方向的一侧倾斜。
4.如权利要求1所述的研磨仪,其特征在于,所述防溅盖(700)套设于所述驱动装置(200)或所述输出轴(210)或所述研磨件(300),由所述输出轴(210)到所述防溅盖(700)的边缘,所述防溅盖(700)朝向靠近重力方向的一侧倾斜。
5.如权利要求1所述的研磨仪,其特征在于,所述驱动装置(200)包括驱动壳体(220),所述输出轴(210)由所述驱动壳体(220)伸出,所述防溅盖(700)套设于所述驱动壳体(220),所述防溅盖(700)的边缘设置有喷射嘴(710),所述喷射嘴(710)可以与供气或者供水管道连接。
6.如权利要求5所述的研磨仪,其特征在于,所述防溅盖(700)包括上盖体(720)和下盖体(730),所述上盖体(720)和所述下盖体(730)之间包围形成容纳空间(740),所述容纳空间(740)内设置有喷射管路(750),所述喷射管路(750)与所述喷射嘴(710)连接。
7.如权利要求5所述的研磨仪,其特征在于,所述喷射嘴(710)的喷射方向与所述防溅盖(700)的倾斜方向一致。
8.如权利要求1所述的研磨仪,其特征在于,所述驱动装置(200)包括驱动壳体(220),所述输出轴(210)由所述驱动壳体(220)伸出,所述防溅盖(700)的中心具有通孔(760),所述通孔(760)与所述输出轴(210)间隙配合。
9.如权利要求1所述的研磨仪,其特征在于,所述驱动装置(200)设置有压力传感器(770)。
10.如权利要求1-9任一项所述的研磨仪,其特征在于,还包括清洗装置(10),用于清洗所述研磨件(300)。
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WO2023072160A1 (zh) * | 2021-10-26 | 2023-05-04 | 深圳灵感之茶科技有限公司 | 捶打机 |
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- 2019-05-11 CN CN201920770630.5U patent/CN210571621U/zh not_active Expired - Fee Related
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