CN111570350A - 一种离心装置 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种离心装置，所述离心装置包括支撑底座和至少一个离心组件。所述支撑底座设置容纳池。所述支撑底座可以设置于所述容纳池的底部。所述离心组件设置于所述支撑底座的边缘。所述支撑底座转动时，所述离心组件在离心力的作用下用于清洗进入所述容纳池的研磨刀。当所述研磨刀伸入到所述容纳池后，可以启动所述支撑底座旋转。在离心力的作用下，所述离心清洗元件可以靠近所述研磨刀，所述离心组件的毛刷可以清洗所述研磨刀，因此无需将所述研磨刀从均质器拆卸下清洗，且通过高速旋转的所述离心清洗元件清洗所述研磨刀可以快速将所述研磨刀上的残留样品去除，大大提高了清洗效率。

Description

一种离心装置

技术领域

本申请涉及清洗领域，特别是涉及一种离心装置。

背景技术

我国是农药和兽药使用大国，而最终农产品的农药残留和畜产品的兽药残留程度关系到百姓的食品健康安全。有效检测农药和兽药残留的前提是将待检测样品进行有效均质处理，而使用刀头的全自动均质器正是有效提高均质效果的产品。通常，在进行完一个均质处理流程后，均质器的研磨刀头上会附着难以自然脱落的杂质，如果刀头直接进行下一个均质处理流程，则存在较大可能污染后续样品的问题。因此均质器刀头需要在进行完每一次均质处理后都进行清洗，现有的去除均质器刀头上卡住的动植物组织的方式是主要依靠人工清理，需要设备停止运转后整体拆下均质器刀头，致使清理所花人工工时长，效率低下。

发明内容

针对上述问题，本申请提供一种离心装置。

一种离心装置包括：

支撑底座；以及

至少一个离心组件，设置于所述支撑底座的圆心以外的位置，所述支撑底座转动时，所述离心组件在离心力的作用下用于清洗或抛光靠近所述离心组件的待清洗物。

在一个实施例中，所述支撑底座包括旋转台，所述离心组件包括：

第一转动轴，设置于所述旋转台；

第一安装组件，用于安装清洗部件或者抛光部件，所述第一安装组件设置于所述旋转台一侧，所述第一安装组件与所述第一转动轴转动连接；以及

调位件，设置于所述旋转台的另外一侧，所述调位件与所述第一转动轴转动连接，所述调位件和所述第一安装组件相对固定，所述旋转台转动时，所述第一安装组件受到的离心力小于所述调位件受到的离心力。

在一个实施例中，所述调位件的重心和所述第一转动轴的重心的连线与所述第一安装组件的重心和所述第一转动轴的重心的连线不在同一条直线。

在一个实施例中，所述第一安装组件包括安装架和安装件，所述安装件包括所述清洗部件和/或抛光部件，所述清洗部件和/或所述抛光部件分别可拆卸设置于所述安装架靠近所述旋转台中心的一侧，所述安装架与所述第一转动轴转动连接，所述调位件和所述安装架相对固定。

在一个实施例中，所述离心组件还包括第二安装组件，所述第二安装组件用于安装清洗部件或者抛光部件，所述第二安装组件转动设置于所述旋转台，并与所述第一安装组件间隔设置于所述旋转台同一测，所述旋转台旋转时，所述第二安装组件朝向远离所述旋转台中心的方向倾斜。

在一个实施例中，还包括第二转动轴，设置于所述旋转台，并与所述第一转动轴间隔设置，所述第二安装组件与所述第二转动轴转动连接。

在一个实施例中，还包括驱动装置，所述驱动装置与所述旋转台连接，所述驱动装置用于驱动所述旋转台旋转。

在一个实施例中，所述支撑底座包括旋转台，所述离心组件包括：

第二安装组件，所述第二安装组件用于安装清洗部件或者抛光部件，所述第二安装组件转动设置于所述旋转台, 所述旋转台旋转时，所述第二安装组件朝向远离所述旋转台中心的方向倾斜。

在一个实施例中，所述离心组件包括：

第三安装组件，所述第三安装组件设置于所述旋转台的圆心以外的位置，用于安装清洗部件或者抛光部件；

滑动槽，由所述旋转台中心朝向所述旋转台的边缘延伸，所述第三安装组件滑动设置于所述滑动槽；

固定柱，设置于所述旋转台，并位于所述滑动槽远离所述第三安装组件的一侧；

第一弹性件，所述第一弹性件的两端分别与所述第三安装组件和所述固定柱连接。

一个实施例中，还包括容纳池，所述支撑底座设置于所述容纳池，所述容纳池的内壁设置有喷水口，所述容纳池的底面为倾斜面，所述倾斜面的最低点设置有排水孔。

本申请实施例提供的所述离心装置，当所述待清洗物或者待剖光物靠近所述容纳池后，可以启动所述支撑底座旋转。在离心力的作用下，所述离心组件可以靠近所述待清洗物或者所述待抛光物，所述离心组件可以清洗或者抛光所述待清洗物。所述待清洗物为研磨刀时，无需将所述研磨刀从均质器拆卸下清洗，且通过高速旋转的所述离心清洗元件清洗所述研磨刀可以快速将所述研磨刀上的残留样品去除，大大提高了清洗效率。

附图说明

图1为本申请实施例提供的离心装置示意图；

图2为本申请实施例提供的离心组件静止状态图；

图3为本申请实施例提供的离心组件转动状态图；

图4为本申请实施例提供的离心装置静止状态示意图；

图5为本申请实施例提供的离心装置转动状态示意图；

图6为本申请另一个实施例提供的离心装置转动状态示意图

图7为图1实施例提供的离心装置截面图；

图8为本申请实施例提供的离心装置俯视图；

图9为本申请实施例提供的离心装置剖面图

附图标记：

离心装置10

容纳池100

支撑底座200

旋转台210

离心组件300

第一转动轴310

第二转动轴312

第一安装组件320

第二安装组件326

安装架322

安装件324

调位件330

研磨刀400

驱动装置410

连接轴420

万向轴430

喷水口110

倾斜面120

排水孔140

清洗单元20

抽气孔130

管道440

第三安装组件510

滑动槽520

固定柱530

第一弹性件540。

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下通过实施例，并结合附图，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。

以下由特定的具体实施例说明本发明的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点及功效，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参见图1，本申请实施例提供一种离心装置10。所述离心装置10包括支撑底座200和至少一个离心组件300。所述支撑底座200可以用于设置于清洗设备或者抛光设备。在一个实施例中，所述支撑底座200可以设置于容纳池100的底部。所述容纳池可以容纳清洗后污水或者抛光产生的碎屑。

所述离心组件300设置于所述支撑底座200的位置圆心以外。所述支撑底座200转动时，所述离心组件300在离心力的作用下用于清洗或抛光靠近所述离心组件300的待清洗物或者待抛光物。所述离心组件300可以在围绕所述支撑底座200的中心旋转时，利用离心的原理，使得所述离心组件300靠近并清洗或者抛光位于所述支撑底座200中部的待清洗物或者待抛光物。可以理解，当所述离心组件300旋转时，所述离心组件300围绕所述支撑底座200旋转的路径形成一个腔形轮廓。所述待清洗物或者待抛光物进入所述腔形轮廓后，所述离心组件300可以对所述待清洗物或者待抛光物进行清洗。所述支撑底座200转动可以带动所述离心组件300旋转。

本申请实施例提供的所述离心装置10，当所述待清洗物或者待抛光物靠近所述离心组件300后，可以启动所述支撑底座200旋转。在离心力的作用下，所述离心组件300可以靠近所述待清洗物或者所述待抛光物，所述离心组件300可以安装清洗部件或者抛光部件以清洗或者抛光所述待清洗物。所述待清洗物为研磨刀400时，无需将所述研磨刀400从均质器拆卸下清洗，通过高速旋转的所述离心组件清洗所述研磨刀400可以快速将所述研磨刀400上的残留样品去除，大大提高了清洗效率。通过将所述离心组件的清洗部件更换为抛光部件，也可以进一步对所述研磨刀400进行抛光，可以对所述研磨刀400进一步清理。

在一个实施例中，所述离心组件300可以为多个，所述离心组件300可以等间隔设置于所述支撑底座200的周边。因此多个所述离心组件300在所述支撑底座200的带动下旋转时可以形成所述腔形轮廓。

在一个实施例中，所述支撑底座200包括旋转台210。所述离心组件300包括第一转动轴310、第一安装组件320和调位件330。所述第一转动轴310设置于所述旋转台210。所述第一转动轴310可以在所述旋转台210自转。所述旋转台210可以相对于所述容纳池100转动，进而带动所述离心组件300转动。所述第一安装组件320设置于所述旋转台210的一个表面。

在一个实施例中，所述第一安装组件320可以设置于所述旋转台210靠近所述容纳池100开口的表面。所述第一安装组件320用于安装清洗部件或者抛光部件。可以理解，所述清洗部件可以为毛刷。所述抛光部件可以为磨砂布等。

所述研磨刀400可以通过所述容纳池100的开口进入所述容纳池100。进而所述第一安装组件320可以清洗所述研磨刀400。所述第一安装组件320也可以抛光位于所述旋转台210中心的待抛光物，比如管道440等。

所述第一安装组件320与所述第一转动轴310转动连接。所述第一转动轴310的轴线可以与所述旋转台210所在的平面平行。因此所述第一安装组件320可以在竖直平面围绕所述第一转动轴310自由转动。所述调位件330设置于所述旋转台210远离所述容纳池100开口的一侧。即所述调位件330和所述第一安装组件320分别位于所述旋转台210的相对的两个表面。所述调位件330与所述第一转动轴310转动连接。因此所述调位件330可以在竖直平面转动。所述调位件330和所述第一安装组件320相对固定。即所述调位件330和所述第一安装组件320可以通过机械结构相对固定于所述第一转动轴310，也可以一体成型围绕所述第一转动轴310转动。所述旋转台210转动时，所述第一安装组件320受到的离心力小于所述调位件330受到的离心力。因此，所述旋转台210转动时，所述调位件330朝向远离所述旋转台210的中心方向倾斜，所述第一安装组件320朝向靠近所述旋转台210的中心方向倾斜。可以理解，此时所述第一安装组件320的重心到所述第一转动轴310的距离×所述第一安装组件320的重力小于所述调位件330的重心到所述第一转动轴310的距离×所述调位件330的重力。

因此，请参见图2-3，当所述旋转台210转动时，所述调位件330在水平方向的离心力会大于所述第一安装组件320在水平方向的离心力，因而迫使所述第一安装组件320做向心运动并贴合所述研磨刀400或待抛光物。可理解，所述待抛光物也可以为所述研磨刀400。所述调位件330在离心力的作用下会远离所述旋转台210的中心，而所述第一安装组件320会反向朝向所述旋转台210的中心倾斜，进而靠近并清洗所述研磨刀400，或者抛光所述待抛光物。

在一个实施例中，所述调位件330可以包括质量较大的金属球或者金属块重物。在清洗或者抛光完后，可以使得所述研磨刀400提升离开所述容纳池100。此时调位件330上的重物的重力力矩较大使得所述第一安装组件320朝向远离所述旋转台210的中心倾斜，所述第一安装组件320上的水或者抛光碎屑流下或落下。

在一个实施例中，所述调位件330的重心和所述第一转动轴310的重心的连线与所述第一安装组件320的重心和所述第一转动轴310的重心的连线不在同一条直线。因此，当所述旋转台210转动时，所述调位件330受到的离心力更大。进一步地，当所述旋转台210停止旋转时，可以保证所述调位件330回复到原来的位置。

在一个实施例中，所述第一安装组件320包括安装架322和安装件324。所述安装件324可以安装于所述安装架322。所述安装架322可以相对于所述第一转动轴310转动，进而带动所述安装件324转动。所述安装件324设置于所述安装架322靠近所述旋转台210中心的一侧，所述安装架322与所述第一转动轴310转动连接。因此所述安装架322靠近所述旋转台210中心时，所述安装件324可以靠近或者挤压所述研磨刀400，达到清洗或者抛光的目的。所述安装件324包括清洗部件和/或抛光部件。所述清洗部件和/或所述抛光部件分别可拆卸设置于所述安装架322靠近所述旋转台210中心的一侧。所述安装架322与所述第一转动轴310转动连接，所述调位件330和所述安装架322相对固定设置，即所述调位件330和所述安装架322可以刚性连接。

在一个实施例中，所述清洗部件可以为毛刷，所述毛刷的毛可以长短不一，软硬毛可以交替设置，进而可以便于清洗所述研磨刀400中的硬质或者软质的样品残留。所述清洗部件也可以为清洗布等。所述抛光部件也可以为砂布、尼龙布等抛光材料。

请参见图4和图5，在一个实施例中，还包括第二安装组件326。所述第二安装组件326用于安装清洗部件或者抛光部件。所述第二安装组件326转动设置于所述旋转台210，并与所述第一安装组件320间隔设置于所述旋转台210的同一侧。所述第二安装组件326用于安装所述清洗部件或者所述抛光部件。所述旋转台210旋转时，所述第二安装组件326朝向远离所述旋转台210中心的方向倾斜。所述第二安装组件326也可以安装清洗布等清洁材料或者砂布、尼龙布等抛光材料。

在一个实施中，所述旋转台210的中心的上方可以设置一个管道440。所述管道440可以为待抛光物。可以使得第一安装组件320位于所述管道440的外部，所述第二安装组件326位于所述管道440的内部。当所述旋转台210转动时，如上述实施例所述，第一安装组件320的质量小于所述调位件330的质量，因此，所述第一安装组件320可以靠近清洗或抛光所述管道440的外壁。同时，所述第二安装组件326可以转动设置于所述旋转台210。在离心力的作用下，所述第二安装组件326朝向远离所述旋转台210中心的方向倾斜，即所述第二安装组件326朝向所述旋转台210的边缘倾斜，因此所述第二安装组件326可以靠向所述管道440的内壁，从而对所述管道440的内壁完成抛光或者清洗。

请参见图6，在一个实施例中，所述离心组件300也可以仅包括所述第二安装组件326。所述第二安装组件326设置于所述旋转台210的圆心以外的位置。即在所述旋转台210可以仅设置有所述第二安装组件326而不包含所述第一安装组件320。可以将管道设置在所述旋转台210的中心位置，使得所述第二安装组件326位于所述管道内，当所述旋转台210旋转时，所述第二安装组件326朝向远离所述旋转台210中心的方向倾斜从而可以清洗或者抛光管道的内壁。

在一个实施例中，所述离心组件300的同一个平面也可以设置多个所述第二安装组件326。

在一个实施例中，在所述旋转台210相对的两个平面可以分别设置一个或者多个所述第二安装组件326。因此，当所述旋转台210转动时位于所述旋转台210两个平面的第二安装组件326可以同时清洗或者抛光两个物件，并且增加了清洗或者抛光面积 。当管道的直径大于所述旋转台210的直径时，所述管道可以套住所述旋转台210和所述第二安装组件326。因而所述旋转台210两个表面的所述第二安装组件326均可以对所述管道的内壁清洗或者抛光，从而加快了清洗或抛光的速率。进一步地，可以使得所述管道与所述旋转台210的轴向相对运动，进而可以提高清洗或者抛光的均匀程度。

在一个实施例中，还包括第二转动轴312。所述第二转动轴312设置于所述旋转台210的圆心以外的位置，并与所述第一转动轴310间隔设置。所述第二安装组件326与所述第二转动轴312转动连接。因此所述第二安装组件326可以围绕所述第二转动轴312自由转动。即当所述旋转台210转动时，所述第二安装组件326可以围绕所述第二转动轴312朝向旋转台210的边缘转动。所述第二转动轴和所述第一转动轴310的结构可以相同。因此可以在所述第二转动轴312和所述第一转动轴310根据需要替换所述第一安装组件和第二安装组件326，进行清洗或者抛光工作。

在一个实施例中，所述离心装置10还包括驱动装置410。所述驱动装置410与所述旋转台210连接。所述驱动装置410用于驱动所述旋转台210旋转。可以理解，所述驱动装置410可以为电机。

在一个实施例中，所述离心装置10还包括连接轴420。所述连接轴420的两端分别与所述旋转台210和所述驱动装置410连接。因此，所述驱动装置410驱动所述连接轴420旋转时，所述旋转台210可以随着所述连接轴420旋转。在一个实施例中，所述容纳池100的底部可以具有连通腔，所述连接轴420可以设置于所述连通腔。

在一个实施例中，所述离心装置10还包括万向轴430。所述万向轴430连接于所述驱动装置410和所述连接轴420之间。因此，所述驱动装置410与所述连接轴420可以不在一条直线上，便于布置所述驱动装置410的位置。可以节省空间。

在一个实施例中，所述连接轴420和所述旋转台210可拆卸连接。在一个实施例中，可以通过螺栓连接。

在一个实施例中，所述容纳池100的靠近底部的侧壁设置有喷水口110。所述喷水口110可以为多个，水平设置于所述容纳池100的侧壁。通过所述喷水口110可以喷射高压清洗液或者清水，可以在所述安装件324上的清洗部件清洗所述研磨刀400的同时对所述研磨刀400进行高压冲洗。在清洗过程中，所述研磨刀400可以在竖直方向往复运动，可以提高清洗效果。此外，所述喷水口110喷水也可以起到冷却的效果。避免所述研磨刀400和所述安装件324相互摩擦生热而造成损伤。可以理解，所述研磨刀400的清洗位置比较靠近所述容纳池100的底部，因此安装所述研磨刀400的机械臂需要位于所述容纳池100较深的位置，使得因喷出而飞溅的水会被机械臂外壳阻挡。而位置较低的喷水口110可以尽量减少水流飞溅出所述容纳池100的比例。

在一个实施例中，所述容纳池100的底面为倾斜面120，所述倾斜面120的最低点设置有排水孔140。因此，清洗后从所述研磨刀400清洗下的残留物可以从所述排水孔140排出，避免了所述容纳池100底部聚集残留物。

请参见图7，在一个实施例中，所述离心装置10还包括多个清洗单元20。所述多个清洗单元20间隔设置于所述容纳池100内。每个所述清洗单元20可以具有一种清洗模式，包括使用大量流水称清水清洗模式、有机溶剂清洗模式和超声波清洗模式等。因此所述均质器的研磨刀400可以根据需要依次在不同的清洗单元20中清洗，提高清洗的效果。每个所述清洗单元20可以占据所述容纳池100的一个区域。

请参见图8和图9，在一个实施例中，所述离心组件300包括第三安装组件510、滑动槽520、固定柱530和第一弹性件540。所述第三安装组件510设置于所述旋转台210的圆心以外的位置，用于安装清洗部件或者抛光部件。所述旋转台210开设有滑动槽520。所述滑动槽520可为多个。所述滑动槽520由所述旋转台210中心朝向所述旋转台210的边缘延伸。所述第三安装组件510可以在所述滑动槽520中自由滑动。可以根据需要在不同的所述滑动槽520中放置不同的所述第三安装组件510。所述固定柱530设置于所述旋转台210，并位于所述滑动槽520远离所述第三安装组件510的一侧。所述固定柱530也可以有多个。所述第一弹性件540的两端分别与所述第三安装组件510和所述固定柱530连接。当所述旋转台210转动时，在离心力的作用下，所述第三安装组件510会从沿着所述滑动槽520朝向所述旋转台210的边缘滑动，进而可以靠近待清洗或者待抛光物。当所述旋转台210停止转动后，所述第一弹性件540恢复长度，可以将所述第三安装组件510拉回到初始位置。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为本专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种离心装置，其特征在于，包括：

支撑底座（200）；以及

至少一个离心组件（300），设置于所述支撑底座（200）的圆心以外的位置，所述支撑底座（200）转动时，所述离心组件（300）在离心力的作用下用于清洗或抛光靠近所述离心组件（300）的待清洗物。

2.如权利要求1所述的离心装置，其特征在于，所述支撑底座（200）包括旋转台（210），所述离心组件（300）包括：

第一转动轴（310），设置于所述旋转台（210）；

第一安装组件（320），用于安装清洗部件或者抛光部件，所述第一安装组件（320）设置于所述旋转台（210）一侧，所述第一安装组件（320）与所述第一转动轴（310）转动连接；以及

调位件（330），设置于所述旋转台（210）的另外一侧，所述调位件（330）与所述第一转动轴（310）转动连接，所述调位件（330）和所述第一安装组件（320）相对固定，所述旋转台（210）转动时，所述第一安装组件（320）受到的离心力小于所述调位件（330）受到的离心力。

3.如权利要求2所述的离心装置，其特征在于，所述调位件（330）的重心和所述第一转动轴（310）的重心的连线与所述第一安装组件（320）的重心和所述第一转动轴（310）的重心的连线不在同一条直线。

4.如权利要求2所述的离心装置，其特征在于，所述第一安装组件（320）包括安装架（322）和安装件（324），所述安装件（324）包括所述清洗部件和/或抛光部件，所述清洗部件和/或所述抛光部件分别可拆卸设置于所述安装架（322）靠近所述旋转台（210）中心的一侧，所述安装架（322）与所述第一转动轴（310）转动连接，所述调位件（330）和所述安装架（322）相对固定。

5.如权利要求2-4任一项所述的离心装置，其特征在于，所述离心组件（300）还包括第二安装组件（326），所述第二安装组件（326）用于安装清洗部件或者抛光部件，所述第二安装组件（326）转动设置于所述旋转台（210），并与所述第一安装组件（320）间隔设置于所述旋转台（210）同一侧，所述旋转台（210）旋转时，所述第二安装组件（326）朝向远离所述旋转台（210）中心的方向倾斜。

6.如权利要求5所述的离心装置，其特征在于，还包括第二转动轴（312），设置于所述旋转台（210），并与所述第一转动轴（310）间隔设置，所述第二安装组件（326）与所述第二转动轴（312）转动连接。

7.如权利要求2所述的离心装置，其特征在于，还包括驱动装置（410），所述驱动装置（410）与所述旋转台（210）连接，所述驱动装置（410）用于驱动所述旋转台（210）旋转。

8.如权利要求1所述的离心装置，其特征在于，所述支撑底座（200）包括旋转台（210），所述离心组件（300）包括：

第二安装组件（326），所述第二安装组件（326）用于安装清洗部件或者抛光部件，所述第二安装组件（326）转动设置于所述旋转台（210）, 所述旋转台（210）旋转时，所述第二安装组件（326）朝向远离所述旋转台（210）中心的方向倾斜。

9.如权利要求2所述的离心装置，其特征在于，所述离心组件（300）包括：

第三安装组件（510），所述第三安装组件（510）设置于所述旋转台（210）的圆心以外的位置，用于安装清洗部件或者抛光部件；

滑动槽（520），由所述旋转台（210）中心朝向所述旋转台（210）的边缘延伸，所述第三安装组件（510）滑动设置于所述滑动槽（520）；

固定柱（530），设置于所述旋转台（210），并位于所述滑动槽（520）远离所述第三安装组件（510）的一侧；

第一弹性件（540），所述第一弹性件（540）的两端分别与所述第三安装组件（510）和所述固定柱（530）连接。

10.如权利要求1所述的离心装置，其特征在于，还包括容纳池（100），所述支撑底座（200）设置于所述容纳池（100），所述容纳池（100）的内壁设置有喷水口（110），所述容纳池（100）的底面为倾斜面（120），所述倾斜面（120）的最低点设置有排水孔（140）。

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