CN209242932U - 一种ovd沉积系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种OVD沉积系统，该装置包括沉积罩、芯棒、排气系统和至少一沉积喷灯组，所述沉积罩包括左右间隔设置的第一沉积罩和第二沉积罩，所述第一沉积罩与第二沉积罩形成沉积通道，所述芯棒设于所述沉积通道中并可绕自身轴向旋转，每一所述沉积喷灯组包括对称设于所述芯棒两侧的喷灯，每一所述沉积均用于向处于旋转中的所述芯棒喷射沉积料，所述排气系统包括与沉积通道的下端连通的排气通道，用于将沉积过程中产生的废气和废料排出。本实用新型的目的在于提供的OVD沉积系统，通过将传统沉积装置的上下结构转变为左右结构，解决了沉积过程中从沉积罩上剥落的碎片落到预制棒上的问题，实用性强。

Description

一种OVD沉积系统

技术领域

本实用新型涉及光纤预制棒研发和制造技术领域，具体涉及一种OVD沉积系统。

背景技术

在通信光纤的制备过程中，光纤预制棒的制备是其重要内容之一，外气相沉积法OVD是制作光纤预制棒的其中一种工艺，主要步骤为首先将原料掺杂剂以气态的形式送入喷灯，使其在火焰中发生化学反应，生成二氧化硅SiO₂(石英)玻璃微粒粉尘，然后经喷灯喷出，沉积在芯棒的外表层，一定时间后，芯棒逐渐形成具有一定尺寸的预制棒，最后，将预制棒在高温下脱水并烧结成透明的实心玻璃棒，即获得所需的光纤预制棒。

一般预制棒的沉积过程在沉积罩中进行，沉积罩呈上下结构，芯棒位于沉积罩的中间，而在实际操作过程中，沉积罩的内壁往往由于长时间的高温容易产生劣化而出现缝隙，继而导致碎片剥落，而位于芯棒上方的沉积罩剥落的碎片可能会落在正在沉积的预制棒的表面，影响预制棒的质量。而随着目前母材的大型化，增加了制造的时间，继而增加了沉积罩内壁的粉末附着量和受热时间，导致沉积罩的劣化更加显著，因此，产生的碎片可能会更多，严重影响了预制棒的质量。

实用新型内容

针对现有技术中存在的缺陷，本实用新型的目的在于提供一种OVD沉积系统，通过将传统沉积装置的上下结构转变为左右结构，解决了沉积过程中从沉积罩上剥落的碎片落到预制棒上的问题，实用性强。

为达到以上目的，本实用新型采取的技术方案是：

沉积罩，其包括左右间隔设置的第一沉积罩和第二沉积罩，所述第一沉积罩与第二沉积罩形成沉积通道；

横向设于所述沉积通道内并可绕自身轴向旋转的芯棒；

至少一沉积喷灯组，每一所述沉积喷灯组包括对称设于所述芯棒两侧的喷灯，每一所述喷灯均用于向所述芯棒喷射沉积料；

位于所述沉积罩下方的排气系统，所述排气系统包括与所述沉积通道下端连通的排气通道，所述排气通道用于将沉积过程中产生的废气和废料排出。

在上述技术方案的基础上，所述第一沉积罩和第二沉积罩尺寸一致且左右对称。

在上述技术方案的基础上，所述第一沉积罩和第二沉积罩靠近所述芯棒的一侧均为倾斜面，所述倾斜面朝外倾斜，且与水平面的夹角大于45°。

在上述技术方案的基础上，所述第一沉积罩与第二沉积罩的平均间距为500-600nm。

在上述技术方案的基础上，每一所述喷灯的喷灯口与所述芯棒的中心距离为100-150mm。

在上述技术方案的基础上，所述沉积系统还包括两个对称设于所述沉积通道前后侧的支撑架，每一所述支撑架上设有夹具，两个所述夹具用于所述芯棒沉积时端部的固定。

在上述技术方案的基础上，每一所述夹具均连接有旋转装置，所述旋转装置用于驱动所述夹具带动所述芯棒旋转。

在上述技术方案的基础上，所述排气通道上设有出料口。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

本实用新型提供了一种OVD沉积系统，沉积罩包括左右间隔设置的第一沉积罩和第二沉积罩，第一沉积罩与第二沉积罩形成沉积通道，芯棒横向设于沉积通道内，相比于传统沉积装置的上下结构，左右结构的沉积罩能有效的避免从沉积罩上剥落的碎片落到预制棒上的问题，同时，沉积期间多余的沉积料沿着重力方向落入到排气系统的底部，方便操作人员清理，另外在沉积过程中产生的废气也顺着位于下方的排气系统排出，结构合理，实用性强，解决了沉积装置不好清理，碎片易落在芯棒上而影响芯棒质量的问题。

附图说明

图1为本实用新型实施例中的OVD沉积系统的结构示意图；

图2为本实用新型实施例中的OVD沉积系统的侧视图。

图中：1-沉积罩，10-第一沉积罩，11-第二沉积罩，2-芯棒，30-喷灯，4-排气系统，40-排气通道，41-出料口，5-支撑架。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的实施例作进一步详细说明。

参见图1所示，本实用新型实施例提供一种OVD沉积系统，包括沉积罩1、芯棒2、排气系统4和至少一沉积喷灯组。具体的，沉积罩1包括左右间隔设置的第一沉积罩10和第二沉积罩11，第一沉积罩10与第二沉积罩11之间形成沉积通道；芯棒2横向设于沉积通道内并可绕自身轴向旋转，其中芯棒2与位于其两侧的第一沉积罩10和第二沉积罩11的侧面平行；在芯棒2的上方设有至少一沉积喷灯组，每一沉积喷灯组包括对称设于芯棒2两侧的喷灯30，喷灯30用于向芯棒2的外表面均匀喷射沉积料形成光纤预制棒；排气系统4位于沉积罩1的下方，排气系统4包括与沉积通道下端连通的排气通道40，排气通道40连通沉积通道的下端后，用于将沉积过程中沉积通道内产生的废气和废料排出系统。

参见图1所示，具体的，第一沉积罩10和第二沉积罩11尺寸一致，且呈左右对称，第一沉积罩10和第二沉积罩11中间的间隔空间形成沉积通道，沉积通道的宽度比芯棒2的长度大。相比于传统沉积装置的上下结构，左右结构的沉积罩1能有效的避免从沉积罩1的侧壁上剥落的碎片落到预制棒上，同时，沉积期间多余的沉积料沿着重力方向落入到排气系统4的底部，方便操作人员清理。为了方便芯棒2表面沉积料的沉积，使沉积时有足够大的操作空间，将第一沉积罩10和第二沉积罩11靠近芯棒2的一侧均设为倾斜面，倾斜面朝外倾斜，且与水平面的夹角大于45°。倾斜面的设置使得沉积通道的上半部分有较大的空间，且大于45°的倾斜面也有助于沉积罩1在长期高温环境下产生的碎片沿倾斜面顺利落入到位于下方的排气系统4内，结构合理。一般情况下，第一沉积罩10与第二沉积罩11的平均间距为500-600nm。

参见图1-图2所示，沉积罩1的上方设有用于向芯棒2表面喷射沉积料的喷灯30，由于芯棒2具有一定的长度，实际喷射沉积时，相应的根据实际芯棒2的长度可以配置多组喷灯组，其中，每一喷灯30的喷灯口与芯棒2的中心距离为100-150mm。

参见图1-图2所示，沉积系统还包括两个对称设于沉积通道前后侧的支撑架5，每一支撑架5上设有夹具，两个夹具用于芯棒2沉积时端部的固定，保证芯棒2能呈水平且平行于第一沉积罩10与第二沉积罩11的倾斜面的方向设于沉积通道内。另外，每一夹具均连接有旋转装置，旋转装置用于驱动夹具带动芯棒2旋转，保证芯棒2在沉积过程中的沉积均匀，旋转装置的转动速率会根据实际情况设置，以保证达到实际所需的沉积要求。

参见图1所示，排气通道40位于沉积罩1的下方，与沉积通道的下端连通，在沉积时，沉积通道内会产生化学反应，相应的会产生较多的酸性废气，因此在排气通道40的尾端出口处设有废气洗净塔，酸性废气被抽入排气通道40后，在废气洗净塔内进行中和，酸度减弱后再从尾端排出，减少有害气体的污染。另外，在排气通道40的底部设有出料口41，由于喷灯30在喷射时，会有少部分的沉积料附着在沉积罩1的内壁，时间较长之后也会形成碎片掉落，沉积时多余的沉积料在沉积时也会直接散落，最后由于重力作用均落在排气系统4底部，当落下的沉积料沉积到一定量之后，通过出料口41将散落的沉积料排出。

本实用新型不仅局限于上述最佳实施方式，任何人在本实用新型的启示下都可得出其他各种形式的产品，但不论在其形状或结构上作任何变化，凡是具有与本实用新型相同或相近似的技术方案，均在其保护范围之内。

Claims (8)

1.一种OVD沉积系统，其特征在于，其包括：

沉积罩(1)，其包括左右间隔设置的第一沉积罩(10)和第二沉积罩(11)，所述第一沉积罩(10)与第二沉积罩(11)形成沉积通道；

横向设于所述沉积通道内并可绕自身轴向旋转的芯棒(2)；

至少一沉积喷灯组，每一所述沉积喷灯组包括对称设于所述芯棒(2)两侧的喷灯(30)，每一所述喷灯(30)均用于向所述芯棒(2)喷射沉积料；

位于所述沉积罩(1)下方的排气系统(4)，所述排气系统(4)包括与所述沉积通道下端连通的排气通道(40)，所述排气通道(40)用于将沉积过程中产生的废气和废料排出。

2.如权利要求1所述的一种OVD沉积系统，其特征在于：所述第一沉积罩(10)和第二沉积罩(11)尺寸一致且左右对称。

3.如权利要求2所述的一种OVD沉积系统，其特征在于：所述第一沉积罩(10)和第二沉积罩(11)靠近所述芯棒(2)的一侧均为倾斜面，所述倾斜面朝外倾斜，且与水平面的夹角大于45°。

4.如权利要求3所述的一种OVD沉积系统，其特征在于：所述第一沉积罩(10)与第二沉积罩(11)的平均间距为500-600nm。

5.如权利要求1所述的一种OVD沉积系统，其特征在于：每一所述喷灯(30)的喷灯口与所述芯棒(2)的中心距离为100-150mm。

6.如权利要求1所述的一种OVD沉积系统，其特征在于：所述沉积系统还包括两个对称设于所述沉积通道前后侧的支撑架(5)，每一所述支撑架(5)上设有夹具，两个所述夹具用于所述芯棒(2)沉积时端部的固定。

7.如权利要求6所述的一种OVD沉积系统，其特征在于：每一所述夹具均连接有旋转装置，所述旋转装置用于驱动所述夹具带动所述芯棒(2)旋转。

8.如权利要求1所述的一种OVD沉积系统，其特征在于：所述排气通道(40)上设有出料口(41)。