CN209373236U - 多镜头摄像系统及其驱动机构 - Google Patents

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CN209373236U CN201821992059.3U CN201821992059U CN209373236U CN 209373236 U CN209373236 U CN 209373236U CN 201821992059 U CN201821992059 U CN 201821992059U CN 209373236 U CN209373236 U CN 209373236U
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CN
China
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magnet
driving mechanism
aforementioned
frame
coil
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郭侲圻
宋欣忠
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TDK Taiwan Corp
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Abstract

本实用新型涉及一种多镜头摄像系统及其驱动机构,该驱动机构用以驱动一光学元件,包括一固定模块、一可动模块以及一驱动组件,其中前述可动模块活动地连接前述固定模块并承载前述光学元件,前述驱动组件设置于前述固定模块及可动模块上。前述驱动组件包括一磁铁以及一线圈,用以驱使前述光学元件相对前述固定模块沿一第一轴向移动。前述磁铁的一中心轴延伸经过线圈的一部分并偏离线圈的一中心位置,其中前述中心轴垂直于前述第一轴向。

Description

多镜头摄像系统及其驱动机构
技术领域
本实用新型涉及一种驱动机构,特别涉及一种用以驱动光学元件的驱动机构。
背景技术
随着科技的发展,现今许多电子装置(例如智能手机或数码相机)皆具有照相或录影的功能。这些电子装置的使用越来越普遍,并朝着便利和轻薄化的设计方向进行发展,以提供使用者更多的选择。
在现有的手机镜头中,双镜头摄像系统(dual-lens camera system)使用了两个镜头驱动机构,且其位置通常相当靠近,所以位在不同镜头驱动机构内的磁铁往往容易产生磁干扰(magnetic interference),如此将会导致镜头的对焦速度及准确度受到影响。有鉴于此,如何设计出一种可防止不同镜头驱动机构之间产生磁干扰的多镜头摄像系统(multiple-lens camera system)始成为一重要的课题。
发明内容
有鉴于前述现有问题点,本实用新型的一实施例提供一种驱动机构,用以驱动一光学元件,包括一固定模块、一可动模块以及一驱动组件,其中前述可动模块活动地连接前述固定模块并承载前述光学元件,前述驱动组件设置于前述固定模块及可动模块上。前述驱动组件包括一磁铁以及一线圈,用以驱使前述光学元件相对前述固定模块沿一第一轴向移动。前述磁铁的一中心轴延伸经过线圈的一部分并偏离线圈的一中心位置,其中前述中心轴垂直于前述第一轴向。
于一实施例中,前述固定模块具有一壳体,且前述线圈具有一外侧段部以及一内侧段部,且前述中心轴延伸经过前述内侧段部。
于一实施例中,前述磁铁设置于前述可动模块上,且前述线圈设置于前述固定模块上。
于一实施例中,前述可动模块具有一框架,前述框架活动地连接前述固定模块,且前述磁铁固定于前述框架上。
于一实施例中,前述驱动组件还包括一导磁元件,设置于前述磁铁的一侧。
于一实施例中,前述磁铁较前述导磁元件更接近前述线圈。
于一实施例中,前述驱动组件还包括两个磁铁,前述磁铁的磁极方向相同且沿一第二轴向排列,其中前述第二轴向垂直于前述第一轴向。
于一实施例中,前述驱动组件还包括一导磁元件,设置于前述磁铁之间。
于一实施例中,前述导磁元件凸出于前述磁铁的一侧。
于一实施例中,前述磁铁以及前述导磁元件之间形成一凹槽。
于一实施例中,前述驱动组件还包括多个导磁元件,设置于前述磁铁之间。
于一实施例中,前述导磁元件与前述磁铁沿前述第二轴向交错排列。
于一实施例中,前述可动模块具有一承载件以及一框架,前述承载件承载前述光学元件并活动地连接前述框架,且前述框架活动地连接前述固定模块,其中前述框架形成有一第一凹槽、一第二凹槽以及一肋部,前述些磁铁分别固定于前述第一凹槽以及前述第二凹槽内,且前述肋部位于前述些磁铁之间。
于一实施例中,前述可动模块具有一承载件以及一框架,前述承载件承载前述光学元件并活动地连接前述框架,且前述框架活动地连接前述固定模块,其中前述框架形成有一第一凹槽以及一第二凹槽,前述些磁铁分别固定于前述第一凹槽以及前述第二凹槽内,且前述第二凹槽的宽度大于前述第一凹槽的宽度。
于一实施例中,前述驱动组件还包括一导磁元件,设置于前述磁铁之间且位于前述第二凹槽内。
于一实施例中,前述导磁元件的长度大于前述磁铁的长度。
于一实施例中,前述驱动组件还包括两个线圈,分别设置于可动模块以及固定模块上,且位于前述磁铁的两个相邻侧边。
于一实施例中,前述驱动组件还包括两个线圈以及两个磁铁,前述磁铁的磁极方向相同且沿一第二轴向排列,其中前述第二轴向垂直于前述第一轴向,且前述线圈分别对应于前述磁铁。
本实用新型一实施例更公开一种多镜头摄像系统,包括两个如前所述的驱动机构,前述驱动机构呈四边形且并排设置,其中前述驱动机构中的磁铁是位于前述驱动机构彼此相邻的侧边。
本实用新型一实施例更公开一种多镜头摄像系统,包括一个如前所述的驱动机构以及一摄像单元,其中前述摄像单元具有一光学镜头、多个磁性元件以及一绕线,前述磁性元件位于摄像单元的角落处,且当前述绕线被通入电流时,前述磁性元件和绕线之间产生磁力以驱使前述光学镜头移动。特别的是,前述驱动机构以及摄像单元是沿着前述第一轴向排列,且前述磁性元件和前述磁铁于前述第一轴向上不相互重叠。
于一实施例中,前述磁铁具有一长轴方向,且前述磁铁于长轴方向上的长度小于前述磁性元件于前述长轴方向上的间距。
本实用新型一实施例更公开一种多镜头摄像系统,包括多个如前所述的驱动机构,前述驱动机构呈四边形且以矩阵方式排列,其中每一驱动机构中的驱动组件还包括两个磁铁以及对应于前述磁铁的两个线圈,且前述磁铁分别偏离前述线圈的中心位置。
本实用新型一实施例提供一种驱动机构,用以驱动一光学元件,包括:
一固定模块;
一可动模块,活动地连接该固定模块并承载该光学元件;以及
一驱动组件,设置于该固定模块以及该可动模块上,其中,该驱动组件包括一磁铁以及一线圈,该磁铁偏离该线圈的一中心位置,且该磁铁的一中心轴延伸经过该线圈的一部分,用以驱动该光学元件相对于该固定模块沿一第一轴向移动,其中,该中心轴垂直于该第一轴向。
于一实施例中,该固定模块具有一壳体,且该线圈具有一外侧段部以及一内侧段部,该外侧段部较该内侧段部更靠近该壳体,且该中心轴延伸经过该内侧段部。
于一实施例中,该磁铁设置于该可动模块上,该线圈设置于该固定模块上。
于一实施例中,该可动模块具有一承载件以及一框架,该承载件承载该光学元件并活动地连接该框架,且该框架活动地连接该固定模块,其中该磁铁固定于该框架上。
于一实施例中,该驱动组件还包括一导磁元件,设置于该磁铁的一侧。
于一实施例中,该磁铁较该导磁元件更接近该线圈。
于一实施例中,该驱动组件还包括两个磁铁,所述磁铁的磁极方向相同且沿一第二轴向排列,其中该第二轴向垂直于该第一轴向。
于一实施例中,该驱动组件还包括一导磁元件,设置于所述磁铁之间。
于一实施例中,该导磁元件凸出于所述磁铁的一侧。
于一实施例中,所述磁铁以及该导磁元件之间形成一凹槽。
于一实施例中,该驱动组件还包括多个导磁元件,设置于所述磁铁之间。
于一实施例中,所述导磁元件与所述磁铁沿该第二轴向交错排列。
于一实施例中,该可动模块具有一承载件以及一框架,该承载件承载该光学元件并活动地连接该框架,且该框架活动地连接该固定模块,其中该框架形成有一第一凹槽、一第二凹槽以及一肋部,所述磁铁分别固定于该第一凹槽以及该第二凹槽内,且该肋部介于所述磁铁之间。
于一实施例中,该可动模块具有一承载件以及一框架,该承载件承载该光学元件并活动地连接该框架,且该框架活动地连接该固定模块,其中该框架形成有一第一凹槽以及一第二凹槽,所述磁铁分别固定于该第一凹槽以及该第二凹槽内,且该第二凹槽的宽度大于该第一凹槽的宽度。
于一实施例中,该驱动组件还包括一导磁元件,设置于所述磁铁之间且位于该第二凹槽内。
于一实施例中,该导磁元件的长度大于所述磁铁的长度。
于一实施例中,该驱动组件还包括两个线圈,分别设置于该可动模块以及该固定模块上,且位于该磁铁的两个相邻侧边。
于一实施例中,该驱动组件还包括两个线圈以及两个磁铁,所述线圈分别设置于该可动模块以及该固定模块上,且分别对应于所述磁铁,所述磁铁的磁极方向相同且沿一第二轴向排列,其中该第二轴向垂直于该第一轴向。
本实用新型一实施例更公开一种多镜头摄像系统,包括:
两个如前所述的驱动机构,其中,所述驱动机构呈四边形且并排设置,且所述驱动机构中的所述磁铁位于所述驱动机构彼此相邻的侧边。
本实用新型一实施例更公开一种多镜头摄像系统,包括:
一个如前所述的驱动机构;以及
一摄像单元,具有一光学镜头、多个磁性元件以及一绕线,其中所述磁性元件位于该摄像单元的角落处,且当该绕线被通入电流时,所述磁性元件和该绕线之间产生磁力以驱使该光学镜头移动;
其中,该驱动机构以及该摄像单元沿该第一轴向排列,且所述磁性元件和该磁铁于该第一轴向上不相互重叠。
于一实施例中,该磁铁具有一长轴方向,且该磁铁于该长轴方向上的长度小于所述磁性元件于该长轴方向上的间距。
本实用新型一实施例更公开一种多镜头摄像系统,包括:
四个如前所述的驱动机构,其中所述驱动机构呈四边形且以矩阵方式排列,其中每一该驱动机构中的该驱动组件还包括两个磁铁以及对应于所述磁铁的两个线圈,且所述磁铁分别偏离所述线圈的所述中心位置。
附图说明
图1表示根据本实用新型一实施例的驱动机构1的爆炸图。
图2表示图1的驱动机构1组合后的立体图。
图3表示沿图2中线段X1-X1的剖视图。
图4则表示沿图2中线段Y1-Y1的剖视图。
图5是表示磁铁M1、M2、M3与电路板30内部线圈C22的相对位置关是示意图。
图6表示图5中的磁铁M1、M3与电路板30的局部放大图。
图7表示本实用新型另一实施例的磁铁M1、M3、线圈C1与电路板30的局部放大图。
图8表示本实用新型另一实施例的磁铁M1、M3、线圈C1与电路板30的局部放大图。
图9表示当两个驱动机构1沿X轴方向排列时的局部剖视放大图。
图10则表示当两个驱动机构1沿X轴方向排列时的上视图。
图11表示四个驱动机构1以矩阵方式排列的上视图。
图12表示本实用新型另一实施例的磁铁M3外侧设有导磁元件P2的示意图。
图13则表示图12中的磁铁M3、导磁元件P2以及电路板30的局部剖视放大图。
图14表示本实用新型另一实施例的两个磁铁M3间设有导磁元件P2的示意图。
图15则表示图14中的磁铁M3、导磁元件P2以及电路板30的局部剖视放大图。
图16表示本实用新型另一实施例的两个磁铁M3和导磁元件P2之间形成凹槽R的示意图。
图17表示本实用新型另一实施例的两个导磁元件P2设置于两个磁铁M3间的示意图。
图18表示本实用新型另一实施例的两个磁铁M3上方分别设有导磁元件P2的示意图。
图19表示本实用新型另一实施例的双镜头摄像系统(dual-lens camerasystem)的示意图。
图20表示本实用新型另一实施例的驱动机构1内部的磁铁M1、M2、M3固定于框架50上的示意图。
图21表示本实用新型另一实施例的驱动机构1内部的磁铁M3固定于框架50上的示意图。
其中,附图标记说明如下:
驱动机构 1
摄像单元 2
壳体 10
底座 20
导电端子 21
电路板 30
承载件 40
开孔 41
框架 50
第一凹槽 51
第二凹槽 52
间隙 521
肋部 53
中心线 A1
中心位置 A2
中心轴 A3
绕线 C
线圈 C1、C21、C22
上、下半部 C11、C12
外侧段部 C221
内侧段部 C222
长度 d
间距 D
空隙 G
高度 H、h
磁铁 HM
感测元件 HS
距离 L、L1
厚度 L2
磁性元件 M
磁铁 M1、M2、M3
上、下半部 M11、M12
光轴 O
导磁元件 P1、P2
凹槽 R
上簧片 S1
下簧片 S2
弹性元件 W
宽度 W1、W2
具体实施方式
以下说明本实用新型实施例的多镜头摄像系统及其驱动机构。然而,可轻易了解本实用新型实施例提供许多合适的发明概念而可实施于广泛的各种特定背景。所公开的特定实施例仅仅用于说明以特定方法使用本实用新型,并非用以局限本实用新型的范围。
除非另外定义,在此使用的全部用语(包括技术及科学用语)具有与此篇公开所属的一般技艺者所通常理解的相同涵义。能理解的是这些用语,例如在通常使用的字典中定义的用语,应被解读成具有一与相关技术及本公开的背景或上下文一致的意思,而不应以一理想化或过度正式的方式解读,除非在此特别定义。
有关本实用新型的前述及其他技术内容、特点与技术效果,在以下配合参考附图的一优选实施例的详细说明中,将可清楚的呈现。以下各实施例中所提到的方向用语,例如:上、下、左、右、前或后等,仅是参考附加附图的方向。因此,实施方式中所使用的方向用语是用来说明并非用来限制本实用新型。
首先请一并参照图1至图4,其中图1表示根据本实用新型一实施例的驱动机构1的爆炸图,图2表示图1的驱动机构1组合后的立体图,图3表示沿图2中线段X1-X1的剖视图,图4则表示沿图2中线段Y1-Y1的剖视图。应了解是,本实施例的驱动机构1例如为一音圈马达(Voice Coil Motor,VCM),其可装设于一移动电话或其他便携式电子装置内部,用以驱使一光学元件(例如光学镜片)移动,从而能实现自动对焦(Auto Focusing,AF)或光学防手震(Optical Image Stabilization,OIS)等功能。
如图1所示,前述驱动机构1主要包括有一壳体10、一底座20、一电路板30、一承载件40、一框架50、一上簧片S1以及一下簧片S2。于本实施例中,前述壳体10具有一中空结构并与底座20相互结合,电路板30则是固定于底座20上,其中壳体10、底座20和电路板30可构成一固定模块;此外,前述承载件40与框架50是活动地容置于壳体10内,且一光学元件(未图示)是设置在承载件40的开孔41内,其中前述框架50、承载件40及设置于内的光学元件是构成可相对于前述固定模块移动的一可动模块。
具体而言,前述承载件40是通过上、下簧片S1、S2连接框架50,使得承载件40能以可活动的方式悬吊于框架50内部;此外,前述底座20则是通过四个弹性元件W连接框架50与上簧片S1,使得框架50能以可活动的方式容置于壳体10内部。于一实施例中,前述上、下簧片S1、S2可具有金属材质,且前述弹性元件W可为细长的金属构件。
通过前述机构配置方式,外部光线可沿着光学元件的光轴O方向进入驱动机构1,且光线会穿过光学镜头并到达位于底座20下方的一影像感测元件(未图示),借此产生一数字影像。
需特别说明的是,前述框架50、承载件40及设置于其内的光学元件可相对于底座20和电路板30沿一第一轴向移动,其中前述第一轴向是平行于XY平面,借此实现光学防手震(OIS)的功能;此外,前述承载件40及设置于其内的光学元件则可相对于框架50沿一第二轴向(Z轴方向)移动,其中前述第二轴向平行于光学元件的光轴O方向,以实现自动对焦(AF)的功能。
请继续参阅图1、图3、图4,前述承载件40的相反侧分别设有一椭圆形的线圈C1,前述电路板30的四个侧边则分别埋设有线圈C21、C22,此外在矩形框架50的四个内侧表面设有多个磁铁M1、M2、M3。在本实施例中,前述磁铁M1、M2例如为多极磁铁(multipolarmagnet),其中磁铁M1的位置是同时对应于承载件40上的线圈C1以及电路板内部的线圈C21,而磁铁M2、M3的位置则分别对应于电路板内部的线圈C22。举例而言,前述线圈C21、C22为平板线圈(planar coil)或微型线圈(FP-coil),并可通过电路电性连接到底座20下方的导电端子21。
前述上簧片S1可通过导线与线圈C1电性连接,四个弹性元件W的两端则分别连接底座20上的导线以及上簧片S1,借此可通过与底座20下方的导电端子21电性连接的一外部电路提供电流到承载件40上的线圈C1。当电流被施加至前述线圈C1时,可通过线圈C1和磁铁M1之间所产生的磁力驱使承载件40和前述光学元件相对于框架50沿Z轴方向(第二轴向)移动,以实现自动对焦(AF)的功能。
同理,前述外部电路亦可通过底座20下方的导电端子21提供电流到电路板30中的线圈C21、C22。当电流被施加至前述线圈C21、C22时,即可通过线圈C21、C22和磁铁M2、M3之间所产生的磁力驱使框架50、承载件40和设置于其内的光学元件一起相对于底座20和电路板30沿水平方向(第一轴向)移动,以实现光学防手震(OIS)的功能。
此外,从图1中可以看出,在磁铁M2上方另设有固定于框架50上的一导磁元件P1以及一磁铁HM,且在承载件40的一侧则设有与上簧片S1电性连接的一磁场感测元件HS,用以感测前述磁铁HM,其中前述导磁元件P1可改善磁铁M2附近的磁场分布,以降低磁铁M2与其他磁性元件之间的磁干扰。举例而言,前述磁场感测元件HS可为霍尔感测器(Hall effectsensor)、磁敏电阻感测器(MR sensor)、或磁通量感测器(Fluxgate)等,用以感测磁铁HM的位置,从而得知承载件40和框架50之间在Z轴方向上的相对位置变化。
接着请一并参阅图4、图5,其中图5是表示磁铁M1、M2、M3与电路板30内部线圈C22的相对位置关系示意图。如第4、5图所示,在本实施例的驱动机构1中,于承载件40右侧是设有两个磁铁M3,前述两个磁铁M3是沿着Z轴方向排列,其高度大致对应于磁铁M1的上、下半部M11、M12,且其磁极方向(N-S)皆平行于Z轴方向(第二轴向)。需特别说明的是,图5左侧的磁铁M2是同时对应于线圈C22的外侧段部C221以及内侧段部C222,而图5右侧的磁铁M2则是较靠近线圈C22的内侧段部C222,其中该外侧段部C221较该内侧段部C222更靠近壳体10。
再请参阅图6,其中图6表示图5中的磁铁M1、M3与电路板30的局部放大图。从图6中可以看出,磁铁M1的高度是略高于两个磁铁M3的高度,意即高度H>高度h,且h/H的比值约介于0.5~1.5之间,此外磁铁M1的一中心线A1则恰好经过两个磁铁M3之间的空隙G。应了解的是,为了避免磁铁M3太靠近驱动机构1的边缘而影响到驱动机构1外部的电子元件或磁性元件,所以本实施例中的磁铁M3会偏离线圈C22的中心位置A2,且磁铁M3的中心轴A3会延伸经过线圈C22的内侧段部C222(如图6所示)。
图7表示本实用新型另一实施例的磁铁M1、M3、线圈C1与电路板30的局部放大图,其中图7与图6的实施例主要不同之处在于:在图7的实施例中更额外设有一椭圆形线圈C1,其中该椭圆形线圈C1可固定在承载件40上且对应于两个沿Z轴方向排列的磁铁M3中位置较高者。
需特别说明的是,图7中的椭圆形线圈C1具有一上半部C11以及一下半部C12,其中上、下半部C11、C12的中心位置间的距离L1是大于磁铁M3的厚度L2。如此一来,当一电流被施加到前述线圈C1时,便可通过线圈C1和磁铁M3间所产生的磁力,驱使承载件40和设置于其内的光学元件一起相对于框架50沿Z轴方向(第二轴向)移动,以实现自动对焦(AF)的功能。
图8表示本实用新型另一实施例的磁铁M1、M3、线圈C1与电路板30的局部放大图,其中图8与图7的实施例主要不同之处在于:在图8中仅设有一个磁铁M3,且椭圆形线圈C1的位置是对应于该磁铁M3,其中线圈C1与线圈C22乃位于磁铁M3的两个相邻的侧边。
于本实施例中,椭圆形线圈C1的上、下半部C11、C12的中心位置间的距离L1同样是大于磁铁M3的厚度L2,且当一电流被施加到前述线圈C1时,线圈C1和磁铁M3之间可产生磁力以驱使承载件40和设置于其内的光学元件相对于框架50沿Z轴方向(第二轴向)移动,从而实现自动对焦(AF)的功能。此外,当一电流被施加到电路板30中的线圈C22时,还可通过线圈C22和磁铁M3之间所产生的磁力驱使框架50、承载件40和设置于其内的光学元件一起相对于底座20和电路板30沿水平方向移动,以实现光学防手震(OIS)的功能。
再请一并参阅图9、图10,其中图9表示当两个驱动机构1沿X轴方向排列时的局部剖视放大图,图10则表示当两个驱动机构1沿X轴方向排列时的上视图。如图9、图10所示,本实用新型亦可将两个驱动机构1沿一第一轴向(X轴方向)并排设置而应用于一双镜头摄像系统(dual-lens camera system)中。应了解的是,本实施例的两个驱动机构1大致呈四边形,且其内部的磁铁M3是位于两个驱动机构1中彼此相邻的侧边,由于前述两个磁铁M3皆朝驱动机构1的内侧方向偏离其下方线圈C22的中心位置,因此能有效增加两个磁铁M3间的距离L,借此避免两个相邻的驱动机构1内部磁铁M3因太过靠近而产生磁干扰。
接着请参阅图11,其中图11表示四个驱动机构1以矩阵方式排列的上视图。如图11所示,本实用新型亦可将四个驱动机构1以矩阵方式排列而应用于一四镜头摄像系统(four-lens camera system)中,前述每一驱动机构1内部皆设有至少两个如图1~图9中任一实施例所示的磁铁M3,且前述两个磁铁M3分别位于驱动机构1的相邻侧,其中所有磁铁M3的位置皆朝驱动机构1的内侧方向偏离其下方线圈C22的中心位置;如此一来,通过使相邻驱动机构1内部磁铁M3间的距离有效地增加,可避免相邻驱动机构1内部的磁铁M3因太过靠近而产生磁干扰。
接着请一并参阅图12、图13,其中图12表示本实用新型另一实施例的磁铁M3外侧设有导磁元件P2的示意图,图13则表示图12中的磁铁M3、导磁元件P2以及电路板30的局部剖视放大图。如图12、图13所示,在本实施例的驱动机构1中,亦可于磁铁M3的外侧设置一导磁元件P2,其中通过设置导磁元件P2可使磁铁M3周围的磁场分布更加集中,从而能有效地防止磁铁M3对驱动机构1内部或外部的电子元件或磁性元件产生磁干扰。
接着请一并参阅图14、图15,其中图14表示本实用新型另一实施例的两个磁铁M3间设有导磁元件P2的示意图,图15则表示图14中的磁铁M3、导磁元件P2以及电路板30的局部剖视放大图。如图14、图15所示,在本实施例的驱动机构1中是设有两个磁铁M3,且于前述两个磁铁M3之间更设有一导磁元件P2,其中通过设置前述导磁元件P2可使两个磁铁M3周围的磁场分布更加集中,并能有效防止磁铁M3对驱动机构1内部或外部的电子元件或磁性元件产生磁干扰。此外,由于导磁元件P2是略为凸出于前述两个磁铁M3的外侧表面,所以还可利用导磁元件P2作为一卡合结构或限位结构,以方便于组装时进行定位之用。
接着请参阅图16,其中图16表示本实用新型另一实施例的两个磁铁M3和导磁元件P2之间形成凹槽R的示意图。本实施例与图14、图15的实施例主要不同之处在于:本实施例的两个磁铁M3与导磁元件P2之间形成有一凹槽R,其中该凹槽R可作为一卡合结构或限位结构,以利于组装时进行定位之用;或者,前述凹槽R也可用以容纳一胶水,从而使磁铁M3、导磁元件P2和框架50之间可以相互粘接固定。
接着请参阅图17,其中图17表示本实用新型另一实施例的两个导磁元件P2设置于两个磁铁M3间的示意图。本实施例与图16的实施例主要不同之处在于:在本实施例中的两个磁铁M3之间设有多个导磁元件P2,其中导磁元件P2对齐磁铁M3的内侧表面,并凸出于磁铁M3的外侧表面。
应了解的是,本实施例通过在两个磁铁M3之间设置两个或两个以上的导磁元件P2,除了可使磁铁M3周围的磁场分布更加集中,以防止磁铁M3对驱动机构1内部或外部的电子元件或磁性元件产生磁干扰外,且当将两个以上的驱动机构1应用于一多镜头摄像系统(multi-lens camera system)时,还可通过改变导磁元件P2的数量以调整两个磁铁M3在Z轴方向上的高度h,借此使两个相邻驱动机构1内部的磁铁M3的高度位置相对应,从而能达到使水平方向磁力可相互抵消与保持合力平衡的效果。
接着请参阅图18,其中图18表示本实用新型另一实施例的两个磁铁M3上方分别设有导磁元件P2的示意图。本实施例与图17的实施例主要不同之处在于:本实施例中的两个磁铁M3上方皆设有导磁元件P2,且磁铁M3和导磁元件P2是沿Z轴方向(第二轴向)交错排列,其中下方的磁铁M3较导磁元件P2更接近线圈C22,而设置于单一磁铁M3上方的导磁元件P2数量并不限于一个,亦可以连续堆叠多个磁元件P2于任一磁铁M3的上方表面。
应了解的是,本实施例通过在两个磁铁M3上方皆设有至少一导磁元件P2,除了可使磁铁M3周围的磁场分布更加集中以防止磁铁M3对驱动机构1内部或外部的电子元件或磁性元件产生磁干扰外,当将两个以上的驱动机构1应用于一多镜头摄像系统(multi-lenscamera system)时,还可通过改变导磁元件P2的数量以调整两个磁铁M3和导磁元件P2在Z轴方向上的位置与整体高度,从而能提升驱动机构1本身以及多镜头摄像系统的整体效能。
接着请参阅图19,其中图19表示本实用新型另一实施例的双镜头摄像系统(dual-lens camera system)的示意图。如图19所示,在本实施例的双镜头摄像系统中包含沿X轴方向(第一轴向)排列的前述任一实施例中的驱动机构1以及一摄像单元2,其中在摄像单元2内部设有四个磁性元件M以及一绕线C,当绕线C被通入电流时,磁性元件M和及绕线C之间可产生磁力以驱使设置在摄像单元2内部的一光学镜头沿Z轴方向移动。
需特别说明的是,前述摄像单元2内部的磁性元件M是设置于矩形壳体的四个角落处,而驱动机构1内部的磁铁M1、M2、M3则是设置于矩形壳体的四个侧边,其中前述磁铁M3可采用如第1~18图中任一实施例所示的配置方式,而磁铁M3于其长轴方向(Y轴方向)上的长度d是小于驱动机构2内部两个相邻磁铁M之间于该长轴方向(Y轴方向)上的间距D,且磁铁M3会偏离其下方线圈C22的中心位置。
此外,当沿X轴方向(第一轴向)观察时可以发现,摄像单元2内部的磁性元件M并不会与驱动机构1内部的磁铁M3重叠,借此可确保驱动机构1内部的磁铁M3与摄像单元2内部的磁铁M之间能维持足够的距离,以避免两者间产生磁干扰。
接着请参阅图20,其中图20表示本实用新型另一实施例的驱动机构1内部的磁铁M1、M2、M3固定于框架50上的示意图。如图20所示,在本实施例的驱动机构1中,磁铁M1、M2、M3可通过嵌入成形(insert molding)的方式固定于框架50的四个内侧面,其中两个磁铁M3是沿Z轴方向排列,并分别嵌入框架50的第一凹槽51以及第二凹槽52内,此外两个磁铁M3是被框架50的一肋部53所隔开。
再请参阅图21,其中图21表示本实用新型另一实施例的驱动机构1内部的磁铁M3固定于框架50上的示意图。如图21所示,在本实施例的驱动机构1中,两个磁铁M3是分别组装于框架50上的第一凹槽51以及第二凹槽52内,且在两个磁铁M3之间设有至少一导磁元件P2。
需特别说明的是,前述第一凹槽51以及第二凹槽52分别具有宽度W1、W2,其中宽度W1则大致等同于两个磁铁M3的长度,而宽度W2则大致等同于导磁元件P2的长度,其中宽度W2大于宽度W1。于组装时,可将上方的磁铁M3以及导磁元件P2置入宽度较第一凹槽51更大的第二凹槽52内,然后再施加胶水于磁铁M3两侧的间隙521,以确保磁铁M3和导磁元件P2可稳固地结合于框架50上的既定位置,从而能大幅提升组装精度及组装时的便利性。
综上所述,本实用新型各实施例中的磁铁M3可通过和线圈C22构成一驱动组件,以驱使可动模块相对于固定模块沿水平方向移动,其中由于磁铁M3具有偏离其下方线圈C22中心位置的特点,因此当两个以上的驱动机构1被应用于一多镜头摄像系统(multi-lenscamera system)时,可避免相邻驱动机构1内部的磁铁M3之间因太靠近所产生的磁干扰。举例而言,在驱动机构1内部可以仅设置一个磁铁M3,或者也可以沿垂直方向设置两个以上的磁铁M3,此外也可在磁铁M3表面设置一个或多个导磁元件P2并共同构成一驱动组件,从而能大幅提升驱动机构1以及多镜头摄像系统的整体效能。
虽然本实用新型的实施例及其优点已公开如上,但应该了解的是,任何所属技术领域中技术人员,在不脱离本实用新型的构思和范围内,当可作变动、替代与润饰。此外,本实用新型的保护范围并未局限于说明书内所述特定实施例中的制程、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤,任何所属技术领域中技术人员可从本实用新型公开内容中理解现行或未来所发展出的制程、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤,只要可以在此处所述实施例中实施大抵相同功能或获得大抵相同结果皆可根据本实用新型使用。因此,本实用新型的保护范围包括上述制程、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤。另外,每一权利要求构成个别的实施例,且本实用新型的保护范围也包括各个权利要求及实施例的组合。
虽然本实用新型已以优选实施例公开于上,然其并非用以限定本实用新型,任何熟习此项工艺者,在不脱离本实用新型的构思和范围内,当可作些许的变动与润饰,因此本实用新型的保护范围当视后附的权利要求所界定者为准。

Claims (22)

1.一种驱动机构,用以驱动一光学元件,其特征在于,包括:
一固定模块;
一可动模块,活动地连接该固定模块并承载该光学元件;以及
一驱动组件,设置于该固定模块以及该可动模块上,其中,该驱动组件包括一磁铁以及一线圈,该磁铁偏离该线圈的一中心位置,且该磁铁的一中心轴延伸经过该线圈的一部分,用以驱动该光学元件相对于该固定模块沿一第一轴向移动,其中,该中心轴垂直于该第一轴向。
2.如权利要求1所述的驱动机构,其特征在于,该固定模块具有一壳体,且该线圈具有一外侧段部以及一内侧段部,该外侧段部较该内侧段部更靠近该壳体,且该中心轴延伸经过该内侧段部。
3.如权利要求1所述的驱动机构,其特征在于,该磁铁设置于该可动模块上,该线圈设置于该固定模块上。
4.如权利要求1所述的驱动机构,其特征在于,该可动模块具有一承载件以及一框架,该承载件承载该光学元件并活动地连接该框架,且该框架活动地连接该固定模块,其中该磁铁固定于该框架上。
5.如权利要求1所述的驱动机构,其特征在于,该驱动组件还包括一导磁元件,设置于该磁铁的一侧。
6.如权利要求5所述的驱动机构,其特征在于,该磁铁较该导磁元件更接近该线圈。
7.如权利要求1所述的驱动机构,其特征在于,该驱动组件还包括两个磁铁,所述磁铁的磁极方向相同且沿一第二轴向排列,其中该第二轴向垂直于该第一轴向。
8.如权利要求7所述的驱动机构,其特征在于,该驱动组件还包括一导磁元件,设置于所述磁铁之间。
9.如权利要求8所述的驱动机构,其特征在于,该导磁元件凸出于所述磁铁的一侧。
10.如权利要求7所述的驱动机构,其特征在于,所述磁铁以及该导磁元件之间形成一凹槽。
11.如权利要求7所述的驱动机构,其特征在于,该驱动组件还包括多个导磁元件,设置于所述磁铁之间。
12.如权利要求7所述的驱动机构,其特征在于,该驱动组件还包括多个导磁元件,所述导磁元件与所述磁铁沿该第二轴向交错排列。
13.如权利要求7所述的驱动机构,其特征在于,该可动模块具有一承载件以及一框架,该承载件承载该光学元件并活动地连接该框架,且该框架活动地连接该固定模块,其中该框架形成有一第一凹槽、一第二凹槽以及一肋部,所述磁铁分别固定于该第一凹槽以及该第二凹槽内,且该肋部介于所述磁铁之间。
14.如权利要求7所述的驱动机构,其特征在于,该可动模块具有一承载件以及一框架,该承载件承载该光学元件并活动地连接该框架,且该框架活动地连接该固定模块,其中该框架形成有一第一凹槽以及一第二凹槽,所述磁铁分别固定于该第一凹槽以及该第二凹槽内,且该第二凹槽的宽度大于该第一凹槽的宽度。
15.如权利要求14所述的驱动机构,其特征在于,该驱动组件还包括一导磁元件,设置于所述磁铁之间且位于该第二凹槽内。
16.如权利要求15所述的驱动机构,其特征在于,该导磁元件的长度大于所述磁铁的长度。
17.如权利要求1所述的驱动机构,其特征在于,该驱动组件还包括两个线圈,分别设置于该可动模块以及该固定模块上,且位于该磁铁的两个相邻侧边。
18.如权利要求1所述的驱动机构,其特征在于,该驱动组件还包括两个线圈以及两个磁铁,所述线圈分别设置于该可动模块以及该固定模块上,且分别对应于所述磁铁,所述磁铁的磁极方向相同且沿一第二轴向排列,其中该第二轴向垂直于该第一轴向。
19.一种多镜头摄像系统,其特征在于,包括:
两个如权利要求1所述的驱动机构,其中,所述驱动机构呈四边形且并排设置,且所述驱动机构中的所述磁铁位于所述驱动机构彼此相邻的侧边。
20.一种多镜头摄像系统,其特征在于,包括:
一个如权利要求1所述的驱动机构;以及
一摄像单元,具有一光学镜头、多个磁性元件以及一绕线,其中所述磁性元件位于该摄像单元的角落处,且当该绕线被通入电流时,所述磁性元件和该绕线之间产生磁力以驱使该光学镜头移动;
其中,该驱动机构以及该摄像单元沿该第一轴向排列,且所述磁性元件和该磁铁于该第一轴向上不相互重叠。
21.如权利要求20所述的多镜头摄像系统,其特征在于,该磁铁具有一长轴方向,且该磁铁于该长轴方向上的长度小于所述磁性元件于该长轴方向上之间距。
22.一种多镜头摄像系统,其特征在于,包括:
四个如权利要求1所述的驱动机构,其中所述驱动机构呈四边形且以矩阵方式排列,其中每一该驱动机构中的该驱动组件还包括两个磁铁以及对应于所述磁铁的两个线圈,且所述磁铁分别偏离所述线圈的所述中心位置。
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