CN209069012U - 箱式真空炉降温系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种箱式真空炉降温系统,包括有四周通过连接块相固定连接的上承板和下衬板,上承板与下衬板之间设置有呈间隔分布的多个导热块,多个导热块分别紧贴上承板,有冷却管从上承板和下衬板的一侧引入,并呈S形依次绕过多个导热块后,从上承板和下衬板的另一侧引出。本实用新型结构简单,采用接触式的热传导方式,在工件降温的过程中引入冷却介质,能够快速换走工件的热量,实现了快速降温,提高了降温速率,从而提高了生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及箱式真空炉领域,具体是一种箱式真空炉降温系统。
背景技术
箱式真空炉是半导体产品生产过程中所使用的常见设备之一。由于在真空环境下,加热体及工件(产品)的降温速率极慢,降温时间太长,使得生产效率较低。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种箱式真空炉降温系统,在工件降温的过程中引入冷却介质,能够快速换走工件的热量,以实现快速降温的目的。
本实用新型的技术方案如下:
一种箱式真空炉降温系统,包括有四周通过连接块相固定连接的上承板和下衬板,其特征在于:所述的上承板与所述下衬板之间设置有呈间隔分布的多个导热块,所述的多个导热块分别紧贴所述上承板,有冷却管从所述上承板和下衬板的一侧引入,并呈S形依次绕过所述的多个导热块后,从所述上承板和下衬板的另一侧引出。
所述的箱式真空炉降温系统,其特征在于:所述的上承板和下衬板设置于箱式真空炉的真空腔室内。
所述的箱式真空炉降温系统,其特征在于:所述冷却管的引入、引出部位分别设有密封圈。
所述的箱式真空炉降温系统,其特征在于:所述的冷却管中流通有冷却介质。
本实用新型的有益效果:
本实用新型结构简单,采用接触式的热传导方式,在工件降温的过程中引入冷却介质,能够快速换走工件的热量,实现了快速降温,提高了降温速率,从而提高了生产效率。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图。
图2为图1中A-A向结构示意图。
具体实施方式
参见图1、2,一种箱式真空炉降温系统,包括有四周通过连接块相固定连接的上承板1和下衬板2,上承板1与下衬板2之间设置有呈间隔分布的多个导热块3,多个导热块3分别紧贴上承板1,有冷却管4从上承板1和下衬板2的一侧引入,并呈S形依次绕过多个导热块3后,从上承板1和下衬板2的另一侧引出。
本实用新型中,上承板1和下衬板2设置于箱式真空炉的真空腔室内。
冷却管4的引入、引出部位分别设有密封圈。
冷却管4中流通有冷却介质(冷却水或液氮等)。
以下结合附图对本实用新型作进一步的说明:
在工件降温的过程中,由冷却管4引入冷却介质,通过多个导热块3对上承板1进行换热,从而通过接触式的热传导方式快速换走上承板1上工件的热量,实现了快速降温。
以上的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方案进行描述,并非对本实用新型的保护范围进行限定,在不脱离本实用新型设计精神的前提下,本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案作出的变形和改进,均应落入本实用新型的保护范围内。
Claims (4)
1.一种箱式真空炉降温系统,包括有四周通过连接块相固定连接的上承板和下衬板,其特征在于:所述的上承板与所述下衬板之间设置有呈间隔分布的多个导热块,所述的多个导热块分别紧贴所述上承板,有冷却管从所述上承板和下衬板的一侧引入,并呈S形依次绕过所述的多个导热块后,从所述上承板和下衬板的另一侧引出。
2.根据权利要求1所述的箱式真空炉降温系统,其特征在于:所述的上承板和下衬板设置于箱式真空炉的真空腔室内。
3.根据权利要求1所述的箱式真空炉降温系统,其特征在于:所述冷却管的引入、引出部位分别设有密封圈。
4.根据权利要求1所述的箱式真空炉降温系统,其特征在于:所述的冷却管中流通有冷却介质。
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CN201821844205.8U CN209069012U (zh) | 2018-11-09 | 2018-11-09 | 箱式真空炉降温系统 |
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CN201821844205.8U Active CN209069012U (zh) | 2018-11-09 | 2018-11-09 | 箱式真空炉降温系统 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN111624093A (zh) * | 2020-07-08 | 2020-09-04 | 重庆渝微电子技术研究院有限公司 | 二维柔性材料测试系统 |
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2018
- 2018-11-09 CN CN201821844205.8U patent/CN209069012U/zh active Active
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