CN208261386U - 一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置 - Google Patents
一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置 Download PDFInfo
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Abstract
一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置，包括用于盛装高频晶片的清洗网杯和清洗支架，所述清洗支架包括固定槽和垂直的连杆，清洗网杯位于清洗支架的固定槽内，清洗支架下方对应设置有清洗槽，固定槽的上方设置有淋浴装置，驱动装置通过连杆与清洗支架相连。本实用新型结构简单、使用方便、清洗效果好。
Description
技术领域
本实用新型涉及到石英晶振晶片的加工领域，具体指一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置。
背景技术
在石英晶振高频晶片清洗领域，在晶片成膜前，为了确保晶片表面的洁净度，必须对晶片采取清洗。传统技术是在对晶片进行药水清洗后，再进行超音清洗。此种方式清洗效果不好，因为在第二步超音中清洗用的纯水不是流动状态，不利于将晶片清洗下来的异物与药水通过纯水带走，这样晶片污染容易造成石英谐振器产品特性的DLD异常。
发明内容
本实用新型的目的是克服现有技术中高频晶片清洗中存在的上述问题，提供一种结构简单、使用方便、清洗效果好的用于石英晶振高频晶片的清洗装置。
为实现以上目的，本实用新型的技术解决方案是：一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置，包括用于盛装高频晶片的清洗网杯和清洗支架，所述清洗支架包括固定槽和垂直的连杆，清洗网杯位于清洗支架的固定槽内，清洗支架下方对应设置有清洗槽，固定槽的上方设置有淋浴装置，驱动装置通过连杆与清洗支架相连。
所述淋浴装置上设置有喷嘴。
所述淋浴装置活动连接在连杆上。
所述清洗槽底部设置有振动装置。
所述清洗槽两侧还设置有高位进水口和低位出水口。
本实用新型的有益效果为：
1、本设计中包括用于盛装高频晶片的清洗网杯和清洗支架，将清洗网杯放置在清洗支架的固定槽内，打开驱动装置，驱动装置带动清洗支架在清洗槽内上下移动，能有效对位于清洗网杯中的高频晶片实现漂洗，去除附着在晶片上的药水和异物；位于固定槽上方的淋浴装置则对晶片喷淋，进行二次冲洗，同时清洗槽内的纯水会随着淋浴纯水的注入会溢流到槽外，清洗效果更好。
2、本设计中淋浴装置活动连接在连杆上，可以拆卸，方便清洗网杯的放置与取出，使用方便。
3、本设计中清洗槽底部还设置有振动装置，清洗时可以将清洗支架移动至清洗槽底部，利用振动将附着在晶片上的异物抖落，在进行漂洗和喷淋，清洗效果更好。
4、本设计中清洗槽两侧还设置有高位进水口和低位出水口，能保证清洗槽内的水保持流动，带走污物，提升清洗效果。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图中：清洗网杯1，清洗支架2，固定槽21，连杆22，清洗槽3，淋浴装置4，喷嘴41，驱动装置5，振动装置6，高位进水口7，低位出水口8。
具体实施方式
以下结合附图说明和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明：
参见图1，一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置，其特征在于：包括用于盛装高频晶片的清洗网杯1和清洗支架2，所述清洗支架2包括固定槽21和垂直的连杆22，清洗网杯1位于清洗支架2的固定槽21内，清洗支架2下方对应设置有清洗槽3，固定槽21的上方设置有淋浴装置4，驱动装置5通过连杆22与清洗支架2相连。
所述淋浴装置4上设置有喷嘴41。
所述淋浴装置4活动连接在连杆22上。
所述清洗槽3底部设置有振动装置6。
所述清洗槽3两侧还设置有高位进水口7和低位出水口8。
本设计中包括用于盛装高频晶片的清洗网杯1和清洗支架2，将清洗网杯1放置在清洗支架2的固定槽21内，打开驱动装置5，驱动装置5带动清洗支架2在清洗槽3内上下移动，能有效对位于清洗网杯1中的高频晶片实现漂洗，去除附着在晶片上的药水和异物；位于固定槽21上方的淋浴装置4则对晶片喷淋，进行二次冲洗，同时清洗槽3内的纯水会随着淋浴纯水的注入会溢流到槽外，清洗效果更好。本设计中淋浴装置4活动连接在连杆22上，可以拆卸，方便清洗网杯1的放置与取出，使用方便。本设计中清洗槽3底部还设置有振动装置6，清洗时可以将清洗支架2移动至清洗槽3底部，利用振动将附着在晶片上的异物抖落，在进行漂洗和喷淋，清洗效果更好。本设计中清洗槽3两侧还设置有高位进水口7和低位出水口8，能保证清洗槽3内的水保持流动，带走污物，提升清洗效果。本实用新型结构简单、使用方便、清洗效果好。
Claims (5)
1.一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置，其特征在于：包括用于盛装高频晶片的清洗网杯（1）和清洗支架（2），所述清洗支架（2）包括固定槽（21）和垂直的连杆（22），清洗网杯（1）位于清洗支架（2）的固定槽（21）内，清洗支架（2）下方对应设置有清洗槽（3），固定槽（21）的上方设置有淋浴装置（4），驱动装置（5）通过连杆（22）与清洗支架（2）相连。
2.根据权利要求1所述的一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置，其特征在于：所述淋浴装置（4）上设置有喷嘴（41）。
3.根据权利要求1所述的一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置，其特征在于：所述淋浴装置（4）活动连接在连杆（22）上。
4.根据权利要求1所述的一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置，其特征在于：所述清洗槽（3）底部设置有振动装置（6）。
5.根据权利要求1所述的一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置，其特征在于：所述清洗槽（3）两侧还设置有高位进水口（7）和低位出水口（8）。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201720979601.0U CN208261386U (zh) | 2017-08-08 | 2017-08-08 | 一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置 |
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| CN201720979601.0U CN208261386U (zh) | 2017-08-08 | 2017-08-08 | 一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置 |
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| CN208261386U true CN208261386U (zh) | 2018-12-21 |
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| CN201720979601.0U Active CN208261386U (zh) | 2017-08-08 | 2017-08-08 | 一种用于石英晶振高频晶片的清洗装置 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN208261386U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113441472A (zh) * | 2021-07-01 | 2021-09-28 | 深圳市科源信科技有限公司 | 一种用于石英晶振高频晶片的气液清洗装置 |
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2017
- 2017-08-08 CN CN201720979601.0U patent/CN208261386U/zh active Active
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| CN113441472A (zh) * | 2021-07-01 | 2021-09-28 | 深圳市科源信科技有限公司 | 一种用于石英晶振高频晶片的气液清洗装置 |
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