CN209045497U - 一种可调节流量的清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种可调节流量的清洗装置，包括主管道、第一支管道和第二支管道，所述主管道的第二端分别与所述第一支管道的第一端和所述第二支管道的第一端连通，所述主管道上设置有第一阀门，所述第一支管道的第二端设置有第一喷嘴，所述第二支管道的第二端设置有第二喷嘴，所述第一支管道还包括第二阀门，所述第二阀门设置在所述第一支管道的第一端。其优点在于，通过在第一支管道设置第二阀门，能够有效调节第一支管道的清洗水的流量，从而避免晶圆的晶面承受大流量的水压冲击，进而消除由喷嘴形状造成的晶圆表面缺陷，提高晶圆产品良率，降低生产成本。

Description

一种可调节流量的清洗装置

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种可调节流量的清洗装置。

背景技术

在半导体制造过程中，晶圆的清洗是一道非常重要且要求较高的工艺。现有的化学机械研磨(Chemical Mechanical Polish，CMP)机台基本带有清洗和干燥功能。对研磨后的晶圆进行清洗以及干燥，以便在后续工序继续对晶圆进行处理。清洗晶圆的主要目的是去除研磨后的留在晶圆表面的残余物，以便更有效地进行后续工序处理。

现有的清洗方式为使用清洗水对晶圆的正面和背面同时进行高压清洗水冲洗，以便高效地去除残余物。

如图1所示，现有的清洗装置包括主管道1、第一支管道2和第二支管道3，在第一支管道2和第二支管道3的末端分别设置有第一喷嘴5和第二喷嘴6，并且主管道1上设置有控制清洗水的第一阀门4。由于第一阀门4仅控制主管道1的开闭，使得第一支管道2和第二支管道3的流量相同，进而导致第一喷嘴5对晶圆正面清洗时，由于压力过高，导致晶圆表面出现与第一喷嘴5形状相同的缺陷，进而降低晶圆良率，提高生产成本。

因此，亟需一种能够避免高压大流量的清洗水对晶圆正面冲击的清洗装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术中的不足，提供一种可调节流量的清洗装置。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案是：

一种可调节流量的清洗装置，应用于晶圆清洗，包括主管道、第一支管道和第二支管道，所述主管道的第二端分别与所述第一支管道的第一端和所述第二支管道的第一端连通，所述主管道上设置有第一阀门，所述第一支管道的第二端设置有第一喷嘴，所述第二支管道的第二端设置有第二喷嘴，

所述第一支管道还包括第二阀门，所述第二阀门设置在所述第一支管道的第一端。

优选地，所述第一支管道还包括第一流量检测装置，所述第一流量检测装置设置在所述第二阀门与所述第一喷嘴之间。

优选地，所述第一流量检测装置为流量计。

进一步地，所述第二阀门为电磁阀。

进一步地，所述第二阀门为手动阀。

优选地，所述第二支管道还包括第三阀门，所述第三阀门设置在所述第二支管道的第一端。

优选地，所述第二支管道还包括第二流量检测装置，所述第二流量检测装置设置在所述第三阀门和所述第二喷嘴之间。

优选地，所述第二流量检测装置为流量计。

优选地，所述第一喷嘴包括复数个第一小喷嘴，复数个第一小喷嘴在所述第一喷嘴上环形对称设置。

优选地，所述第一喷嘴包括六个所述第一小喷嘴，六个所述第一小喷嘴呈环形对称设置。

优选地，所述第一喷嘴包括七个所述第一小喷嘴，其中，六个所述第一小喷嘴呈环形对称设置，剩余的一个所述第一小喷嘴设置在所述第一喷嘴的中心。

优选地，所述第二喷嘴包括复数个第二小喷嘴，复数个第二小喷嘴在所述第二喷嘴上环形对称设置。

优选地，所述第二喷嘴包括六个所述第二小喷嘴，六个所述第二小喷嘴呈环形对称设置。

优选地，所述第二喷嘴包括七个所述第二小喷嘴，其中，六个所述第二小喷嘴呈环形对称设置，剩余的一个所述第二小喷嘴设置在所述第二喷嘴的中心。

本实用新型采用以上技术方案，与现有技术相比，具有如下技术效果：

本实用新型的一种可调节流量的清洗装置，通过在第一支管道设置第二阀门，能够有效调节第一支管道的清洗水的流量，从而避免晶圆的晶面承受大流量的水压冲击，进而消除由喷嘴形状造成的晶圆表面缺陷，提高晶圆产品良率，降低生产成本。

附图说明

图1是现有技术的清洗装置。

图2是本实用新型的一个示意性实施例的清洗装置的示意图。

图3是本实用新型的一个示意性实施例的第一喷嘴的示意图。

图4是本实用新型的一个示意性实施例的第二喷嘴的示意图。

图5是本实用新型的一个优选实施例的清洗装置的示意图。

图6是本实用新型的一个优选实施例的第一喷嘴的示意图。

图7是本实用新型的一个优选实施例的第二喷嘴的示意图。

其中的附图标记为：主管道1；第一支管道2；第二支管道3；第一阀门4；第一喷嘴5；第二喷嘴6；第二阀门7；第一流量检测装置8；第一小喷嘴9；第二小喷嘴10；第三阀门11；第二流量检测装置12。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，但不作为本实用新型的限定。

实施例1

本实施例为本实用新型的一个示意性实施例，如图2所示，一种可调节流量的清洗装置，包括主管道1、第一支管道2和第二支管道3，主管道1的第二端分别与第一支管道2和第一端和第二支管道3的第二端连通。

在主管道1上设置有第一阀门4，用于控制主管道1的开闭，以使清洗水是否从主管道1分别向第一支管道2和第二支管道3流通。

在第一支管道2上，设置有第一喷嘴5和第二阀门7，第一喷嘴5设置在第一支管道2的第二端，第二阀门7设置在第一支管道2的第一端，第二阀门7用于控制主管道1向第一支管道2内流通的清洗水的流量。

进一步地，第二阀门7为电磁阀或手动阀，能够进行流量调节。

第一喷嘴5包括复数个(至少两个)第一小喷嘴9，复数个第一小喷嘴9在第一喷嘴5的表面环形对称设置。

进一步地，如图3所示，第一喷嘴5包括六个第一小喷嘴9，六个第一小喷嘴9呈环形对称设置在第一喷嘴5的表面，相邻两个第一小喷嘴9之间形成的圆心角为60°。

在第二支管道3上，设置有第二喷嘴6，第二喷嘴6设置在第二支管道3的第二端。

第一喷嘴5和第二喷嘴6相对对称设置。

第二喷嘴6包括复数个(至少两个)第二小喷嘴10，复数个第二小喷嘴10在第二喷嘴6的表面环形对称设置。

进一步地，如图4所示，第二喷嘴6包括六个第二小喷嘴10，六个第二小喷嘴10呈环形对称设置在第二喷嘴6的表面，相邻两个第二小喷嘴10之间形成的圆心角为60°。

进一步地，第一支管道2上还设置有第一流量检测装置8，第一流量检测装置8设置在第二阀门7与第一喷嘴5之间，用于检测第一支管道2内的清洗水的流量。

进一步地，第一流量检测装置8为流量计。

本实施例的使用方法如下：开启第一阀门4，使清洗水从主管道1分别流入第一支管道2和第二支管道3；缓慢开启第二阀门7，根据第一流量检测装置8的示数对第二阀门7的开启程度进行调节，待第一流量检测装置8的示数到达预期数值并稳定后；将晶圆送入清洗装置进行清洗，清洗水通过第一喷嘴5对晶圆的正面进行清洗，清洗水通过第二喷嘴6对晶圆的背面进行清洗；晶圆清洗结束，依次关闭第一阀门4和第二阀门7。

本实施例的优点在于，通过第二阀门，可以实时调整第一支管道内的清洗水的流量，避免晶圆的正面受到大流量的高压清洗水的冲击，从而减少晶圆正面的缺陷，提高晶圆产品良率，降低生产成本。

实施例2

本实施例为本实用新型的一个优选实施例，本实施例与实施例1的区别在于：第二支管道3上设置有第三阀门11和第二流量检测装置12。

如图5所示，一种可调节流量的清洗装置，包括主管道1、第一支管道2和第二支管道3，主管道1的第二端分别与第一支管道2和第一端和第二支管道3的第二端连通。

其中，主管道1和第一支管道2的结构和连接方式同实施例1，在此不再赘述。

在第二支管道3上，设置有第三阀门11，第三阀门11设置在第二支管道3的第一端，第三阀门11用于控制主管道1向第二支管道3内流通的清洗水的流量。

进一步地，第二支管道3为电磁阀或手动阀，能够进行流量调节。

进一步地，第二支管道3上还设置有第二流量检测装置12，第二流量检测装置12设置在第三阀门11与第二喷嘴6之间，用于检测第二支管道3内的清洗水的流量。

进一步地，第二流量检测装置12为流量计。

在本实施例中，如图6所示，第一喷嘴5包括七个第一小喷嘴9，其中，六个第一小喷嘴9呈环形对称设置在第一喷嘴5的表面，相邻两个第一小喷嘴9之间形成的圆心角为60°，剩余的一个第一小喷嘴9设置在第一喷嘴5的中心，即六个第一小喷嘴9形成的环形的圆心。

如图7所示，第二喷嘴6包括七个第二小喷嘴10，其中，六个第二小喷嘴10呈环形对称设置在第二喷嘴6的表面，相邻两个第二小喷嘴10之间形成的圆心角为60°，剩余的一个第二小喷嘴10设置在第二喷嘴6的中心，即六个第二小喷嘴10形成的环形的圆心。

本实施例的使用方法同实施例1，并进一步地包括通过第三阀门11调节第二支管道3的清洗水的流量。

本实施例的优点在于，可以对晶圆的正面和背面的清洗水流量进行调节，以避免在晶圆的正面和背面因大流量清洗水的冲击形成缺陷。

以上所述仅为本实用新型较佳的实施例，并非因此限制本实用新型的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本实用新型说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本实用新型的保护范围内。

Claims (10)

1.一种可调节流量的清洗装置，应用于晶圆清洗，包括主管道(1)、第一支管道(2)和第二支管道(3)，所述主管道(1)的第二端分别与所述第一支管道(2)的第一端和所述第二支管道(3)的第一端连通，所述主管道(1)上设置有第一阀门(4)，所述第一支管道(2)的第二端设置有第一喷嘴(5)，所述第二支管道(3)的第二端设置有第二喷嘴(6)，其特征在于，

所述第一支管道(2)还包括第二阀门(7)，所述第二阀门(7)设置在所述第一支管道(2)的第一端。

2.根据权利要求1所述的可调节流量的清洗装置，其特征在于，所述第一支管道(2)还包括第一流量检测装置(8)，所述第一流量检测装置(8)设置在所述第二阀门(7)与所述第一喷嘴(5)之间。

3.根据权利要求1所述的可调节流量的清洗装置，其特征在于，所述第二支管道(3)还包括第三阀门(11)，所述第三阀门(11)设置在所述第二支管道(3)的第一端。

4.根据权利要求3所述的可调节流量的清洗装置，其特征在于，所述第二支管道(3)还包括第二流量检测装置(12)，所述第二流量检测装置(12)设置在所述第三阀门(11)和所述第二喷嘴(6)之间。

5.根据权利要求1所述的可调节流量的清洗装置，其特征在于，所述第一喷嘴(5)包括复数个第一小喷嘴(9)，复数个第一小喷嘴(9)在所述第一喷嘴(5)上环形对称设置。

6.根据权利要求5所述的可调节流量的清洗装置，其特征在于，所述第一喷嘴(5)包括六个所述第一小喷嘴(9)，六个所述第一小喷嘴(9)呈环形对称设置。

7.根据权利要求5所述的可调节流量的清洗装置，其特征在于，所述第一喷嘴(5)包括七个所述第一小喷嘴(9)，其中，六个所述第一小喷嘴(9)呈环形对称设置，剩余的一个所述第一小喷嘴(9)设置在所述第一喷嘴(5)的中心。

8.根据权利要求1所述的可调节流量的清洗装置，其特征在于，所述第二喷嘴(6)包括复数个第二小喷嘴(10)，复数个第二小喷嘴(10)在所述第二喷嘴(6)上环形对称设置。

9.根据权利要求8所述的可调节流量的清洗装置，其特征在于，所述第二喷嘴(6)包括六个所述第二小喷嘴(10)，六个所述第二小喷嘴(10)呈环形对称设置。

10.根据权利要求8所述的可调节流量的清洗装置，其特征在于，所述第二喷嘴(6)包括七个所述第二小喷嘴(10)，其中，六个所述第二小喷嘴(10)呈环形对称设置，剩余的一个所述第二小喷嘴(10)设置在所述第二喷嘴(6)的中心。