CN208964585U - 印染废水电解-光氧化处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种印染废水电解‑光氧化处理装置，包括电解单元与光催化氧化处理单元，电解单元与光催化氧化处理单元之间设有调节储水池，光催化氧化处理单元包括若干光催化氧化处理池。光催化氧化处理池包括一两端具有转轴的照射筒、照射筒整体密封，其内部装设有紫外灯、其外侧装设有若干采用半导体材料制作而成的叶片。叶片上开设有若干扁形的通水孔，相邻两个叶片的通水孔位置错开。本实用新型以紫外灯作为旋转中心、将半导体作为叶片使其围绕紫外灯做转动，通过叶片的转动带动池内的废水搅拌，从而使废水与半导体得以充分接触、加快废水处理速度，确保废水与半导体充分接触并反应。

Description

印染废水电解-光氧化处理装置

技术领域

本实用新型属于废水处理领域，具体地讲是一种印染废水的电解-光氧化处理装置。

背景技术

印染废水是加工棉、麻、化学纤维及其混纺产品为主的印染厂排出的废水。印染废水有机污染物含量高、色度深、脱色困难，因此印染废水的脱色效果是废水处理的关键指标之一。

目前国内主流的印染废水处理装置采用“水解一好氧”生物处理工艺与电解-光催化氧化处理工艺：“水解一好氧”生物处理工艺能够将废水中难以降解的有机物进行水解，生成为较易生物降解的物质，改善废水的可生物降解性，再由生物处理，从而提高传统流程的COD去除率。但水解方法对水量的需求量十分之大，并且水解工艺要求也较高，操作性较为复杂。而生物处理工艺的成本高、时间长。

电解-光催化氧化处理工艺能够大大缩短废水的处理时间，同时又能够保证处理效果。但普遍在使用光氧化催化处理装置处理仍然较慢，且存在催化氧化不均匀而导致废水处理不净的问题。

基于此，提出本案申请。

发明内容

为解决现有电解-光催化氧化处理工艺中光氧化催化装置效率低、处理不均匀的问题，本实用新型提供一种印染废水电解-光氧化处理装置，能够在缩短废水处理时间，并避免因光催化氧化过程不充分而影响废水处理效果。

为实现上述目的，本实用新型采用的方案如下：印染废水的电解-光氧化处理装置，包括电解单元与光催化氧化处理单元，电解单元与光催化氧化处理单元之间设有一调节储水池，调节储水池的入水口与电解单元的出水口连通；调节储水池的出口口与光催化氧化处理单元的入水口连通；光催化氧化处理单元包括若干光催化氧化处理池。光催化氧化处理池包括一两端具有转轴的照射筒、照射筒整体密封，其内部装设有紫外灯、其外侧装设有若干采用半导体材料制作而成的叶片。叶片上开设有若干扁形的通水孔；相邻两个叶片的通水孔位置错开。照射筒转动竖直固定于水池中，其顶端的转轴与一驱动电机联动。

本实用新型进一步设置如下：在光催化氧化处理池的侧壁设有均匀分布的若干紫外灯。

本实用新型进一步设置如下：光催化氧化处理池的侧壁及底面设有反光镜片。

本实用新型进一步设置如下：光催化氧化处理池的底部中心、中部两处对称的侧壁上设有曝气头。

本实用新型进一步设置如下：光催化氧化处理池的侧壁上的曝气头的朝向背向叶片的旋转朝向、并与光催化氧化处理池的侧壁相交20~60°、朝上倾斜10~45°。

本实用新型进一步设置如下：电解单元包括电解池，电解池中均匀分布有若干阳极与阴极。

本实用新型进一步设置如下：若干光催化氧化处理池分为并联的若干一级光催化氧化处理单元与与一级光催化氧化处理单元串联的二级催化氧化处理单元，所有二级催化氧化处理单元的出水口共同连接于一排水管上。

本实用新型技术效果如下：本实用新型以紫外灯作为旋转中心、将半导体作为叶片使其围绕紫外灯做转动，从而使废水与半导体得以充分接触，通过叶片的转动带动池内的废水搅拌，使各处废水能够在叶片旋转下搅拌均匀，另所有废水均能够与半导体接触并发生反应，从而避免部分废水无法与半导体接触而导致废除处理不充分的情况出现，确保废除处理效果。并且，还能够加快废水处理速度。

本实用新型通过将若干光氧化催化池划分为一级、二级光催化氧化单元，使废水先于一级光催化氧化单元中反应后，再进入二级光催化氧化单元中进行反应，以进一步使废水与半导体充分接触并反应。

附图说明

图1为本实用新型具体实施例光催化氧化装置整体示意图。

图2为本实用新型具体实施例光催化氧化装置爆炸图。

图3为本实用新型具体实施例光催化氧化装置俯角示意图。

图4为本实用新型具体实施例光催化氧化装置俯视图。

图5为本实用新型具体实施例光催化氧化装置剖面示意图。

图6为本实用新型具体实施例整体原理框图。

图中所示：1—光催化氧化处理池，2—固定架，3—半导体叶片，4—照射筒，5—第二紫外灯，6—曝气头，7—电机，301—通水孔，401—上转轴，402—第一紫外灯，403—下转轴，101—底座。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

实施例1

本实施例印染废水的电解-光氧化处理装置，包括电解单元与光催化氧化处理单元，电解单元与光催化氧化处理单元之间设有一调节储水池，调节储水池的入水口与电解单元的出水口之间通过管道一连通，管道一上设有电磁流量阀控制管道一的流量与开/闭。调节储水池的出水口与光催化氧化处理单元的入水口连通。电解单元包括电解池，电解池中均匀分布有若干阳极与阴极。

光催化氧化处理单元包括若干光催化氧化处理池，划分为并联的若干一级光催化氧化处理单元和与一级光催化氧化处理单元串联的二级光催化氧化处理单元，所有二级光催化氧化处理单元的出水口共同连接于一排水管上。一级光催化氧化处理单元的入水口与调节储水池的出水口之间各设有管道二连通，管道二上设有电磁流量阀控制管道流量与开闭。

光催化氧化处理池包括一两端具有转轴的照射筒、照射筒整体密封，其内部装设有第一紫外灯、其外侧装设有若干采用半导体材料制作而成的叶片。叶片上开设有若干扁形的通水孔，相邻两个叶片的通水孔位置错开。照射筒转动竖直固定于水池中，其顶端的转轴与一驱动电机联动。当驱动电机驱动照射筒转动时，固定于照射筒上的叶片跟随照射筒一并转动，并搅动光催化氧化处理池内的废水流动。在叶片旋转过程中，水流从叶片的通水孔中通过，由于相邻两个叶片的桶水孔错开设置，因此从上一叶片的通水孔中通过水流在碰触到下一叶片时被阻挡而使叶片与叶片之间的废水激荡，进一步使各处的废水混合均匀。

为进一步使半导体在转动过程中能够充分受到紫外灯的照射，本实施例在光催化氧化处理池的侧壁设置了四个均匀分布的第二紫外灯。同时，在光催化氧化处理池的侧壁及底面设置了反光镜片，反光镜片能够将第二紫外灯与第一紫外灯发出的紫外线进行反射，从而使半导体的四周均充满紫外线，确保半导体能够充分受到紫外线的照射，进而确保反应的正常进行。

光催化氧化处理池的底部中心、中部两处对称的侧壁上设有曝气头。光催化氧化处理池的侧壁上的曝气头的朝向背向叶片的旋转朝向、并与光催化氧化处理池的侧壁相交20~60°、朝上倾斜10~45°。曝气头中能够喷出气体搅动废水，还能够使废水溶解空气，以助于反应进行。

由技术常识可知，本实用新型可以通过其它的不脱离其精神实质或必要特征的实施方案来实现。因此，上述公开的实施方案，就各方面而言，都只是举例说明，并不是仅有的。所有在本实用新型范围内或在等同于本实用新型的范围内的改变均被本实用新型包含。

Claims (7)

1.印染废水的电解-光氧化处理装置，包括电解单元与光催化氧化处理单元，其特征在于：电解单元与光催化氧化处理单元之间设有一调节储水池，调节储水池的入水口与电解单元的出水口连通；调节储水池的出口口与光催化氧化处理单元的入水口连通；光催化氧化处理单元包括若干光催化氧化处理池；光催化氧化处理池包括一两端具有转轴的照射筒、照射筒整体密封，其内部装设有紫外灯、其外侧装设有若干采用半导体材料制作而成的叶片；叶片上开设有若干扁形的通水孔；相邻两个叶片的通水孔位置错开。

2.如权利要求1所述的印染废水的电解-光氧化处理装置，其特征在于：在光催化氧化处理池的侧壁设有均匀分布的若干紫外灯。

3.如权利要求2所述的印染废水的电解-光氧化处理装置，其特征在于：光催化氧化处理池的侧壁及底面设有反光镜片。

4.如权利要求2或3所述的印染废水的电解-光氧化处理装置，其特征在于：光催化氧化处理池的底部中心、中部两处对称的侧壁上设有曝气头。

5.如权利要求1所述的印染废水的电解-光氧化处理装置，其特征在于：光催化氧化处理池的侧壁上的曝气头的朝向背向叶片的旋转朝向、并与光催化氧化处理池的侧壁相交20~60°、朝上倾斜10~45°。

6.如权利要求5所述的印染废水的电解-光氧化处理装置，其特征在于：电解单元包括电解池，电解池中均匀分布有若干阳极与阴极。

7.如权利要求1所述的印染废水的电解-光氧化处理装置，其特征在于：若干光催化氧化处理池分为并联的若干一级光催化氧化处理单元与一级光催化氧化处理单元串联的二级催化氧化处理单元，所有二级催化氧化处理单元的出水口共同连接于一排水管上。