CN208328098U - 用于磁控溅射室观察窗的保护机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了用于磁控溅射室观察窗的保护机构，其包括：转轴(1)，转动设置在磁控溅射室外壁(4)上，其内端延伸至所述磁控溅射室内而外端延伸至所述磁控溅射室外；及遮盖板(2)，其固定在所述转轴(1)上并位于所述磁控溅射室内，当转动所述转轴(1)，所述遮盖板(2)旋转至所述观察窗并覆盖所述观察窗或远离所述观察窗。本实用新型提供的用于磁控溅射室观察窗的保护机构，结构简单，可减少自由状态电子附着于观察窗上，减少观察窗玻璃的更换次数，降低生产成本。

Description

用于磁控溅射室观察窗的保护机构

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射技术领域，特别涉及一种用于磁控溅射室观察窗的保护机构。

背景技术

在磁控溅射镀膜生产过程中，阴极内加装一个磁体和靶材表面形成一个与电场正交的磁场，电子在磁场力的作用下改变其运动方向。从靶材表面上释放出来的电子以及工艺气体离化出来的电子，并不直接飞向阳极而是会沿着螺旋方向运动，这样的运动方式减少电子与气体原子(或分子)碰撞的平均自由程，增加了气体的离化程度，虽然可以在保证溅射率的前提下减少气体的使用量，从而提高了溅射效率，而且能较好地控制等离子体的范围，并使其集中并均匀地溅射靶材。但尚有部分电子在真空状态下在腔室中自由游走，其中以观察靶材辉光状态位于靶材正上方的观察窗为甚。在稳定生产的状态下，平均15天左右需更换一次观察窗玻璃。

实用新型内容

为了解决现有技术的问题，本实用新型目的是提供一种用于磁控溅射室观察窗的保护机构，可在生产状态下保护观察窗。

基于上述问题，本实用新型提供的技术方案是：

用于磁控溅射室观察窗的保护机构，其包括：

转轴，转动设置在磁控溅射室外壁上，其内端延伸至所述磁控溅射室内而外端延伸至所述磁控溅射室外；

及遮盖板，其固定在所述转轴上并位于所述磁控溅射室内，当转动所述转轴，所述遮盖板旋转至所述观察窗并覆盖所述观察窗或远离所述观察窗。

在其中的一些实施方式中，所述磁控溅射室外壁上设有转轴支撑组件，所述转轴转动设置在所述转轴支撑组件上。

在其中的一些实施方式中，所述转轴支撑组件包括固定在所述磁控溅射室外壁上的底座、固定在所述底座上的轴承支撑座、及设置在所述轴承支撑座内的多个轴承，所述转轴由所述轴承支撑，所述转轴的内端经所述底座上的穿孔延伸至所述磁控溅射室内，所述转轴的外端形成有将所述转轴限位在所述轴承内的限位部、及用于旋转的握持部。

在其中的一些实施方式中，所述轴承的数目为两个，且分别位于所述轴承支撑座的下上部。

在其中的一些实施方式中，所述转轴与所述轴承支撑座之间设有轴封，所述轴封位于两个轴承之间。

在其中的一些实施方式中，所述轴承支撑座与所述底座之间设有密封圈。

在其中的一些实施方式中，所述握持部呈长方体型。

在其中的一些实施方式中，所述遮盖板包括固定部和遮盖部，所述固定部固定在所述转轴的内端，所述遮盖部向所述固定部外侧延伸，所述遮盖部的尺寸大于所述观察窗。

与现有技术相比，本实用新型的优点是：

采用本实用新型的技术方案，旋转转轴外端，可将遮盖板遮盖观察窗或与观察窗分离，在正常生产状态下，遮盖板遮盖观察窗，可减少自由状态电子附着于观察窗上，减少观察窗玻璃的更换次数，降低生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型用于磁控溅射室观察窗的保护机构的结构示意图；

图2为本实用新型实施例另一个方向的结构示意图；

图3为本实用新型实施例的使用状态示意图；

其中：

1、转轴；1-1、限位部；1-2、握持部；

2、遮盖板；2-1、固定部；2-2、遮盖部；

3、转轴支撑组件；3-1、底座；3-2、转轴支撑座；3-2a、轴肩；3-2b、凸台；3-3、轴承；3-4、轴封；3-5、密封圈；

4、磁控溅射室外壁；

5、螺丝。

具体实施方式

以下结合具体实施例对上述方案做进一步说明。应理解，这些实施例是用于说明本实用新型而不限于限制本实用新型的范围。实施例中采用的实施条件可以根据具体厂家的条件做进一步调整，未注明的实施条件通常为常规实验中的条件。

参见图1-3，为本实用新型的结构示意图，提供一种用于磁控溅射室观察窗的保护机构，包括转轴1和遮盖板2，转轴1转动设置在磁控溅射室外壁4上，且转轴1的内端延伸至磁控溅射室内而外端延伸至磁控溅射室外，遮盖板2固定在转轴1上并位于磁控溅射室内，当转动转轴1，遮盖板2可旋转至观察窗内侧并在覆盖观察窗或与远离观察窗，观察窗设置在溅射室外壁上并采用玻璃制成，次数观察窗内侧指的是观察窗位于溅射室内的一侧，覆盖观察窗后，可减少自由状态电子附着于观察窗上。

本例中，在磁控溅射室外壁4上设有转轴支撑组件3，转轴1转动设置在转轴支撑组件3上。

具体的，转轴支撑组件3包括固定在磁控溅射室外壁4上的底座3-1、固定在底座3-1上的轴承支撑座3-2、及设置在轴承支撑座3-2内的多个轴承3-3，转轴1由这些轴承3-3支撑，转轴1的内端经底座3-1上的穿孔延伸至磁控溅射室内，转轴1的外端形成有将转轴限位在轴承3-3内的限位部1-1、及用于旋转的握持部1-2。

本例中，轴承3-3的数目为两个，它们分别位于轴承支撑座3-2的上下部，轴承支撑座3-2的内部中空，且在上下部分别形成有轴肩3-2a用于限位轴承3-3，轴承支撑座3-2的周向上形成有凸台3-2b，该凸台3-2b经螺丝5固定在底座3-1上。

为了进一步优化本实用新型的实施效果，在转轴1与轴承支撑座3-2之间设有轴封3-4，该轴封3-4位于两个轴承3-3之间。

为了进一步优化本实用新型的实施效果，在轴承支撑座3-2和底座3-1之间设有密封圈3-5，在轴承支撑座3-2的四部设有容纳密封圈3-5的限位凹槽。

本例中，握持部1-2呈长方体型，便于操作者旋转施力以带动转轴的转动。

遮盖板2包括固定部2-1和遮盖部2-2，其中固定部2-1经螺丝5固定在转轴1的内端，遮盖部2-2向固定部2-1外侧延伸，且遮盖部2-2的尺寸大于观察窗，通过转轴1转动带动遮盖板2旋转，使遮盖板2覆盖观察窗或与观察窗分离。

上述实例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人员能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所做的等效变换或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.用于磁控溅射室观察窗的保护机构，其特征在于，包括：

转轴(1)，转动设置在磁控溅射室外壁(4)上，其内端延伸至所述磁控溅射室内而外端延伸至所述磁控溅射室外；

及遮盖板(2)，其固定在所述转轴(1)上并位于所述磁控溅射室内，当转动所述转轴(1)，所述遮盖板(2)旋转至所述观察窗并覆盖所述观察窗或远离所述观察窗。

2.根据权利要求1所述的用于磁控溅射室观察窗的保护机构，其特征在于：所述磁控溅射室外壁(4)上设有转轴支撑组件(3)，所述转轴(1)转动设置在所述转轴支撑组件(3)上。

3.根据权利要求2所述的用于磁控溅射室观察窗的保护机构，其特征在于：所述转轴支撑组件(3)包括固定在所述磁控溅射室外壁(4)上的底座(3-1)、固定在所述底座(3-1)上的轴承支撑座(3-2)、及设置在所述轴承支撑座(3-2)内的多个轴承(3-3)，所述转轴(1)由所述轴承(3-3)支撑，所述转轴(1)的内端经所述底座(3-1)上的穿孔延伸至所述磁控溅射室内，所述转轴(1)的外端形成有将所述转轴(1)限位在所述轴承(3-3)内的限位部(1-1)、及用于旋转的握持部(1-2)。

4.根据权利要求3所述的用于磁控溅射室观察窗的保护机构，其特征在于：所述轴承(3-3)的数目为两个，且分别位于所述轴承支撑座(3-2)的下上部。

5.根据权利要求4所述的用于磁控溅射室观察窗的保护机构，其特征在于：所述转轴(1)与所述轴承支撑座(3-2)之间设有轴封(3-4)，所述轴封(3-4)位于两个轴承(3-3)之间。

6.根据权利要求3所述的用于磁控溅射室观察窗的保护机构，其特征在于：所述轴承支撑座(3-2)与所述底座(3-1)之间设有密封圈(3-5)。

7.根据权利要求3所述的用于磁控溅射室观察窗的保护机构，其特征在于：所述握持部(1-2)呈长方体型。

8.根据权利要求1所述的用于磁控溅射室观察窗的保护机构，其特征在于：所述遮盖板(2)包括固定部(2-1)和遮盖部(2-2)，所述固定部(2-1)固定在所述转轴(1)的内端，所述遮盖部(2-2)向所述固定部(2-1)外侧延伸，所述遮盖部(2-2)的尺寸大于所述观察窗。