CN209906906U - 一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置 - Google Patents

一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置 Download PDF

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黄洪权
王洪杰
钟孟捷
叶成林
陈优昌
杨榕桢
温秋霞
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Abstract

本实用新型公开了一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置;属于电解铜箔技术领域;其技术要点包括支架,所述支架设置在阴极辊端面边缘处,在支架内设有存储槽,在支架上倾斜设有与存储槽相配合的第一安装板,在第一安装板上设有导向刮板,所述导向刮板的长度小于存储槽的长度,所述导向刮板紧贴阴极辊两端面边缘,硫酸铜溶液沿导向刮板和第一安装板流入存储槽内;在存储槽内设有倾斜设置有第二安装板,在第二安装板上连接有导流薄膜;导流薄膜自由端紧贴阴极辊且其与阴极辊相接触的部分均位于阴极辊端面内;本实用新型旨在提供一种结构紧凑、使用方便且效果良好的电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置;用于电解槽除硫酸铜晶体。

Description

一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置
技术领域
本实用新型涉及一种电解铜箔生产用辅助装置,更具体地说,尤其涉及一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置。
背景技术
在电解铜箔生产中,阴极辊有一半体积浸入在电解槽中,一半体积暴露在空气中,随着阴极辊在电解槽中转动,由于电场的边缘效应,其两侧难免会附着硫酸铜溶液。又因为电解槽中的硫酸铜温度在45-60℃之间,而生产车间保持20-25℃的恒温,经过长时间累积,阴极辊两侧就会有硫酸铜晶体析出,如果生产人员不能及时清理,硫酸铜晶体将会越积越多,达到一定重量时,晶体容易因自身重力直接落入电解槽而使槽体中液位产生波动,直接影响铜箔的表面质量;或者积聚的硫酸铜晶体将生箔机的进液口堵塞,而影响槽体中的液位及铜酸含量,也会给铜箔的质量带来影响。除此之外,由于槽体中电解液在温度较高时产生的酸雾向上运动,虽然装有酸雾抽风系统,但还是会有少量酸雾直接落在箔面上,使箔面产生黑色酸雾点,直接影响铜箔表面质量。本专利通过特殊装置的设计及使用避免了以上情况对箔面造成的不利影响。
实用新型内容
本实用新型的目的在于针对上述现有技术的不足,提供一种结构紧凑、使用方便且效果良好的电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置。
本实用新型的技术方案是这样实现的:一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置,包括支架,所述支架设置在阴极辊端面边缘处,在支架内设有存储槽,在支架上倾斜设有与存储槽相配合的第一安装板,在第一安装板上设有导向刮板,所述导向刮板的长度小于存储槽的长度,所述导向刮板紧贴阴极辊两端面边缘,硫酸铜溶液沿导向刮板和第一安装板流入存储槽内;
在存储槽内设有倾斜设置有第二安装板,在第二安装板上连接有导流薄膜;所述导流薄膜自由端紧贴阴极辊且其与阴极辊相接触的部分均位于阴极辊端面内。
上述的一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置中,所述支架由与存储槽相适应的安装座和设置在安装座底部且与外部电解槽连接的连接腿组成;
所述安装座由长条形的底板、分别垂直设置在底板两条长边边缘的定位条和防护板和垂直设置在底板其中一条短边边缘的限位条组成;所述第一安装板设置在防护板上端且与防护板为一体成型的整体结构;所述定位条和防护板之间的间距与存储槽的外宽相适应,紧贴防护板一侧的存储槽开口部端面为朝向存储槽内部的斜面。
上述的一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置中,所述第一安装板与水平面之间的夹角为45~60°。
上述的一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置中,所述第二安装板与水平面之间的夹角为45~60°。
上述的一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置中,所述第二安装板自由端与阴极辊端面之间的间距为5-10mm;所述导流薄膜固定在第二安装板与第一安装板相对的端面上。
上述的一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置中,所述存储槽开口部沿长度方向的两端内壁上分别设有连接座,所述第二安装板通过螺丝固定在连接座上。
本实用新型采用上述结构后,首先通过第二安装板上的导流薄膜,将一部分硫酸铜溶液先引流至存储槽内,然后再通过导向刮板将阴极辊两端边缘剩余的硫酸铜溶液刮至存储槽内,该部分硫酸铜溶液,要么沿导向刮板流至存储槽内,要么直接滴落至导流薄膜上,再流入存储槽。同时,由于安装座部分可以将电解液蒸发出来的酸雾阻挡下去,再经过抽风系统的作用减少其落在铜箔表面的机会,能有效地改善由于酸雾造成的箔面质量问题。
附图说明
下面结合附图中的实施例对本实用新型作进一步的详细说明,但并不构成对本实用新型的任何限制。
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型支架的结构示意图;
图3是本实用新型的使用状态示意图。
图中:支架1、存储槽2、连接座2a、第一安装板3、导向刮板4、第二安装板5、导流薄膜6、安装座7、底板7a、定位条7b、防护板7c、限位条7d、连接腿8、阴极辊9。
具体实施方式
参阅图1至图3所示,本实用新型的一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置,包括支架1,所述支架1设置在阴极辊9端面边缘处,在支架1内设有存储槽2,在支架1上倾斜设有与存储槽2相配合的第一安装板3,所述第一安装板3与水平面之间的夹角为45~60°,在第一安装板3上设有导向刮板4,导向刮板与水平面的倾斜角度与第一安装板的相同,这样可以使硫酸铜溶液顺畅往下流,所述导向刮板4的长度小于存储槽2的长度,本实施例中,导向刮板两端均比存储槽短50mm,这样可以使硫酸铜溶液全部流入存储槽内。所述导向刮板4紧贴阴极辊两端面边缘,硫酸铜溶液沿导向刮板4和第一安装板3流入存储槽2内。
同时,在存储槽2内设有倾斜设置有第二安装板5,在第二安装板5上连接有导流薄膜6;所述导流薄膜6自由端紧贴阴极辊且其与阴极辊相接触的部分均位于阴极辊端面内,优选地,导流薄膜与阴极辊相接触部分的宽度,从图1上看即高度,为2-5cm。优选地,所述第二安装板5与水平面之间的夹角为45~60°,这样也是为了顺畅地引流硫酸铜溶液。
为了方便拆装第二安装板,在存储槽2开口部沿长度方向的两端内壁上分别设有连接座2a,所述第二安装板5通过螺丝固定在连接座2a上。
优选地,所述支架1由与存储槽2相适应的安装座7和设置在安装座7底部且与外部电解槽连接的连接腿8组成;所述安装座7由长条形的底板7a、分别垂直设置在底板7a两条长边边缘的定位条7b和防护板7c和垂直设置在底板7a其中一条短边边缘的限位条7d组成;所述第一安装板3设置在防护板7c上端且与防护板7c为一体成型的整体结构;所述定位条7b和防护板7c之间的间距与存储槽2的外宽相适应,这样可以使硫酸铜溶液流入存储槽内而不会流至存储槽与防护板之间的间隙内。紧贴防护板7c一侧的存储槽2开口部端面为朝向存储槽2内部的斜面,该斜面可以避免硫酸铜溶液在该端面上积聚。
进一步优选地,所述第二安装板5自由端与阴极辊端面之间的间距为5-10mm;所述导流薄膜6固定在第二安装板5与第一安装板3相对的端面上。合理的角度,既可以避免第二安装板与阴极辊接触,又可以使导流薄膜与阴极辊粘贴后具有一定的强度,可以为上方滴落的硫酸铜溶液引流。
使用时,将本实用新型的装置分别安装在阴极辊9两端边缘对应的电解槽上。具体为:将支架安装在电解槽边缘,使导向薄板与阴极辊9端面边缘相贴。然后安装存储槽,同时调整导流薄膜使其朝上延伸并附着在阴极辊两端外壁上即可。阴极辊转动时,附着在阴极辊两端面边缘的硫酸铜溶液首先在导流薄膜的作用下部分引流至存储槽,剩余的溶液则在导向薄板的刮除下沿导向薄板流入存储槽或者滴落至导流薄膜上再流入存储槽。
以上所举实施例为本实用新型的较佳实施方式,仅用来方便说明本实用新型,并非对本实用新型作任何形式上的限制,任何所属技术领域中具有通常知识者,若在不脱离本实用新型所提技术特征的范围内,利用本实用新型所揭示技术内容所作出局部更动或修饰的等效实施例,并且未脱离本实用新型的技术特征内容,均仍属于本实用新型技术特征的范围内。

Claims (6)

1.一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置,包括支架(1),其特征在于,所述支架(1)设置在阴极辊端面边缘处,在支架(1)内设有存储槽(2),在支架(1)上倾斜设有与存储槽(2)相配合的第一安装板(3),在第一安装板(3)上设有导向刮板(4),所述导向刮板(4)的长度小于存储槽(2)的长度,所述导向刮板(4)紧贴阴极辊两端面边缘,硫酸铜溶液沿导向刮板(4)和第一安装板(3)流入存储槽(2)内;
在存储槽(2)内设有倾斜设置有第二安装板(5),在第二安装板(5)上连接有导流薄膜(6);所述导流薄膜(6)自由端紧贴阴极辊且其与阴极辊相接触的部分均位于阴极辊端面内。
2.根据权利要求1所述的一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置,其特征在于,所述支架(1)由与存储槽(2)相适应的安装座(7)和设置在安装座(7)底部且与外部电解槽连接的连接腿(8)组成;
所述安装座(7)由长条形的底板(7a)、分别垂直设置在底板(7a)两条长边边缘的定位条(7b)和防护板(7c)和垂直设置在底板(7a)其中一条短边边缘的限位条(7d)组成;所述第一安装板(3)设置在防护板(7c)上端且与防护板(7c)为一体成型的整体结构;所述定位条(7b)和防护板(7c)之间的间距与存储槽(2)的外宽相适应,紧贴防护板(7c)一侧的存储槽(2)开口部端面为朝向存储槽(2)内部的斜面。
3.根据权利要求1或2所述的一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置,其特征在于,所述第一安装板(3)与水平面之间的夹角为45~60°。
4.根据权利要求1所述的一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置,其特征在于,所述第二安装板(5)与水平面之间的夹角为45~60°。
5.根据权利要求1或4所述的一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置,其特征在于,所述第二安装板(5)自由端与阴极辊端面之间的间距为5-10mm;所述导流薄膜(6)固定在第二安装板(5)与第一安装板(3)相对的端面上。
6.根据权利要求1所述的一种电解铜箔用清理硫酸铜晶体和防酸雾一体化装置,其特征在于,所述存储槽(2)开口部沿长度方向的两端内壁上分别设有连接座(2a),所述第二安装板(5)通过螺丝固定在连接座(2a)上。
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CN114293233A (zh) * 2022-01-13 2022-04-08 广东嘉元科技股份有限公司 一种用于铜箔酸洗中阴极辊与阳极槽之间的密封装置
CN114990645A (zh) * 2022-06-30 2022-09-02 深圳惠科新材料有限公司 硫酸铜晶体回收装置及方法

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