CN209953979U - 用于等离子弧割炬的外固定罩 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种用于等离子弧割炬的外固定罩，它包括外固定罩本体(1)，所述外固定罩本体(1)外表面包括自前至后依次布置的第一锥面段(11)、第二锥面段(12)、第一平面段(13)、第二平面段(14)和螺纹段(15)，所述第二锥面段(12)内侧前端设置有第一密封圈槽(2)，所述第一密封圈槽(2)内设置有密封圈(3)。本实用新型前部内侧开设密封圈槽，密封圈设置于该密封圈槽内，由于外固定罩更换频率远低于屏蔽罩，因此大大降低了密封圈的更换频率，减少了等离子割炬日常使用的材料消耗。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种用于等离子弧割炬的外固定罩，属于等离子切割技术领域。
背景技术
现有的精细等离子割炬的基本配件包含：割炬主体、水管、电极、喷嘴、涡流环、带涡流器的内固定罩、外固定罩、屏蔽罩。其中，水管安装在主体内，电极、喷嘴、涡流环、内固定罩依次套在前一个配件上并安装在割炬主体上，而屏蔽罩套在内固定罩上，外固定罩套在屏蔽罩上并安装在割炬主体上。等离子割炬通过管线连接到电源和气体控制台。
当启动电源后，通过电源电路板的电气控制，电极与喷嘴之间形成引导电弧并转移到被切割的金属材料上，生成等离子弧，从而随着数控机床的运动，对金属材料进行切割。
期间，等离子弧聚集在电极的中心，随着等离子气的流动方向，依次通过喷嘴过道孔、屏蔽罩过道孔，到达被切割金属上。等离子弧的温度可达30000℃以上，但等离子气和保护气分别通过涡流环和涡流器形成旋转涡流气，在弧与配件过道孔之间形成一层保护层，因此配件不会被融化。但是，虽然配件在冷却液的冷却下，还是有局部地方温度过高，产生氧化现象，从而造成我们所见的自然磨损情况。因此，在整个等离子系统的使用过程中，电极、喷嘴、屏蔽罩最易于损坏。
但是，在实际使用过程中，还存在一些异常现象，导致配件易于损坏。例如，当穿孔和切割时，割缝中的金属材料变成细小的熔渣，随着割炬中的气流，大部分被吹走，但有时有的熔渣会迎面返回，进入喷嘴与屏蔽罩的过道孔之间，从而导致灼伤两者的喷射孔或形成双弧，最终损坏配件。
涡流器一般被设计固定在内固定罩上，屏蔽罩固定设置于外固定罩上，内固定罩和外固定罩之间形成冷却通道，屏蔽罩与外固定罩的连接位置处通过密封圈进行密封。现有技术中冷却液与外固定罩接触的散热面积较小，散热效果不理想，从而导致外固定罩和内固定罩的使用寿命较短；另外目前屏蔽罩与外固定罩之间的密封圈，其密封圈槽开设于屏蔽罩外侧，由于屏蔽罩更靠近于喷嘴头部，因此其更换频率较高，远远高于外固定罩，从而大大增加了密封圈的消耗，增加了等离子割炬日常使用的材料成本。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是针对上述现有技术提供一种用于等离子弧割炬的外固定罩，其前部内侧开设密封圈槽，密封圈设置于该密封圈槽内，由于外固定罩更换频率远低于屏蔽罩，因此大大降低了密封圈的更换频率，减少了等离子割炬日常使用的材料消耗。
本实用新型解决上述问题所采用的技术方案为：一种用于等离子弧割炬的外固定罩，它包括外固定罩本体，所述外固定罩本体外表面包括自前至后依次布置的第一锥面段、第二锥面段、第一平面段、第二平面段和螺纹段，所述第二锥面段内侧前端设置有第一密封圈槽，所述第一密封圈槽内设置有密封圈。
更进一步的，所述外固定罩本体的第二锥面段和第一平面段内侧设置有多圈环状凹面和环状凸面，多圈环状凹面和环状凸面交错间隔布置，所述环装凸面上均匀设置有多个弧形凸条。
更进一步的，所述第一平直段外表面设置有直纹滚花。
更进一步的，所述第二平直段外表面设置有第二密封圈槽。
与现有技术相比，本实用新型的优点在于：
1、本实用新型前部内侧开设密封圈槽，密封圈设置于该密封圈槽内，由于外固定罩更换频率远低于屏蔽罩，因此大大降低了密封圈的更换频率，减少了等离子割炬日常使用的材料消耗；
2、本实用新型外固定罩内侧设置有多圈环状凹凸面，能够有效增加与保护气的接触散热面积，延长了保护气的冷却时间，改善了散热效果，提高了外固定罩的使用寿命。
附图说明
图1为本实用新型一种用于等离子弧割炬的外固定罩的结构示意图。
图2为本实用新型一种用于等离子弧割炬的外固定罩的剖视图。
图3为图2的A部放大图。
其中：
外固定罩本体1
第一锥面段11
第二锥面段12
第一平面段13
第二平面段14
螺纹段15
第一密封圈槽2
密封圈3
环状凹面4
环状凸面5
弧形凸条6
直纹滚花7
第二密封圈槽8。
具体实施方式
以下结合附图实施例对本实用新型作进一步详细描述。
参见图1～图3，本实用新型涉及的一种用于等离子弧割炬的外固定罩，它包括外固定罩本体1，所述外固定罩本体1外表面包括自前至后依次布置的第一锥面段11、第二锥面段12、第一平面段13、第二平面段14和螺纹段15，所述第二锥面段12内侧前端设置有与屏蔽罩配合的第一密封圈槽2，所述第一密封圈槽2内设置有密封圈3；
所述外固定罩本体1的第二锥面段12和第一平面段13内侧设置有多圈环状凹面4和环状凸面5，多圈环状凹面4和环状凸面5交错间隔布置，所述环装凸面5上均匀设置有多个弧形凸条6；
所述第一平直段13外表面设置有直纹滚花7；
所述第二平直段14外表面设置有第二密封圈槽8。
上述实施例外，本实用新型还包括有其他实施方式，凡采用等同变换或者等效替换方式形成的技术方案，均应落入本实用新型权利要求的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种用于等离子弧割炬的外固定罩，其特征在于：它包括外固定罩本体(1)，所述外固定罩本体(1)外表面包括自前至后依次布置的第一锥面段(11)、第二锥面段(12)、第一平面段(13)、第二平面段(14)和螺纹段(15)，所述第二锥面段(12)内侧前端设置有第一密封圈槽(2)，所述第一密封圈槽(2)内设置有密封圈(3)。
2.根据权利要求1所述的一种用于等离子弧割炬的外固定罩，其特征在于：所述外固定罩本体(1)的第二锥面段(12)和第一平面段(13)内侧设置有多圈环状凹面(4)和环状凸面(5)，多圈环状凹面(4)和环状凸面(5)交错间隔布置，所述环状凸面(5)上均匀设置有多个弧形凸条(6)。
3.根据权利要求1所述的一种用于等离子弧割炬的外固定罩，其特征在于：所述第一平面段(13)外表面设置有直纹滚花(7)。
4.根据权利要求1所述的一种用于等离子弧割炬的外固定罩，其特征在于：所述第二平面段(14)外表面设置有第二密封圈槽(8)。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201920459686.9U CN209953979U (zh) | 2019-04-04 | 2019-04-04 | 用于等离子弧割炬的外固定罩 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN209953979U true CN209953979U (zh) | 2020-01-17 |
Family
ID=69240976
Family Applications (1)
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| CN201920459686.9U Active CN209953979U (zh) | 2019-04-04 | 2019-04-04 | 用于等离子弧割炬的外固定罩 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| CN (1) | CN209953979U (zh) |
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2019
- 2019-04-04 CN CN201920459686.9U patent/CN209953979U/zh active Active
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