CN208316783U - 一种渐变色手机后盖 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种渐变色手机后盖,包括玻璃基板、硅膜层、光学薄膜层以及油墨层;所述硅膜层覆盖在所述玻璃基板一侧表面,所述光学薄膜层设置于所述硅膜层远离所述玻璃基板一侧的表面;光学薄膜层由高折射率材料层和低折射率材料层交替层叠而成;油墨层设于所述玻璃基板远离所述硅膜层一侧的表面。本实用新型中在玻璃基板一侧设置油墨层,在玻璃基板另一侧设置硅膜层,所述硅膜层的厚度不均匀,同时基于光学薄膜层对入射光的干涉作用,通过采用交替层叠的高折射率材料层和低折射率材料层,使入射光入射到手机后盖,经过光学薄膜层折射后形成的反射光呈现渐变色,使其外观更加美观,也适合现在社会人们的审美观,更好地满足了消费者的需求。
Description
技术领域
本实用新型涉及手机配件技术领域,尤其涉及一种渐变色手机后盖。
背景技术
随着人们生活水平的提高,手机已经成为人们必不可少的日常用品,近些年,消费者不仅对手机性能的要求越来越高,同时对其舒适度及外观的要求也在不断提高。因此,各厂家为了博得大众的眼球、获得消费者的青睐,不断的就产品的外观进行改进。
随着5G和无线充电的普及,手机后盖只能用玻璃制品。由于玻璃制品不能用阳极氧化的方法来制备各种颜色的后盖,因此一般使用镀膜或者丝印油墨的方式上色,导致现有的玻璃盖板的颜色单调,其外观吸引力不强,难以使产品具备较强的竞争力。
实用新型内容
为了解决上述现有技术的不足,本实用新型提供一种渐变色手机后盖。
本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:
一种渐变色手机后盖,包括玻璃基板、硅膜层、光学薄膜层以及油墨层;所述硅膜层覆盖在所述玻璃基板一侧表面,所述光学薄膜层设置于所述硅膜层远离所述玻璃基板一侧的表面;所述光学薄膜层由高折射率材料层和低折射率材料层交替层叠而成;所述油墨层设于所述玻璃基板远离所述硅膜层一侧的表面;所述硅膜层的层厚是不均匀的。
进一步地,所述油墨层为白色油墨层。
进一步地,所述硅膜层的层厚是逐渐减小的,最厚为200nm,最薄为10nm。
进一步地,每层高折射率材料层中,高折射率材料层的层厚是相同的。
进一步地,每层低折射率材料层中,低折射率材料层的层厚是相同的。
进一步地,所述光学薄膜层采用磁控溅射、蒸发镀膜、离子镀膜中的至少一种。
进一步地,所述光学薄膜层远离所述硅膜层一侧的表面还设有防指纹膜。
本实用新型具有如下有益效果:
本实用新型中在玻璃基板一侧设置油墨层,在玻璃基板另一侧设置硅膜层,所述硅膜层的厚度不均匀,同时基于光学薄膜层对入射光的干涉作用,通过采用交替层叠的高折射率材料层和低折射率材料层,使入射光入射到手机后盖,经过光学薄膜层折射后形成的反射光呈现一种渐变色的风格,使其外观更加美观,也适合现在社会人们的审美观,更好地满足了消费者的需求,市场价值巨大。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中:1、玻璃基板,2、硅膜层,3、高折射率材料层,4、低折射率材料层,5、油墨层,6、防指纹膜。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明。
一种渐变色手机后盖,包括玻璃基板、硅膜层、光学薄膜层以及油墨层。
所述硅膜层覆盖在所述玻璃基板一侧表面,所述光学薄膜层设置于所述硅膜层远离所述玻璃基板一侧的表面。
本实用新型中,从左至右,所述硅膜层的层厚是不相同的。优选地,从左至右,所述硅膜层的层厚是逐渐减小的。具体地,所述硅膜层中,最厚为200nm,最薄为10nm。由于硅是一种具有吸收性的薄膜,厚度不同吸收的颜色也不同。因此采用这种层厚逐渐减小的硅膜层得到的手机后盖的颜色具有特殊的渐变色效果。优选地,所述硅膜层中,最厚为200nm,最薄为10nm。
所述光学薄膜层由高折射率材料层和低折射率材料层交替层叠而成。本实用新型对高折射率材料层和低高折射率材料层的具体材质不作特别限定。作为优选,高高折射率材料层的折射率可选在1.8以上,可以但不限于为ZrO2、TiO2、Ti2O5、ZnO、TiO、Fe2O3、Nb2O5或Si3N4,所述低高折射率材料层的折射率可选在1.7以下,可以但不限于采用SiO2、Al2O3、MgF或CaF2。
每层高折射率材料层中,高折射率材料层的层厚是相同的;每层低折射率材料层中,低折射率材料层的层厚是相同的。
本实用新型中也不限定高折射率材料层和低折射率材料层的层数,高折射率材料层的层数可以与低折射率材料层的层数相同,高折射率材料层的层数也可以与低折射率材料层的层数不相同,只要形成交叉层叠的多层膜结构即可。优选地,所述高折射率材料层的层数与低折射率材料层的层数相同,更优选地,所述高折射率材料层的层数与低折射率材料层的层数均为3层。
本实用新型中也不限定高折射率材料层和低折射率材料层在硅膜层上的叠加顺序,可以是高折射率材料层位于低折射率材料层和硅膜层之间,也可以是低折射率材料层位于高折射率材料层和硅膜层之间。
形成所述光学薄膜层和对磨成的方法可以采用磁控溅射、蒸发镀膜、离子镀膜等方法,这些方法已为本领域技术人员所公知,在此不再赘述。其中优选采用中频反应磁控溅射法,该方法制得的膜层的结合力、耐磨性和耐腐蚀性较好。
所述油墨层设于所述玻璃基板远离所述硅膜层一侧的表面。优选地,所述油墨层为白色油墨层。所述白色油墨层优选通过丝印形成。
所述光学薄膜层远离所述硅膜层一侧的表面还设有防指纹膜。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制,但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案,均应落在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种渐变色手机后盖,其特征在于,其包括玻璃基板、硅膜层、光学薄膜层以及油墨层;所述硅膜层覆盖在所述玻璃基板一侧表面,所述光学薄膜层设置于所述硅膜层远离所述玻璃基板一侧的表面;所述光学薄膜层由高折射率材料层和低折射率材料层交替层叠而成;所述油墨层设于所述玻璃基板远离所述硅膜层一侧的表面;所述硅膜层的层厚是不均匀的。
2.如权利要求1所述的渐变色手机后盖,其特征在于,所述油墨层为白色油墨层。
3.如权利要求1所述的渐变色手机后盖,其特征在于,所述硅膜层的层厚是逐渐减小的,最厚为200nm,最薄为10nm。
4.如权利要求1所述的渐变色手机后盖,其特征在于,每层高折射率材料层中,高折射率材料层的层厚是相同的。
5.如权利要求1所述的渐变色手机后盖,其特征在于,每层低折射率材料层中,低折射率材料层的层厚是相同的。
6.如权利要求1所述的渐变色手机后盖,其特征在于,所述光学薄膜层采用磁控溅射、蒸发镀膜、离子镀膜中的至少一种。
7.如权利要求1所述的渐变色手机后盖,其特征在于,所述光学薄膜层远离所述硅膜层一侧的表面还设有防指纹膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201820745071.8U CN208316783U (zh) | 2018-05-18 | 2018-05-18 | 一种渐变色手机后盖 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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CN208316783U true CN208316783U (zh) | 2019-01-01 |
Family
ID=64711645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN201820745071.8U Active CN208316783U (zh) | 2018-05-18 | 2018-05-18 | 一种渐变色手机后盖 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN208316783U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110643946A (zh) * | 2019-11-12 | 2020-01-03 | 安徽安合鑫光电科技有限公司 | 一种手机后盖pvd渐变色镀膜工艺 |
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2018
- 2018-05-18 CN CN201820745071.8U patent/CN208316783U/zh active Active
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