CN210001801U - 一种光气化生产异氰酸酯装置的除水系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种光气化生产异氰酸酯装置的除水系统，包括：吸收塔塔釜与粗溶剂缓冲罐、溶剂精制塔上部依次连接，溶剂精制塔塔釜与溶剂储罐连接；光气化反应器的顶部与吸收塔塔釜连接；光气化反应器塔釜与脱光气塔中部连接，脱光气塔和溶剂精制塔的顶部分别与脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器连接，该冷却器与脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐连接，该气液分离罐底部与溶剂精制塔上部连接，顶部与吸收塔塔釜连接，并设置排水管；脱光气塔塔釜与溶剂脱除塔上部连接，溶剂脱除塔的顶部与溶剂脱除塔顶冷却器连接，该冷却器与溶剂脱除塔顶气液分离罐连接，该气液分离罐底部与溶剂储罐连接，顶部与吸收塔塔釜连接。
Description
技术领域
本实用新型属于化工领域，涉及一种生产装置除水系统，具体的涉及一种光气化生产异氰酸酯装置的除水系统。
背景技术
异氰酸酯广泛应用于家电、汽车、建筑、鞋业、家具、胶粘剂等行业。现有工业化生产异氰酸酯产品主要采用伯胺光气化法生产：首先使氯气和一氧化碳反应生成光气，其次使光气与有机胺在溶剂中反应生成异氰酸酯和氯化氢，再次将异氰酸酯和氯化氢从溶剂中分离出来。
光气化生产异氰酸酯装置的反应器、储槽、塔器等在高温高压下工作，存在因设备腐蚀而诱发中毒事故和火灾爆炸事故等风险，而系统中水分的存在是设备腐蚀最主要的原因。
由于异氰酸酯结构中含有不饱和键，因此具有高活性，与水反应生成胺和二氧化碳，胺进一步与异氰酸酯反应生成脲，造成异氰酸酯产品损失与质量下降。
光气化生产异氰酸酯装置在正常生产时，不易引入水分。水分主要是在停车后，设备打开检修等过程中引入系统。为了保证在光气进入装置时，装置水分能达到合理范围，满足生产要求，光气化生产异氰酸酯装置在开车初期必须采取方法降低系统中水分含量。
专利CN104311454A中公开了一种丙烯酸酯类化工产品用除水装置，该专利通过升华塔、冷凝器与与油水分离罐联合使用脱除副产物水，该专利未对油水分层效果及排水方法进行描述，未对整套装置系统排水进行描述，且升华塔采用填料塔，需要将甲苯溶液用泵输送回升华塔对填料进行洗涤，浪费能源。
尚未发现有技术文献公开异氰酸酯装置除水系统，因此，针对目前光气化生产异氰酸酯装置除水存在的问题，需要开发一种高效的光气化生产异氰酸酯装置除水系统。
实用新型内容
本实用新型目的是克服现有技术不足，提供一种光气化生产异氰酸酯装置的除水系统。在光气化生产异氰酸酯装置开车初期，使用溶剂在除水系统中运转，将系统中残留的水分溶解在溶剂中，溶剂回收利用，水分富集外排。既有效除去系统内的水分，满足生产要求，又高效节能，从而为装置争取更多的生产时间，提高装置运转率。
为了达到以上目的，本实用新型采用如下技术方案：
一种光气化生产异氰酸酯装置的除水系统，包括：吸收塔1、光气化反应器 2、光气化反应器塔釜再沸器10、脱光气塔3、脱光气塔釜再沸器11、溶剂脱除塔4、溶剂脱除塔釜再沸器12、溶剂脱除塔顶冷却器15、溶剂脱除塔顶气液分离罐8、粗溶剂缓冲罐6、溶剂精制塔5、溶剂精制塔釜再沸器13、脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14、脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9、溶剂储罐7；
吸收塔1上部设置吸收塔溶剂进料管16，吸收塔1塔釜底部通过液相管线与粗溶剂缓冲罐6连接，粗溶剂缓冲罐6与溶剂精制塔5上部连接，溶剂精制塔5的顶部通过气相管线与脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14连接，
溶剂精制塔5塔釜底部通过液相管线与溶剂储罐7连接；
光气化反应器2上部设置光气化反应器溶剂进料管17，光气化反应器2的顶部通过气相管线与吸收塔1塔釜连接；
光气化反应器2塔釜底部通过液相管线与脱光气塔3中部连接，脱光气塔3 的顶部通过气相管线与脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14连接，脱光气塔3塔釜底部通过液相管线与溶剂脱除塔4上部连接，溶剂脱除塔4的顶部通过气相管线与溶剂脱除塔顶冷却器15连接，溶剂脱除塔顶冷却器15与溶剂脱除塔顶气液分离罐8连接，溶剂脱除塔顶气液分离罐8底部通过液相管线与溶剂储罐7 连接，溶剂脱除塔顶气液分离罐8顶部通过气相管线与吸收塔1塔釜连接；
脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14与脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐 9连接，脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9底部通过液相管线与溶剂精制塔 5上部连接，脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9顶部通过气相管线与吸收塔 1塔釜连接，脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9设置排水管19；
吸收塔1的顶部设置尾气排放管18。
本实用新型所述的光气化反应器2、脱光气塔3、溶剂脱除塔4和溶剂精制塔5的塔釜分别安装再沸器，用于将相应塔底液相加热后循环回塔底。其中，光气化反应器2底部安装光气化反应器塔釜再沸器10。脱光气塔3的底部安装脱光气塔釜再沸器11。溶剂脱除塔4底部安装溶剂脱除塔釜再沸器12。溶剂精制塔5底部安装溶剂精制塔釜再沸器13。
作为优选的方案，本实用新型所述的溶剂储罐7通过管线与吸收塔溶剂进料管16和/或光气化反应器溶剂进料管17连接，任选的在溶剂储罐7与吸收塔溶剂进料管16和/或光气化反应器溶剂进料管17连接的管线上设置冷却器。
一种利用本实用新型所述的系统除水的工艺，包括以下步骤；
从吸收塔溶剂进料管16向吸收塔1中加入溶剂，从吸收塔1塔釜底部去往粗溶剂缓冲罐6；粗溶剂缓冲罐6的溶剂进入溶剂精制塔5上部，溶剂精制塔5 的顶部气相经过脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14冷凝后进入脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9；溶剂精制塔5塔釜底部采出液相进入溶剂储罐7；
从光气化反应器溶剂进料管17向光气化反应器2加入溶剂，光气化反应器 2的顶部气相进入吸收塔1塔釜，光气化反应器2的塔釜底部液相进入脱光气塔 3中部；
脱光气塔3塔顶气相经过脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14冷凝后进入脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9；
脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9中得到气相和液相，所得气相进入吸收塔1塔釜，所得液相进入溶剂精制塔5上部，水在脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9中富集、分层，通过排水管19排出；
脱光气塔3塔釜底部采出液相进入溶剂脱除塔4上部，溶剂脱除塔4的顶部气相经过溶剂脱除塔顶冷却器15冷凝后进入溶剂脱除塔顶气液分离罐8得到气相和液相，所得气相进入吸收塔1塔釜，所得液相进入溶剂储罐7；
尾气从尾气排放管18排出。
本实用新型所述溶剂储罐7中的溶剂可以作为溶剂提供给吸收塔溶剂进料管16和/或光气化反应器溶剂进料管17。
本实用新型中，所述溶剂选自间苯二甲酸二乙酯、苯、甲苯、二甲苯、氯苯和邻二氯苯中的一种或多种，优选为氯苯和邻二氯苯，更优选为氯苯。
本实用新型中，所述溶剂中水分含量为0-0.400wt％，优选0-0.0300wt％。
本实用新型中，所述溶剂的温度为10-60℃，优选20-50度，更优选为 30-40℃。
本实用新型中，所述吸收塔1的表压为100-150KPa，优选100-130KPa，更优选100-110KPa。
本实用新型中，所述光气化反应器2的表压为100-150KPa，优选100-130KPa，更优选100-110KPa；所述光气化反应器2的塔釜温度为130-170℃，优选 140-160℃，更优选150-160℃。
本实用新型中，所述脱光气塔3的表压为100-150KPa，优选100-130KPa，更优选100-110KPa；所述脱光气塔3的塔釜温度为130-170℃，优选140-160℃，更优选150-160℃。
本实用新型中，所述溶剂脱除塔4的表压为20-80KPa，优选30-70KPa，更优选40-60KPa；所述溶剂脱除塔4的塔釜温度为100-150℃，优选110-140℃，更优选120-130℃。
本实用新型中，所述溶剂精制塔5的表压为100-150KPa，优选100-130KPa，更优选100-110KPa；所述溶剂精制塔5的塔釜温度为130-180℃，优选140-170℃，更优选150-160℃。
本实用新型中，所述脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14中的冷凝液相温度为50-100℃，优选60-90℃，更优选70-80℃。
本实用新型中，所述溶剂脱除塔顶冷却器15中的冷凝液相温度为50-100℃，优选60-90℃，更优选70-80℃。
本实用新型所述的吸收塔、光气化反应器、脱光气塔、溶剂脱除塔、溶剂精制塔可以是本领域公知的设备。
优选的，本实用新型所述吸收塔为填料塔；本实用新型所述光气化反应器为板式塔；本实用新型所述脱光气塔为板式塔；本实用新型所述溶剂脱除塔为板式塔；本实用新型所述溶剂精制塔为板式塔。
本实用新型的除水系统以及除水工艺适用于光气化法制备异氰酸酯的反应装置中，所述异氰酸酯包括但不限于甲苯二异氰酸酯(TDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)、二苯基甲烷二异氰酸酯(MDI)、二环己基甲烷二异氰酸酯(HMDI)、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)等。
在光气化生产异氰酸酯的工艺中，吸收塔1用于吸收光气化反应器2排气中的光气；光气化反应器2用于进行光气化反应；脱光气塔3用于脱除光气化反应后的混合液中的光气；溶剂脱除塔4用于脱除光气化反应后的混合液中的溶剂；溶剂精制塔5用于将含有杂质的溶剂进行精制；粗溶剂缓冲罐6用于系统中脱除出来的含有杂质的溶剂的缓冲罐；溶剂储罐7用于储存精制合格后的溶剂。
本实用新型所述的除水工艺可以和本领域公知的其它除水工艺相结合使用，包括但不限于氮气吹扫。作为一个优选的方案，可以先进行氮气吹扫，然后再采用本实用新型所述的除水工艺进一步除水。
采用本实用新型所述的除水工艺处理后的光气化生产异氰酸酯装置中，水分质量含量能达到100ppm以下，以粗溶剂缓冲罐6内的溶剂中的水分含量代表装置中水分含量。
本实用新型的除水系统和工艺特别适用于除去光气化生产异氰酸酯装置打开检修等过程中引入系统中的水，提高开车效率。本实用新型中溶剂运转除水快速、高效，特别是在溶剂运转工艺路线选择上，采取将系统上游溶剂以最短路线输送至下游溶剂精制塔，避免下游含水溶剂返回上游系统，除水合格溶剂直接送入合格溶剂储罐的原则，极大程度地简化了工艺路线，缩短了溶剂运转时间，提高效率。
附图说明
图1是本实用新型除水系统的示意图；
1.吸收塔；2.光气化反应器；3.脱光气塔；4.溶剂脱除塔；5.溶剂精制塔；6. 粗溶剂缓冲罐；7溶剂储罐；8.溶剂脱除塔顶气液分离罐；9.脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐；10.光气化反应器塔釜再沸器；11.脱光气塔釜再沸器；12. 溶剂脱除塔釜再沸器；13.溶剂精制塔釜再沸器；14.脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器；15.溶剂脱除塔顶冷却器；16.吸收塔溶剂进料管；17.光气化反应器溶剂进料管；18.尾气排放管；19.排水管。
具体实施方式
下面的实施例将对将对本实用新型所提供的系统予以进一步的说明，但本实用新型不限于所列出的实施例，还应包括在本实用新型的权利要求范围内其他任何公知的改变。
在本实用新型中，需要理解的是，术语“上”、“顶”、“底”、“中”等指示的位置关系为基于附图所示的位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的位置、以特定的位置构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
实施例1
如图1所示的用于光气化生产异氰酸酯装置的除水系统，其包括：吸收塔1、光气化反应器2、光气化反应器塔釜再沸器10、脱光气塔3、脱光气塔釜再沸器 11、溶剂脱除塔4、溶剂脱除塔釜再沸器12、溶剂脱除塔顶冷却器15、溶剂脱除塔顶气液分离罐8、粗溶剂缓冲罐6、溶剂精制塔5、溶剂精制塔釜再沸器13、脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14、脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9、溶剂储罐7；
吸收塔1上部设置吸收塔溶剂进料管16，吸收塔1塔釜底部通过液相管线与粗溶剂缓冲罐6连接，粗溶剂缓冲罐6与溶剂精制塔5上部连接，溶剂精制塔5的顶部通过气相管线与脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14连接，
溶剂精制塔5塔釜底部通过液相管线与溶剂储罐7连接；
光气化反应器2上部设置光气化反应器溶剂进料管17，光气化反应器2的顶部通过气相管线与吸收塔1塔釜连接；
光气化反应器2塔釜底部通过液相管线与脱光气塔3中部连接，脱光气塔3 的顶部通过气相管线与脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14连接，脱光气塔3塔釜底部通过液相管线与溶剂脱除塔4上部连接，溶剂脱除塔4的顶部通过气相管线与溶剂脱除塔顶冷却器15连接，溶剂脱除塔顶冷却器15与溶剂脱除塔顶气液分离罐8连接，溶剂脱除塔顶气液分离罐8底部通过液相管线与溶剂储罐7 连接，溶剂脱除塔顶气液分离罐8顶部通过气相管线与吸收塔1塔釜连接；
脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14与脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐 9连接，脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9底部通过液相管线与溶剂精制塔 5上部连接，脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9顶部通过气相管线与吸收塔 1塔釜连接，脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9设置排水管19；
吸收塔1的顶部设置尾气排放管18。
光气化反应器2、脱光气塔3、溶剂脱除塔4和溶剂精制塔5的塔釜分别安装再沸器，用于将相应塔底液相循环回塔底。其中，光气化反应器2底部安装光气化反应器塔釜再沸器10。脱光气塔3的底部安装脱光气塔釜再沸器11。溶剂脱除塔4底部安装溶剂脱除塔釜再沸器12。溶剂精制塔5底部安装溶剂精制塔釜再沸器13。
主要设备容量参数如下：
吸收塔1：尺寸φ1800mm×30225mm，塔釜容量9m3；
光气化反应器2：尺寸φ5200mm×38350mm，塔釜容量70m3；
脱光气塔3：尺寸φ2200mm×25650mm，塔釜容量10m3；
溶剂脱除塔4：尺寸φ5200mm×15350mm，塔釜容量17m3；
溶剂精制塔5：尺寸φ3000mm×26080mm，塔釜容量12m3；
粗溶剂缓冲罐6：尺寸φ2500mm×5590mm，容量24m3；
溶剂储罐7：尺寸φ3500mm×8013mm，容量70m3。
实施例2
本实施例为使用实施例1的除水系统，用于光气化生产异氰酸酯装置的除水工艺。进溶剂前，常压下，系统使用氮气吹扫干燥至露点为-40℃。
溶剂为氯苯，氯苯中水分含量为0.0125wt％，基于溶剂的质量，温度为30℃。
吸收塔1为填料塔，塔顶操作压力为表压100KPa。
光气化反应器2的塔顶操作压力为表压110KPa，塔釜操作温度为130℃。
脱光气塔3操作压力为表压110KPa，塔釜操作温度150℃，塔顶冷凝液相为70℃。
溶剂脱除塔4操作压力为表压50KPa，塔釜操作温度为130℃，塔顶冷凝液相温度为80℃。
溶剂精制塔5操作压力为表压102KPa，塔釜温度为160℃。塔顶冷凝液相温度为70℃。
从吸收塔溶剂进料管16向吸收塔1中加入氯苯，进料量约20m3/h，从吸收塔1塔釜底部输送至粗溶剂缓冲罐6。
从光气化反应器溶剂进料管17向光气化反应器2加入氯苯，进料量约80m3/h，光气化反应器2塔顶气相进入吸收塔1塔釜，光气化反应器2的塔底液相进入脱光气塔3中部。
脱光气塔3塔顶气相经过脱光气塔和溶剂精制塔顶冷凝器14冷凝后进入脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9中；脱光气塔3塔釜液相进入溶剂脱除塔4 上部。
溶剂脱除塔4的塔顶气相经过溶剂脱除塔顶冷却器15冷凝后进入溶剂脱除塔顶气液分离罐8得到气相和液相，所得气相进入吸收塔1塔釜，液相进入溶剂储罐7。
粗溶剂缓冲罐6的溶剂进入溶剂精制塔5上部，溶剂精制塔5塔顶气相经过脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14冷凝后进入脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9中；
脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9中进行气液分离得到气相和液相，所得气相进入吸收塔1塔釜；待溶剂精制塔5运转稳定后，脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9中的液相中所含的水分富集、分层，每隔2小时通过排水管19排一次水，每次以1m3/h流量排0.5小时，间歇将分层后的水排出系统，从而降低系统内水分。溶剂精制塔5塔釜液相送往溶剂储罐7。
尾气从尾气排放管18排出。
在此方法下运转，从溶剂精制塔5运转(温度、压力)稳定时开始计时，监控粗溶剂缓冲罐6中氯苯的水分质量含量降低至100ppm(粗溶剂缓冲罐氯苯达标)时，系统排水用时如表1所示。
实施例3
本实施例为使用实施例1的除水系统，用于光气化生产异氰酸酯装置的除水工艺。进溶剂前，常压下，系统使用氮气吹扫干燥至露点为-40℃。
溶剂为氯苯，氯苯中水分含量为0.0270wt％，基于溶剂的质量，温度为30℃。
吸收塔1为填料塔，塔顶操作压力为表压120KP。
光气化反应器2的塔顶操作压力为表压130KPa，塔釜操作温度为150℃
脱光气塔3操作压力为表压130KPa，塔釜操作温度165℃，塔顶冷凝液相为80℃。
溶剂脱除塔4操作压力为表压30KPa，塔釜操作温度为110℃，塔顶冷凝液相温度为80℃。
溶剂精制塔5操作压力表压130KPa，塔釜温度为170℃，塔顶冷凝液相温度为80℃。
从吸收塔溶剂进料管16向吸收塔1中加入氯苯，进料量约20m3/h，从吸收塔1塔釜底部输送至粗溶剂缓冲罐6。
从光气化反应器溶剂进料管17向光气化反应器2加入氯苯，进料量约80m3/h，光气化反应器2塔顶气相进入吸收塔1塔釜，光气化反应器2的塔底液相进入脱光气塔3中部。
脱光气塔3塔顶气相经过脱光气塔和溶剂精制塔顶冷凝器14冷凝后进入脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9中；脱光气塔3塔釜液相进入溶剂脱除塔4 上部。
溶剂脱除塔4的塔顶气相经过溶剂脱除塔顶冷却器15冷凝后进入溶剂脱除塔顶气液分离罐8得到气相和液相，所得气相进入吸收塔1塔釜，液相进入溶剂储罐7。
粗溶剂缓冲罐6的溶剂进入溶剂精制塔5上部，溶剂精制塔5塔顶气相经过脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器14冷凝后进入脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9中；
脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9中进行气液分离得到气相和液相，所得气相进入吸收塔1塔釜；待溶剂精制塔5运转稳定后，脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐9中的液相中所含的水分富集、分层，每隔2小时通过排水管19排一次水，每次以1m3/h流量排0.5小时，间歇将分层后的水排出系统，从而降低系统内水分。溶剂精制塔5塔釜液相送往溶剂储罐7。
尾气从尾气排放管18排出。
在此方法下运转，从溶剂精制塔5运转(温度、压力)稳定时开始计时，监控粗溶剂缓冲罐6中氯苯的水分质量含量降低至100ppm(粗溶剂缓冲罐氯苯达标)时，系统排水用时如表1所示。
具体实施例方式中，溶剂中水分含量采用卡尔费休水分测定仪测定。
表1实施例及对比例结果
从表1可以看出，本实用新型方法能快速、高效降低光气化生产异氰酸酯装置开车初期系统内的水分，极大地缩短装置开车初期除水时间，节省能耗。
Claims (3)
1.一种用于光气化生产异氰酸酯装置的除水系统，其特征在于，所述除水系统包括：吸收塔(1)、光气化反应器(2)、脱光气塔(3)、溶剂脱除塔(4)、溶剂脱除塔顶冷却器(15)、溶剂脱除塔顶气液分离罐(8)、粗溶剂缓冲罐(6)、溶剂精制塔(5)、脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器(14)、脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐(9)、溶剂储罐(7)；
吸收塔(1)上部设置吸收塔溶剂进料管(16)，吸收塔(1)塔釜底部通过液相管线与粗溶剂缓冲罐(6)连接，粗溶剂缓冲罐(6)与溶剂精制塔(5)上部连接，溶剂精制塔(5)的顶部通过气相管线与脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器(14)连接，
溶剂精制塔(5)塔釜底部通过液相管线与溶剂储罐(7)连接；
光气化反应器(2)上部设置光气化反应器溶剂进料管(17)，光气化反应器(2)的顶部通过气相管线与吸收塔(1)塔釜连接；
光气化反应器(2)塔釜底部通过液相管线与脱光气塔(3)中部连接，脱光气塔(3)的顶部通过气相管线与脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器(14)连接，脱光气塔(3)塔釜底部通过液相管线与溶剂脱除塔(4)上部连接，溶剂脱除塔(4)的顶部通过气相管线与溶剂脱除塔顶冷却器(15)连接，溶剂脱除塔顶冷却器(15)与溶剂脱除塔顶气液分离罐(8)连接，溶剂脱除塔顶气液分离罐(8)底部通过液相管线与溶剂储罐(7)连接，溶剂脱除塔顶气液分离罐(8)顶部通过气相管线与吸收塔(1)塔釜连接；
脱光气塔和溶剂精制塔顶冷却器(14)与脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐(9)连接，脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐(9)底部通过液相管线与溶剂精制塔(5)上部连接，脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐(9)顶部通过气相管线与吸收塔(1)塔釜连接，脱光气塔和溶剂精制塔顶气液分离罐(9)设置排水管(19)；
吸收塔(1)的顶部设置尾气排放管(18)。
2.根据权利要求1所述的除水系统，其特征在于，所述的溶剂储罐(7)通过管线与吸收塔溶剂进料管(16)和/或光气化反应器溶剂进料管(17)连接，任选的在溶剂储罐(7)与吸收塔溶剂进料管(16)和/或光气化反应器溶剂进料管(17)连接的管线上设置冷却器。
3.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，所述光气化反应器(2)底部安装光气化反应器塔釜再沸器(10)，所述脱光气塔(3)的底部安装脱光气塔釜再沸器(11)，所述溶剂脱除塔(4)底部安装溶剂脱除塔釜再沸器(12)，所述溶剂精制塔(5)底部安装溶剂精制塔釜再沸器(13)。
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|---|---|---|---|---|
| CN110003054A (zh) * | 2019-03-27 | 2019-07-12 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种光气化生产异氰酸酯装置的除水系统和除水方法 |
| CN114225455A (zh) * | 2021-12-20 | 2022-03-25 | 宁夏瑞泰科技股份有限公司 | 一种提纯六亚甲基二异氰酸酯的系统及方法 |
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