CN209098803U - 一种输送辊装置及真空镀膜系统的料带输送装置 - Google Patents
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Abstract
一种输送辊装置及真空镀膜系统的料带输送装置，涉及真空镀膜技术领域，输送辊装置包括辊体和辊轴，所述辊体内部设有第一空腔，所述辊轴内部设有第二空腔，所述第一空腔和所述第二空腔两者之间通过隔离部隔离开。所述真空镀膜系统的料带输送装置包括反应腔室、所述的输送辊装置和密封装置，所述输送辊装置用于向所述反应腔室内输送料带，所述输送辊装置的辊轴转动连接在所述反应腔室上，所述密封装置设置为将所述输送辊装置的辊轴与所述反应腔室之间的孔隙密封。本实用新型的输送辊装置可防止辊体发生热膨胀而变形，并可使辊体和辊轴两部分分别满足不同的温度需要。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种输送辊装置及真空镀膜系统的料带输送装置。
背景技术
真空镀膜系统中，料带经过实心结构的输送辊输送至反应腔室进行镀膜，通常在镀膜后料带的温度会急剧升高，料带温度剧升后产生的热量会传导至不锈钢输送辊上使输送辊的温度同步升高，持续的高温下热量会在输送辊内部积聚使其产生热膨胀现象，外观看似挤成“水桶状”，尺寸将产生偏差，这会造成腔体和磁流体的配合上出现误差，机械传动的负载加大和使用寿命缩短，并且辊体的“水桶状”中间膨胀部分会将与其接触的平行前进的料带向外撑开，撑开的料带会在其表面形成裂纹等缺陷，导致产品良率降低。
实用新型内容
针对上述技术问题，本实用新型一实施例提供一种输送辊装置，包括辊体和辊轴，所述辊体内部设有第一空腔，所述辊轴内部设有第二空腔，所述第一空腔和所述第二空腔两者之间通过隔离部隔离开。
本实用新型一实施例还提供一种真空镀膜系统的料带输送装置，包括反应腔室、所述的输送辊装置和密封装置，所述输送辊装置用于向所述反应腔室内输送料带，所述输送辊装置的辊轴转动连接在所述反应腔室上，所述密封装置设置为将所述输送辊装置的辊轴与所述反应腔室之间的孔隙密封。
有益效果：
本实用新型一实施例的输送辊装置，辊体内部设置的第一空腔可减少热量在辊体内部集聚，防止辊体发生热膨胀而变形。隔离部的设置可减少热量在辊体的第一空腔所在部分和辊轴的第二空腔所在部分之间传导，可使所述辊体和辊轴的两部分分别满足不同的温度需要。第二空腔的设置可便于向辊轴内部通入冷却介质以实现对辊轴所在部分降温。
附图说明
附图用来提供对本实用新型实施例技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型实施例的技术方案，并不构成对本实用新型实施例技术方案的限制。
图1为本实用新型一实施例的输送辊装置的结构示意图；
图2为本实用新型一实施例的真空镀膜系统的料带输送装置的结构示意图；
附图标记为：1、第二空腔，2、辊轴，3、隔离部，4、辊体，5、第一空腔，6、散热孔，7、输出管道，8、箱体，9、密封装置，10、反应腔室，11、输入管道，12、轴承，13、料带。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。
如图1～2所示，本实用新型的一实施例提供一种输送辊装置，包括辊体4和辊轴2，所述辊体4内部设有第一空腔5，所述辊轴2内部设有第二空腔1，所述第一空腔5和所述第二空腔1两者之间通过隔离部3隔离开。
通过隔离部3的设置，可使所述辊体4的第一空腔5所在部分和辊轴2的第二空腔1所在部分隔离开，减少两部分之间热量的传导，可使所述辊体4和辊轴2的两部分分别满足不同的温度需要。
在一示例性实施例中，所述输送辊装置的辊体4和辊轴2为一体结构，所述隔离部3为辊体4或辊轴2的一部分，隔离部3部分为实心结构。或者所述隔离部3是连接在所述辊体4或辊轴2上的一个部件，该部件为实心结构，该部件可采用隔热材料制成，可进一步减少所述辊体4和辊轴2两部分之间的热量传递。
在输送辊装置输送较高温度的物料时，物料的温度会传递至辊体4，辊体4内部设置的第一空腔5可减少热量在辊体4内部集聚，防止辊体4发生热变形，影响物料的质量。进一步地，所述辊体4上设有至少一个散热孔6，所述散热孔6将所述第一空腔5与辊体4外部连通。散热孔6的数目可以是多个，可根据需要设置。散热孔6可将所述第一空腔5内的热量散发至辊体4外部，进一步防止因热量在第一空腔5内集聚而引起的辊体4变形。
在输送辊装置输送较高温度的物料时，为使辊体4的温度不传递至辊轴2，防止过高温度对辊轴2附近的其他部件造成不好影响，需对辊轴2的温度进行降温。本实施例中，所述输送辊装置还包括冷却装置，所述冷却装置设置为对所述辊轴2进行冷却，所述冷却装置的冷却方式不限，可以采用冷却介质直接或间接冷却，也可以采用半导体制冷方式冷却。
作为一种实施方式，所述冷却装置包括用于向所述第二空腔1内输入冷却介质的输入管道11和用于将所述第二空腔1内的冷却介质输出的输出管道7。具体实施中，所述冷却装置还包括一箱体8，所述箱体8与所述辊轴2的端部转动连接，所述第二空腔1设有位于所述辊轴2端部的开口，所述第二空腔1的开口与所述箱体8的内部空间连通，所述输出管道7的输出口连通至所述箱体8的内部。输送至所述第二空腔1内的冷却介质从辊轴2端部的第二空腔1的开口流至所述箱体8内，后经所述输出管道7的输出口输出箱体8外部。通过向辊轴2的第二空腔1内注入冷却介质，实现了对辊轴2的降温。
为使冷却介质在第二空腔1内尽可能停留较长时间，提高冷却效果，所述输入管道11的输入口位于所述第二空腔1内远离所述开口的一端。如此，从输入管道11的输入口流入第二空腔1内的冷却介质需流经整个第二空腔1后才能从第二空腔1的开口流出，增加了冷却介质在第二空腔1内的停留时间。
具体实施中，所述箱体8与所述辊轴2的端部通过一连接件转动连接，所述连接件内部设有将所述第二空腔1的开口与所述箱体8的内部空间连通的通道，所述辊轴2端部的第二空腔1的开口处设有内螺纹，所述连接件的通道的一端口设有外螺纹，该端口螺纹连接于所述辊轴2端部的第二空腔1的开口上，所述连接件的外侧壁通过轴承12转动连接在所述箱体8一侧设置的安装口处，所述连接件的通道的另一端口连通至所述箱体8内部。如此，在所述辊轴2转动过程中，带动所述连接件同步转动，而所述箱体8可保持不动，从而便于输入管道11和输出管道7的布置。
本实用新型的一实施例还提供一种真空镀膜系统的料带输送装置，包括反应腔室10、所述的输送辊装置和密封装置9，所述输送辊装置用于向所述反应腔室10内输送料带13，所述输送辊装置的辊轴2转动连接在所述反应腔室10上，所述密封装置9设置为将所述输送辊装置的辊轴2与所述反应腔室10之间的孔隙密封。
所述反应腔室10内为真空状态，为保证密封效果，所述密封装置9采用磁流体密封装置。所述磁流体密封装置套设在所述辊轴2上，并将所述辊轴2与所述反应腔室10之间的孔隙进行密封。
本实施例的真空镀膜系统在镀膜过程中，料带13经所述输送辊装置连续地送至所述反应腔室10内进行镀膜，料带13和输送辊均采用不锈钢材质，若采用溅射镀膜法，料带13在镀膜后其温度可达到220°左右，220°左右的料带13会将大部分热量持续传导到输送辊的辊体4上，导致辊体4温度维持在210°左右。辊体4内部设置的第一空腔5可减少热量在辊体4内部聚集，防止了辊体4发生热膨胀而造成的料带13产生裂纹等缺陷。冷却装置向辊轴2的第二空腔1内通过冷却介质，实现对辊轴2所在部分进行降温，使得辊轴2的温度不致过高，从而不会对磁流体密封装置造成损害，保证了磁流体密封装置能够在其允许的温度下工作，保证了磁流体密封装置的密封效果。隔离部3的设置使得辊轴2处于冷却情况下时，辊体4的温度不会大幅降低，从而使得较高温度的料带13与辊体4表面接触时料带13的温度不会发生骤降，从而不会导致料带13表面出现褶皱或者产品报废现象。
Claims (10)
1.一种输送辊装置，其特征在于：包括辊体和辊轴，所述辊体内部设有第一空腔，所述辊轴内部设有第二空腔，所述第一空腔和所述第二空腔两者之间通过隔离部隔离开。
2.如权利要求1所述的输送辊装置，其特征在于：所述辊体上设有至少一个散热孔，所述散热孔将所述第一空腔与辊体外部连通。
3.如权利要求1所述的输送辊装置，其特征在于：所述输送辊装置还包括冷却装置，所述冷却装置设置为对所述辊轴进行冷却。
4.如权利要求3所述的输送辊装置，其特征在于：所述冷却装置包括用于向所述第二空腔内输入冷却介质的输入管道和用于将所述第二空腔内的冷却介质输出的输出管道。
5.如权利要求4所述的输送辊装置，其特征在于：所述冷却装置还包括一箱体，所述箱体与所述辊轴的端部转动连接，所述第二空腔设有位于所述辊轴端部的开口，所述第二空腔的开口与所述箱体的内部空间连通，所述输出管道的输出口连通至所述箱体的内部。
6.如权利要求5所述的输送辊装置，其特征在于：所述输入管道的输入口位于所述第二空腔内远离所述开口的一端。
7.如权利要求5所述的输送辊装置，其特征在于：所述箱体与所述辊轴的端部通过一连接件转动连接，所述连接件固接于所述辊轴上，并与所述箱体之间通过轴承转动连接，所述连接件内部设有将所述第二空腔的开口与所述箱体的内部空间连通的通道。
8.如权利要求7所述的输送辊装置，其特征在于：所述通道的一端口与所述辊轴端部的开口螺纹连接，所述通道的另一端口连通至所述箱体内部。
9.一种真空镀膜系统的料带输送装置，其特征在于：包括反应腔室、权利要求1～8任一项所述的输送辊装置和密封装置，所述输送辊装置用于向所述反应腔室内输送料带，所述输送辊装置的辊轴转动连接在所述反应腔室上，所述密封装置设置为将所述输送辊装置的辊轴与所述反应腔室之间的孔隙密封。
10.如权利要求9所述的真空镀膜系统的料带输送装置，其特征在于：所述密封装置为磁流体密封装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201821647564.4U CN209098803U (zh) | 2018-10-11 | 2018-10-11 | 一种输送辊装置及真空镀膜系统的料带输送装置 |
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| CN (1) | CN209098803U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110629172A (zh) * | 2019-10-17 | 2019-12-31 | 黄海山 | 一种电容器金属化薄膜加工真空镀膜机 |
| CN110813209A (zh) * | 2019-11-25 | 2020-02-21 | 崔秋生 | 一种用于芳构化过程中脱氯脱硫装置及其使用方法 |
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2018
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