CN208454818U - 一种预制棒沉积反应室 - Google Patents

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陈海斌
李应
王小辉
陈剑
兰兴玲
陈强
李秀鹏
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Abstract

本实用新型公开一种预制棒沉积反应室,包括反应室,反应室内装置待沉积加工的靶棒,反应室的侧壁上设置了由沿靶棒轴向排布的若干喷灯构成的喷灯组,在喷灯组所在的反应室的侧壁上设置了进风口,进风口在喷灯组两侧各设置有一个,在喷灯组对侧的反应室的侧壁上设置了排废管道,在喷灯组所在的反应室内壁上设置了导流板一,导流板一在喷灯组两侧各设置有一个并位于喷灯组与进风口之间。本实用新型利用导流板一挡住从进风口进入的气流,空气中的杂质不会携带进喷灯喷出的火焰中,气流影响不到喷灯喷出的火焰方向,保障喷灯火焰的稳定性,也避免气流将水解反应生成的SiO2粉尘携带走而从排废管道排出,有效提高沉积效率。

Description

一种预制棒沉积反应室
技术领域
本实用新型涉及光纤制造设备技术领域,尤其涉及一种预制棒沉积反应室。
背景技术
近年来,光纤预制棒的制造仍面临着巨大压力,原材料、能源、人力资源等成本迅速增加,预制棒价格也呈现逐年下降趋势,为了降低其预制棒制造成本最有效的解决方式是预制棒尺寸大型化工艺开发。目前,生产大尺寸预制棒主要分两个技术路线,一种RIC套管技术,一种是多喷灯OVD技术。多喷灯OVD设备主要采用横向与纵向两种方式,为了提高反应室内的环境洁净度采用了对空气进行过滤并采用主动送风方式实现。现有的多喷灯OVD沉积反应室的难以保障喷灯火焰的稳定性,气流容易使得水解反应生成的SiO2粉尘在喷灯周边、反应室左右两壁堆积,原料浪费严重,沉积效率低。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题和提出的技术任务是对现有技术进行改进,提供一种预制棒沉积反应室,解决目前技术中的沉积反应室的气流难以稳定喷灯火焰,容易使得SiO2粉尘堆积在反应室内,沉积效率低的问题。
为解决以上技术问题,本实用新型的技术方案是:
一种预制棒沉积反应室,包括反应室,所述的反应室内装置待沉积加工的靶棒,其特征在于,所述的反应室的侧壁上设置了由沿靶棒轴向排布的若干喷灯构成的喷灯组,在喷灯组所在的反应室的侧壁上设置了进风口,所述进风口在喷灯组两侧各设置有一个,在喷灯组对侧的反应室的侧壁上设置了排废管道,在喷灯组所在的反应室内壁上设置了导流板一,所述的导流板一在喷灯组两侧各设置有一个并位于喷灯组与进风口之间。本实用新型所述的预制棒沉积反应室通过设置导流板一避免从进风口进入的气流直接作用于喷灯,导流板一挡住从进风口进入的气流,从而保障喷灯火焰的稳定性,空气中的杂质则不会携带进喷灯喷出的火焰中,也避免气流直接将水解反应生成的SiO2粉尘携带走而从排废管道排出,保障原料利用率,有效提高沉积效率。
进一步的,所述的导流板一在喷灯的喷射方向上的长度不超过喷灯的喷射口部,避免导流板一受到喷灯火焰的灼烧。
进一步的,所述的导流板一距离喷灯的侧边100~150mm,确保导流板长效稳定的起到导流的作用。
进一步的,所述的两个导流板一之间的间距宽度沿着喷灯的喷射方向增宽,也就是使得从进风口进入的气流的流通路径截面减小,在气流量相同的情况下能有效增大流速,稳定性也得到控制,避免气流达到喷灯组两侧的反应室内壁时风速降低导致SiO2粉尘堆积在反应室内壁上,提高原料利用率,提高沉积效率。
进一步的,所述的导流板一在喷灯的喷射方向上由沿喷灯喷射方向的直线段和偏向于进风口的斜线段构成。
进一步的,所述的斜线段与喷灯的喷射方向的夹角为20~30度,能有效增大从进风口进入的气流的流速,同时避免产生气流达到喷灯组两侧的反应室内壁时产生气流回旋反弹,避免SiO2粉尘堆积在反应室内壁上。
进一步的,所述的所述的两个导流板一之间的间距宽度最大处大于靶棒成型得到的粉尘棒的外径50~80mm,确保在靶棒外径增大时也能保持稳定的气流,避免两个导流板一之间的间距宽度过窄出现气流回旋反弹的状况,保障沉积的均匀稳定性。
进一步的,所述的排废管道所在的反应室的内壁上设置了位于排废管道两侧的导流板二,所述两个导流板二之间的间距宽度沿着气流导出方向变窄,有效起到导向作用,使得气流能顺畅的进入排废管道,避免气流撞击排废管道所在的反应室的内壁导致流速降低而使得粉尘在反应室的内壁导堆积。
与现有技术相比,本实用新型优点在于:
本实用新型所述的预制棒沉积反应室利用导流板一挡住从进风口进入的气流,空气中的杂质则不会携带进喷灯喷出的火焰中,气流影响不到喷灯喷出的火焰方向,保障喷灯火焰的稳定性,也避免气流直接将水解反应生成的SiO2粉尘携带走而从排废管道排出,保障原料利用率,有效提高沉积效率。
附图说明
图1为预制棒沉积反应室的立体结构示意图;
图2为的预制棒沉积反应室的横截面结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型实施例公开的一种预制棒沉积反应室,有效控制反应室内的气流,避免气流将水解反应生成的SiO2粉尘携带走,降低反应室内粉尘的堆积,提高原料利用率,提高沉积效率。
如图1和图2所示,一种预制棒沉积反应室,包括反应室1,所述的反应室1内装置待沉积加工的靶棒2,靶棒2呈竖直放置的状态,的反应室1的侧壁上设置了由沿靶棒2轴向排布的若干喷灯31构成的喷灯组3,在喷灯组3所在的反应室1的侧壁上设置了进风口4,并且进风口4在喷灯组3两侧各设置有一个,进风口为沿靶棒2轴向的长条开口,在喷灯组3所在的反应室1内壁上设置了导流板一6,所述的导流板一6在喷灯组3两侧各设置有一个,并且导流板一6位于喷灯组3与进风口4之间,利用导流板一6将喷灯组3与进风口4分隔开,从进风口进入的气流影响不到喷灯喷出的火焰方向,保障喷灯火焰的稳定性,在喷灯组3对侧的反应室1的侧壁上设置了排废管道5,排废管道5所在的反应室1的内壁上设置了位于排废管道5两侧的导流板二7,所述两个导流板二7之间的间距宽度沿着气流导出方向变窄,在本实施例中,导流板二7为与排废管道5所在的反应室1内壁呈45°的倾斜板结构,使得气流能顺畅的进入排废管道,避免气流撞击排废管道所在的反应室的内壁导致流速降低而使得粉尘在反应室的内壁导堆积。
在本实施例中,导流板一6在喷灯31的喷射方向上的长度不超过喷灯31的喷射口部,避免导流板一6受到喷灯火焰的高温影响,并且导流板一6距离喷灯31的侧边100~150mm,保持适当距离,保障使用寿命;两个导流板一6之间的间距宽度沿着喷灯31的喷射方向增宽,导流板一6在喷灯31的喷射方向上由沿喷灯31喷射方向的直线段和偏向于进风口4的斜线段衔接构成,直线段连接在反应室1的内壁上,也就是两个导流板一6之间的间距宽度沿着喷灯31的喷射方向先保持等间距然后再逐渐变大,斜线段与喷灯31的喷射方向的夹角为20~30度,保障气流的稳定性;并且所述的两个导流板一6之间的间距宽度最大处大于靶棒2成型得到的粉尘棒的外径50~80mm。在气流量相同的情况下能有效增大流速,从进风口进入的气流在导流板一6的作用下能有效增加流速,避免气流达到喷灯组3两侧的反应室内壁时风速降低产生粉尘气流回旋反弹,避免SiO2粉尘堆积在喷灯周边、反应室左右两壁,提高原料利用率,提高沉积效率。
以上仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出的是,上述优选实施方式不应视为对本实用新型的限制,本实用新型的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型的精神和范围内,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (8)

1.一种预制棒沉积反应室,包括反应室(1),所述的反应室(1)内装置待沉积加工的靶棒(2),其特征在于,所述的反应室(1)的侧壁上设置了由沿靶棒(2)轴向排布的若干喷灯(31)构成的喷灯组(3),在喷灯组(3)所在的反应室(1)的侧壁上设置了进风口(4),所述进风口(4)在喷灯组(3)两侧各设置有一个,在喷灯组(3)对侧的反应室(1)的侧壁上设置了排废管道(5),在喷灯组(3)所在的反应室(1)内壁上设置了导流板一(6),所述的导流板一(6)在喷灯组(3)两侧各设置有一个并位于喷灯组(3)与进风口(4)之间。
2.根据权利要求1所述的预制棒沉积反应室,其特征在于,所述的导流板一(6)在喷灯(31)的喷射方向上的长度不超过喷灯(31)的喷射口部。
3.根据权利要求1所述的预制棒沉积反应室,其特征在于,所述的导流板一(6)距离喷灯(31)的侧边100~150mm。
4.根据权利要求1所述的预制棒沉积反应室,其特征在于,所述的两个导流板一(6)之间的间距宽度沿着喷灯(31)的喷射方向增宽。
5.根据权利要求4所述的预制棒沉积反应室,其特征在于,所述的导流板一(6)在喷灯(31)的喷射方向上由沿喷灯(31)喷射方向的直线段和偏向于进风口(4)的斜线段构成。
6.根据权利要求5所述的预制棒沉积反应室,其特征在于,所述的斜线段与喷灯(31)的喷射方向的夹角为20~30度。
7.根据权利要求4所述的预制棒沉积反应室,其特征在于,所述的所述的两个导流板一(6)之间的间距宽度最大处大于靶棒(2)成型得到的粉尘棒的外径50~80mm。
8.根据权利要求1所述的预制棒沉积反应室,其特征在于,所述的排废管道(5)所在的反应室(1)的内壁上设置了位于排废管道(5)两侧的导流板二(7),所述两个导流板二(7)之间的间距宽度沿着气流导出方向变窄。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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