CN210566232U - 一种晶圆蚀刻设备移动机构密封装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型揭示了一种晶圆蚀刻设备移动机构密封装置,包括至少两块挡片,挡片相互层叠设置,位于最内层的挡片与晶圆蚀刻设备的机壳外壁固定连接,每块挡片上均设有条形孔,最内层挡片上的条形孔长度不小于升降杆的移动距离,最外层挡片上的条形孔与升降杆的形状适应设置,各层挡片的长度以及挡片上条形孔的长度在由内至外的方向上依次递减,以使随升降杆上下移动的过程中外层挡片始终完全遮挡相邻内层挡片上的条形孔,最内层的挡片底部还固定设有承托片;除最内层挡片外的所有挡片内侧面上均沿边缘设有磁条,以使相邻的挡片紧贴吸合。本实用新型结构简单,制造成本低,具有占用空间小,无易损件,使用寿命长,运行平稳,安装方便的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体生产技术领域,具体涉及一种晶圆蚀刻设备移动机构密封装置。
背景技术
如图1至2所示,晶圆蚀刻设备是半导体生产过程中常见的设备,包括机壳4,机壳4内部形成有蚀刻腔室(未图示),蚀刻腔室内设有蚀刻功能机构(未图示),通过腐蚀性溶液对晶圆进行蚀刻处理,由于蚀刻腔室内充满腐蚀性气体,所以用于驱动蚀刻功能机构上下升降的移动机构主体部分设置在机壳4外,仅仅通过升降杆6伸入蚀刻腔室中与蚀刻功能机构连接,机壳4上开设有供升降杆活动的导向槽,密封装置设置在导向槽处进行移动密封,防止蚀刻腔室内的腐蚀性气体从导向槽外泄。
现有的晶圆蚀刻设备移动机构密封装置为卷轴式,包括固定在导向槽上端的上卷轴9和导向槽下端的下卷轴10,上、下卷轴之间设有密封软带11,升降杆6穿过密封软带11上的通孔设置,如图1所示当升降杆6向上移动时,上卷轴9收、下卷轴10放,如图2所示当升降杆6向下移动时,上卷轴9放,下卷轴10收。
现有晶圆蚀刻设备移动机构密封装置的缺点在于:
1、上卷轴9、下卷轴10占用空间大;
2、上卷轴9、下卷轴10中的卷簧寿命有限且密封软带11在使用过程中容易变形、破损,使用寿命较短。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种晶圆蚀刻设备移动机构密封装置。
为实现上述实用新型目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种晶圆蚀刻设备移动机构密封装置,包括至少两块挡片,所述挡片相互层叠设置,位于最内层的挡片与晶圆蚀刻设备的机壳外壁固定连接,每块所述挡片上均设有条形孔,最内层挡片上的条形孔长度不小于升降杆的上下移动距离,最外层挡片上的条形孔与升降杆的形状适应设置,各层挡片的长度以及挡片上条形孔的长度在由内至外的方向上依次递减,以使晶圆蚀刻设备移动机构密封装置随升降杆上下移动的过程中外层挡片始终完全遮挡相邻内层挡片上的条形孔,最内层的挡片底部还固定设有承托片;
除最内层挡片外的所有挡片内侧面上均沿边缘设有磁条,以使相邻的挡片紧贴吸合。
作为本实用新型进一步改进的技术方案,所述挡片由能被磁条吸合的不锈钢材料制成。
作为本实用新型进一步改进的技术方案,所述磁条嵌入设置在挡片上,以使磁条内侧面与挡片内侧面平齐。
相对于现有技术,本实用新型的技术效果在于:
本实用新型结构简单,制造成本低,具有占用空间小,无易损件,使用寿命长,运行平稳,安装方便的优点。
附图说明
图1是升降杆位于最低处时现有技术中晶圆蚀刻设备移动机构密封装置的结构示意图;
图2是升降杆位于最高处时现有技术中晶圆蚀刻设备移动机构密封装置的结构示意图;
图3是本实用新型实施方式中晶圆蚀刻设备移动机构密封装置的立体结构示意图;
图4是本实用新型实施方式中晶圆蚀刻设备移动机构密封装置的拆分结构示意图;
图5是升降杆位于最高处时本实用新型实施方式中晶圆蚀刻设备移动机构密封装置的结构示意图;
图6是升降杆位于中间位置时本实用新型实施方式中晶圆蚀刻设备移动机构密封装置的结构示意图;
图7是升降杆位于最低处时本实用新型实施方式中晶圆蚀刻设备移动机构密封装置的结构示意图。
具体实施方式
以下将结合附图所示的具体实施方式对本实用新型进行详细描述。但这些实施方式并不限制本实用新型,本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。
以下提供本实用新型的一种实施方式:
请参见图3至7,一种晶圆蚀刻设备移动机构密封装置,包括第一挡片1、第二挡片2、第三挡片3,第一挡片1、第二挡片2、第三挡片3相互层叠设置,位于最内层的第三挡片3与晶圆蚀刻设备的机壳4外壁固定连接,第一挡片1、第二挡片2、第三挡片3上均设有条形孔5,第三挡片3上的条形孔5长度不小于升降杆6的上下移动距离,最外层第一挡片1上的条形孔5与升降杆6的形状适应设置,第一挡片1、第二挡片2、第三挡片3的长度以及第一挡片1、第二挡片2、第三挡片3上条形孔5的长度在由内至外的方向上依次递减(靠近机壳4为内,远离机壳4为外),以使晶圆蚀刻设备移动机构密封装置随升降杆6上下移动的过程中第一挡片1始终完全遮挡第二挡片2上的条形孔5,第二挡片2始终完全遮挡第三挡片3上的条形孔5,第三挡片3底部还固定设有承托片8(承托片8的作用在于升降杆6下移过程中,承托支撑除最外层挡片和最内层挡片外的其它与升降杆6分离的中间层挡片);
第一挡片1、第二挡片2的内侧面上均沿边缘设有磁条7,以使第一挡片1和第二挡片2紧贴吸合,第二挡片2和第三挡片3紧贴吸合。
在本实施方式中第一挡片1、第二挡片2、第三挡片3由能被磁条7吸合的不锈钢材料制成。
在其它实施方式中第一挡片1、第二挡片2、第三挡片3还可以由能被磁条7吸合的不锈钢材料和塑料材料层叠复合制成,塑料材料位于内侧,不锈钢材料位于外侧。
需要说明的是,不锈钢材料和塑料材料层叠复合制成的材料为现有材料。
实际使用过程中根据进行蚀刻的腐蚀性溶液类型选择挡片材料,避免挡片被腐蚀。
在本实施方式中所述磁条7嵌入设置在第一挡片1、第二挡片2上,以使磁条7内侧面与第一挡片1或第二挡片2内侧面平齐。
升降杆6穿过第一挡片1、第二挡片2、第三挡片3上的条形孔5设置并由机壳4上的导向槽伸入蚀刻腔室中,请参见图5,升降杆6位于最高处时,第一挡片1、第二挡片2挂在升降杆6上,升降杆6下移的过程中第二挡片2在自重作用下下落,最终落在承托片8上(图6所示),升降杆6继续下移,第一挡片1底部搭接在承托片8上,此时升降杆6位于最低处(图7所示),升降杆6移动过程中,第一挡片1始终完全遮挡第二挡片2上的条形孔5,第二挡片2始终完全遮挡第三挡片3上的条形孔5,防止蚀刻腔室内的腐蚀性气体从导向槽外泄。
相对于现有技术,本实用新型的技术效果在于:
本实用新型结构简单,制造成本低,具有占用空间小,无易损件,使用寿命长,运行平稳,安装方便的优点。
最后应说明的是:以上实施方式仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施方式对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施方式所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施方式技术方案的精神和范围。
Claims (3)
1.一种晶圆蚀刻设备移动机构密封装置,其特征在于,包括至少两块挡片,所述挡片相互层叠设置,位于最内层的挡片与晶圆蚀刻设备的机壳外壁固定连接,每块所述挡片上均设有条形孔,最内层挡片上的条形孔长度不小于升降杆的上下移动距离,最外层挡片上的条形孔与升降杆的形状适应设置,各层挡片的长度以及挡片上条形孔的长度在由内至外的方向上依次递减,以使晶圆蚀刻设备移动机构密封装置随升降杆上下移动的过程中外层挡片始终完全遮挡相邻内层挡片上的条形孔,最内层的挡片底部还固定设有承托片;
除最内层挡片外的所有挡片内侧面上均沿边缘设有磁条,以使相邻的挡片紧贴吸合。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆蚀刻设备移动机构密封装置,其特征在于,所述挡片由能被磁条吸合的不锈钢材料制成。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆蚀刻设备移动机构密封装置,其特征在于,所述磁条嵌入设置在挡片上,以使磁条内侧面与挡片内侧面平齐。
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- 2019-09-24 CN CN201921596150.8U patent/CN210566232U/zh active Active
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