CN208791743U - 一种利于冷却的旋转靶靶管 - Google Patents
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 25
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 4
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000002853 Nelumbo nucifera Species 0.000 description 1
- 235000006508 Nelumbo nucifera Nutrition 0.000 description 1
- 235000006510 Nelumbo pentapetala Nutrition 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种利于冷却的旋转靶靶管，包括：靶材背管(2)及与靶材背管同轴设置的冷却液出口通道(5)；靶材背管(2)内壁与冷却液出口通道(5)外壁组成的空间为冷却液进口通道(4)；冷却液出口通道(5)一侧通过支架(7)设置有磁棒(8)；冷却液进口通道(4)的内壁设置有用于增强冷却液扰动的凸起结构。本实用新型提供的利于冷却的旋转靶靶管增强了冷却过程中冷却液的扰动，使得冷却过程中温度分布更均匀，同时，提高了冷却液的利用率，节约了能量。
Description
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射领域，特别是指一种利于冷却的旋转靶靶管。
背景技术
镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单地说，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应，例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。
在溅射靶材生产过程中会发出大量的热量，如果不及时进行冷却，容易造成局部烧焦或呈现晶粒化现象；现有技术多采用靶管冷却的方式，靶管内壁光滑，在冷却液流动时对冷却液扰动有限，靶管内部径向传热效率低，冷却液没有很好的发挥冷却作用，冷量利用效率低，能量损失大。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型的目的在于提出一种利于冷却的旋转靶靶管，主要目的是解决磁控溅射领域内靶材冷却时冷却效率低，冷量损失大的技术问题。
基于上述目的本实用新型提供的一种利于冷却的旋转靶靶管，包括：靶材背管及与所述靶材背管同轴设置的冷却液出口通道；所述靶材背管内壁与所述冷却液出口通道外壁组成的空间为冷却液进口通道；所述冷却液出口通道外壁一侧通过支架设置有磁棒；其特征在于，所述冷却液进口通道的内壁设置有用于增强冷却液扰动的凸起结构。
较优地，所述凸起结构为设置在所述冷却液进口通道内壁的螺纹凸起。
可选地，所述凸起结构为设置在所述冷却液进口通道内壁的若干凸起棱；若干所述凸起棱沿所述冷却液进口通道内壁轴向延伸，且若干所述凸起棱在所述冷却液进口通道内壁周向均匀分布。
可选地，所述凸起结构横截面为圆形、矩形或三角形。
较优地，所述冷却液进口通道沿所述靶材背管轴向设置有多个弯曲的隔板。
较优地，所述弯曲的隔板表面上设置有点状凸起。
可选地，所述冷却液出口通由金属空腔形成，所述金属空腔横截面为圆形、矩形或三角形。
进一步，所述靶材背管上通过绑定材料绑定有靶材，所述绑定材料为金属材料。
较优地，所述绑定材料为铟。
进一步，所述旋转靶靶管还包括驱动装置，所述旋转靶靶管能够在所述驱动装置的驱动下进行旋转。
较优地，所述冷却液进口通道内壁还设置有柔性页片，所述柔性页片用于增加冷却液的流动阻力。
从上面所述可以看出，本实用新型提供的一种利于冷却的旋转靶靶管，通过在冷却液进口通道内壁增加凸起结构，增强了冷却过程中冷却液的扰动，使得冷却过程中温度分布更均匀，同时，提高了冷却液的利用率，节约了能量。
附图说明
图1为本实用新型实施例一种利于冷却的旋转靶靶管的截面示意图；
图2为本实用新型实施例冷却液进口通道内壁的展开示意图；
图3为本实用新型另一个实施例冷却液进口通道内壁的展开示意图；
图4为本实用新型一个实施例在冷却液进口通道设置隔板的截面示意图；
图5为本实用新型另一个实施例在冷却液进口通道设置隔板的截面示意图；
图6为本实用新型另一个实施例在冷却液进口通道设置隔板的截面示意图；
图7为本实用新型一个实施例在冷却液进口通道设置柔性页片的截面示意图；
图8为本实用新型另一个实施例在冷却液进口通道设置柔性页片的截面示意图；
图9为本实用新型另一个实施例在冷却液进口通道设置柔性页片的截面示意图；
其中，1-靶材、2-靶材背材、3-绑定材料、4-冷却液进口通道、5-冷却液出口通道、6-金属空腔、7-支架、8-磁棒、9-隔板、10-柔性页片、11-螺纹凸起、12-凸起棱。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本实用新型进一步详细说明。
图1为本实用新型实施例一种利于冷却的旋转靶靶管的截面示意图，一种利于冷却的旋转靶靶管，包括：靶材背管2及与靶材背管同轴设置的冷却液出口通道5；靶材背管2内壁与冷却液出口通道5外壁组成的空间为冷却液进口通道4；冷却液出口通道5外壁一侧连接有支架7，支架7上设置有磁棒8；冷却液进口通道4的内壁设置有用于增强冷却液扰动的凸起结构，具体地，组成冷却液进口通道4的靶材背管2内壁与冷却液出口通道5外壁可同时设置凸起结构或只在靶材背管2内壁上设置凸起结构或只在冷却液出口通道5外壁上设置凸起结构。
在一些实施方式中，冷却液出口通道5由金属空腔6形成，其横截面为可为圆形、矩形或三角形。
本实用新型旋转靶靶管用于靶材的冷却，靶材1通过绑定材料3绑定在靶材背管2的外表面；磁控溅射镀膜是利用磁场与电场交互作用，使电子在靶材表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率，所产生的离子在电场的作用下撞向靶材表面从而溅射出靶材，沉积在基片上形成薄膜，本发明冷却液出口通道5外壁一侧设置的磁棒8用于在靶材表面产生磁场，束缚靶材内的电子运动。
旋转靶靶管还包括驱动装置，旋转靶靶管在驱动装置的驱动下可进行旋转。
如图2所示，凸起结构为设置在冷却液进口通道内壁的螺纹凸起11；作为本实用新型的另一个实施例，如图3所示，凸起结构为设置在冷却液进口通道内壁的若干凸起棱12；若干凸起棱12沿冷却液进口通道内壁轴向延伸，且若干凸起棱12在冷却液进口通道内壁周向均匀分布；可选地，凸起结构横截面可为圆形、矩形或三角形。
作为本实用新型的又一个实施例，冷却液进口通道沿靶材背管轴向设置有多个弯曲的隔板9(要求隔板在靶材背管旋转的过程中不与冷却液出口通道外壁的磁棒接触)，将冷却液进口管道分隔成若干个次管道，并且弯曲的隔板使得冷却液流动的路径增长，冷却液能够在冷却液进口管道内充分流动，提高了冷却液的利用率，减少了冷却液的用量；作为一个实施例，如图4所示，隔板间隔设置在靶材背管内壁；作为一个实施例，如图5所示，隔板间隔设置在冷却液出口通道5的靶管外壁；作为另一个实例，如图6所示，隔板在靶材背管内壁和冷却液出口通道外壁错开设置；所有隔板在靶材背管旋转时不与冷却液出口通道外壁设置的磁棒相接触。上述在冷却液进口通道4内设置隔板的方式均可使得靶管在旋转的过程中大大增加冷却液的扰动，提高冷却液的利用率和冷却效率。
作为本实用新型的另一个实施例，冷却液进口通道内壁还设置有柔性页片10(要求柔性页片在靶材背管旋转的过程中不与冷却液出口通道外壁的磁棒接触)，作为一个实施例，如图7所示，柔性页片10设置在靶材背管内壁；作为另一个实施例，如图8所示，柔性页片10设置在冷却液出口通道5的靶管外壁；作为另一个实例，如图9所示，柔性页片在靶材背管内壁和冷却液出口通道外壁交错设置。该页片可以是柔性的高分子材料，也可以是柔性的金属页片，柔性页片采用较薄的厚度，在冷却液流动的过程中增加了冷却液流动的阻力，增加了冷却液的扰动，可在一定程度上对冷却液起到“搅拌作用”使得各部分冷却液的温度更加均衡，提高了冷却液的冷却效率，从而使得靶材各部分冷却更均匀。
本实用新型用于靶材加工过程中的冷却，如图1所示，靶材与靶材背管通过绑定材料3绑定，绑定材料为低熔点、高导热和高导电性的金属材料，例如金属铟。
从上面所述可以看出，本实用新型提供的一种利于冷却的旋转靶靶管，通过在冷却液进口通道内壁增加凸起结构，增强了冷却过程中冷却液的扰动，使得冷却过程中温度分布更均匀，同时，提高了冷却液的利用率，节约了能量。
所属领域的普通技术人员应当理解：以上任何实施例的讨论仅为示例性的，并非旨在暗示本公开的范围(包括权利要求)被限于这些例子；在本实用新型的思路下，以上实施例或者不同实施例中的技术特征之间也可以进行组合，并存在如上所述的本实用新型的不同方面的许多其它变化，为了简明它们没有在细节中提供。因此，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何省略、修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种利于冷却的旋转靶靶管，其特征在于，包括：靶材背管(2)及与所述靶材背管同轴设置的冷却液出口通道(5)；所述靶材背管(2)内壁与所述冷却液出口通道(5)外壁组成的空间为冷却液进口通道(4)；所述冷却液出口通道(5)外壁一侧通过支架(7)设置有磁棒(8)；所述冷却液进口通道(4)的内壁设置有用于增强冷却液扰动的凸起结构。
2.根据权利要求1所述的一种利于冷却的旋转靶靶管，其特征在于，所述凸起结构为设置在所述冷却液进口通道(4)内壁的螺纹凸起(11)。
3.根据权利要求1所述的一种利于冷却的旋转靶靶管，其特征在于，所述凸起结构为设置在所述冷却液进口通道(4)内壁的若干凸起棱(12)；若干所述凸起棱(12)沿所述冷却液进口通道(4)内壁轴向延伸，且若干所述凸起棱(12)在所述冷却液进口通道(4)内壁周向均匀分布。
4.根据权利要求2或3所述的一种利于冷却的旋转靶靶管，其特征在于，所述凸起结构横截面为圆形、矩形或三角形。
5.根据权利要求1所述的一种利于冷却的旋转靶靶管，其特征在于，所述冷却液进口通道(4)沿所述靶材背管(2)轴向设置有多个弯曲隔板(9)。
6.根据权利要求5所述的一种利于冷却的旋转靶靶管，其特征在于，所述弯曲隔板(9)的表面设置有多个点状凸起。
7.根据权利要求1所述的一种利于冷却的旋转靶靶管，其特征在于，所述冷却液出口通道(5)的横截面为圆形、矩形或三角形。
8.根据权利要求1所述的一种利于冷却的旋转靶靶管，其特征在于，所述靶材背管(2)通绑定材料(3)绑定有靶材，所述绑定材料(3)为金属材料，所述绑定材料(3)为铟。
9.根据权利要求1所述的一种利于冷却的旋转靶靶管，其特征在于，所述旋转靶靶管还包括驱动装置，所述旋转靶靶管能够在所述驱动装置的驱动下旋转。
10.根据权利要求1所述的一种利于冷却的旋转靶靶管，其特征在于，所述冷却液进口通道(4)内壁还设置有柔性页片(10)，所述柔性页片(10)用于增加冷却液的流动阻力。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201821147027.3U CN208791743U (zh) | 2018-07-19 | 2018-07-19 | 一种利于冷却的旋转靶靶管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201821147027.3U CN208791743U (zh) | 2018-07-19 | 2018-07-19 | 一种利于冷却的旋转靶靶管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN208791743U true CN208791743U (zh) | 2019-04-26 |
Family
ID=66202754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201821147027.3U Expired - Fee Related CN208791743U (zh) | 2018-07-19 | 2018-07-19 | 一种利于冷却的旋转靶靶管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN208791743U (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111850499A (zh) * | 2020-09-02 | 2020-10-30 | 光驰科技(上海)有限公司 | 内置式结构紧凑型旋转阴极装置 |
| CN114023508A (zh) * | 2021-11-04 | 2022-02-08 | 广东电网有限责任公司 | 一种超导电缆冷却装置 |
| CN116875954A (zh) * | 2023-09-07 | 2023-10-13 | 纳狮新材料有限公司杭州分公司 | 一种制备锂电池复合集流体的装备与方法 |
-
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111850499A (zh) * | 2020-09-02 | 2020-10-30 | 光驰科技(上海)有限公司 | 内置式结构紧凑型旋转阴极装置 |
| CN114023508A (zh) * | 2021-11-04 | 2022-02-08 | 广东电网有限责任公司 | 一种超导电缆冷却装置 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 100176 Beijing Daxing District Beijing economic and Technological Development Zone Rongchang East Street 7 hospital 6 Building 3001 room. Patentee after: Beijing Dingrong Photovoltaic Technology Co.,Ltd. Address before: 100176 Beijing Daxing District Beijing economic and Technological Development Zone Rongchang East Street 7 hospital 6 Building 3001 room. Patentee before: BEIJING APOLLO DING RONG SOLAR TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
|
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20210329 Address after: Room 201, Building A, 1 Qianwan Road, Qianhai Shenzhen-Hong Kong Cooperation Zone, Shenzhen, Guangdong Province Patentee after: Shenzhen Zhengyue development and Construction Co.,Ltd. Address before: 100176 Beijing Daxing District Beijing economic and Technological Development Zone Rongchang East Street 7 hospital 6 Building 3001 room. Patentee before: Beijing Dingrong Photovoltaic Technology Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20210826 Address after: No.66210, 3rd floor, Pudong Free Trade Zone, Shanghai, China Patentee after: Shanghai zuqiang Energy Co.,Ltd. Address before: Room 201, Building A, 1 Qianwan Road, Qianhai Shenzhen-Hong Kong Cooperation Zone, Shenzhen, Guangdong Province Patentee before: Shenzhen Zhengyue development and Construction Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20190426 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |