CN207941790U - 一种带收集槽的培养槽清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种清洗装置，特别涉及一种带收集槽的培养槽清洗装置，包括清洗台，所述清洗台的台面上沿纵向间隔设置有若干块横向隔板，相邻两横向隔板之间形成用于定位培养槽的定位槽道，清洗台一侧的台面上设置有支架，所述横向隔板分别经吊架悬吊于支架上，所述支架上设置有横向往复运动并用于清洗培养槽的清洗机构，所述清洗台的台面上设置有用于横向传送培养槽的传送机构，清洗台的下侧设置有用于承接污水的集水槽，清洗台的一侧还设置有收集槽70，以便用于收集清洁后的培养槽。该带集水槽的培养槽清洗装置不仅结构紧凑，而且操作简便，方便收集污水及培养槽。

Description

一种带收集槽的培养槽清洗装置

技术领域

本实用新型涉及一种清洗装置，特别涉及一种带收集槽的培养槽清洗装置。

背景技术

随着农业的现代化的不断推进，大棚种植越来越普及，培养槽在大棚种植中大量运用，当需要更换培养基时，通常需要对培养槽进行清洗，而人工清洗往往耗费大量时间及精力。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种带收集槽的培养槽清洗装置，不仅结构紧凑，而且操作简便，方便收集污水及培养槽。

本实用新型的技术方案在于：一种带收集槽的培养槽清洗装置，包括清洗台，所述清洗台的台面上沿纵向间隔设置有若干块横向隔板，相邻两横向隔板之间形成用于定位培养槽的定位槽道，清洗台一侧的台面上设置有支架，所述横向隔板分别经吊架悬吊于支架上，所述支架上设置有横向往复运动并用于清洗培养槽的清洗机构，所述清洗台的台面上设置有用于横向传送培养槽的传送机构，清洗台的下侧设置有用于承接污水的集水槽，清洗台的一侧还设置有用于收集培养槽的收集槽。

进一步地，所述清洗机构包括横向设置于支架上部的滑块气缸，所述滑块气缸的滑块下侧设置有纵向设置的清洗刷，所述滑块上位于每个定位槽道的上侧还设置有喷头。

进一步地，所述传送机构包括横向设置于清洗台上且间隔布设有漏水孔的传送带，所述传送带上位于定位槽道内间隔设置有若干组用于与培养槽上的定植孔相配合的定位凸起，相邻两组定位凸起之间的距离大于培养槽的长度。

进一步地，所述横向隔板设置于传送带的上侧，所述清洗台上还设置有控制按钮。

进一步地，所述清洗台台面上间隔布设有漏水孔，清洗台台面的前、后侧分别横向设置有挡板，所述横向隔板设置于两挡板之间。

进一步地，所述集水槽的下部设置有脚轮，集水槽的底板向前侧倾斜并设置有若干个泄水孔。

进一步地，所述收集槽内靠近清洗台的一侧设置有向收集槽另一侧下部倾斜的斜台，所述斜台上设置有一层光滑绒布，所述收集槽的下部还设置有脚轮。

与现有技术相比较，本实用新型具有以下优点：该带集水槽的培养槽清洗装置不仅结构紧凑，而且操作简便、工作效率高，节约人力；同时方便收集污水及培养槽，提高工作环境，防止污水污染。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的左视图；

图3为本实用新型的右视图；

图4为本实用新型的俯视图；

图5为本实用新型的清洗台使用状态示意图；

图6为本实用新型的图5的A-A剖视图；

图7为本实用新型的收集槽剖视图示意图；

图8为本实用新型的培养槽的结构示意图；

图9为本实用新型的培养槽的侧视图；

图中：1-培养槽；1a-定植孔；10-清洗台；11-挡板；20-横向隔板；21-定位槽道；30-支架；31-吊架；40-清洗机构；41-滑块气缸；42-滑块；43-清洗刷；44-喷头；50-传送机构；51-定位凸起；52-控制按钮；53-漏水孔；60-集水槽；61-脚轮；62-泄水孔；70-收集槽；71-斜台；72-光滑绒布；73-脚轮。

具体实施方式

为让本实用新型的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图，作详细说明如下，但本实用新型并不限于此。

参考图1至图9

一种带收集槽的培养槽清洗装置，包括清洗台10，所述清洗台的台面上沿纵向间隔设置有若干块横向隔板20，相邻两横向隔板之间形成用于定位培养槽1的定位槽道21，所述清洗台一侧的台面上设置有支架30，所述横向隔板分别经吊架31悬吊于支架上，从而使横向隔板的下侧面与清洗台的台面分离；所述支架上设置有横向往复运动并用于清洗培养槽的清洗机构40，所述清洗台的台面上设置有用于横向传送培养槽的传送机构50，以便将培养槽放置于传送机构另一侧并让传送机构将培养槽送至支架下侧。所述清洗台的下侧还设置有用于承接污水的集水槽60，以便收集污水，防止污水四溢。所述清洗台的一侧还设置有收集槽70，以便用于收集清洁后的培养槽。

本实施例中，所述清洗机构包括横向设置于支架上部的滑块气缸41，所述滑块气缸的滑块42下侧设置有纵向设置的清洗刷43，以便清洗培养槽；所述滑块上位于每个定位槽道的上侧还设置有喷头44，以便喷洒高压清水。

本实施例中，所述传送机构包括横向设置于清洗台上的传送带，所述传送带上间隔设置有漏水孔53，传送带上位于定位槽道内间隔设置有若干组用于与培养槽上的定植孔1a相配合的定位凸起51，从而使培养槽随传送机构一起移动。相邻两组定位凸起之间的距离大于培养槽的长度，以便安装培养槽。

本实施例中，所述横向隔板设置于传送带的上侧，所述清洗台上还设置有控制按钮52，从而控制传送机构和清洗机构工作。

本实施例中，所述清洗台台面上间隔布设有漏水孔53，以便污水通过漏水孔落入集水槽，清洗台台面的前、后侧分别横向设置有挡板11，从而防止清洗时污水溅出清洗台，所述横向隔板设置于两挡板之间。

本实施例中，所述集水槽的下部设置有脚轮61，以便集水槽移动；集水槽的底板向前侧倾斜并设置有若干个泄水孔62，从而防止污垢排不干净。

本实施例中，所述收集槽内靠近清洗台的一侧设置有向收集槽另一侧下部倾斜的斜台71，以便清洁后的培养槽滑入收集槽内。所述斜台上设置有一层光滑绒布72，该层绒布可对培养槽的下底面进行擦拭、清洁。所述收集槽的下部还设置有脚轮73，以便该收集槽移动。所述收集槽的前壁底部也设置有泄水孔。

具体实施过程：工作人员在清洗工作进行之前，先将集水槽推至清洗台的下方，接着将多个培养槽放到清洗台的另一侧，并将培养槽尾部的定植孔与传送机构上的定位凸起配合，使培养槽相对传送机构固定，防止培养槽在清洗时随着清洗机构的移动而移动；按下控制按钮，这时传送机构正转运行，将培养槽传送至清洗台一侧的清洗区（支架下侧），这时传送机构停止，滑块开始移动，带动清洗机构来回移动，清洗刷对培养槽进行刷洗，同时喷头中喷射出高压清水，对培养槽进行冲洗，当来回清洗的次数达到设定值时，清洗机构回到起始位置，传送机构继续正转运行，将清洗后的培养槽向收集槽侧传送，通过收集槽的斜台，进入收集槽中，同时后面一组的培养槽又进入清洗区进行清洗，这样可以大大提供培养槽的清洗效率，也节省工作人员的工作量，当集水槽中收集的污水快满时，将排放至指定区域，或进行再循环利用，防止污水污染。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，凡依本实用新型申请专利范围所做的均等变化与修饰，皆应属本实用新型的涵盖范围。

Claims (7)

1.一种带收集槽的培养槽清洗装置，包括清洗台，其特征在于，所述清洗台的台面上沿纵向间隔设置有若干块横向隔板，相邻两横向隔板之间形成用于定位培养槽的定位槽道，清洗台一侧的台面上设置有支架，所述横向隔板分别经吊架悬吊于支架上，所述支架上设置有横向往复运动并用于清洗培养槽的清洗机构，所述清洗台的台面上设置有用于横向传送培养槽的传送机构，清洗台的下侧设置有用于承接污水的集水槽，清洗台的一侧还设置有用于收集培养槽的收集槽。

2.根据权利要求1所述的一种带收集槽的培养槽清洗装置，其特征在于，所述清洗机构包括横向设置于支架上部的滑块气缸，所述滑块气缸的滑块下侧设置有纵向设置的清洗刷，所述滑块上位于每个定位槽道的上侧还设置有喷头。

3.根据权利要求1或2所述的一种带收集槽的培养槽清洗装置，其特征在于，所述传送机构包括横向设置于清洗台上且间隔布设有漏水孔的传送带，所述传送带上位于定位槽道内间隔设置有若干组用于与培养槽上的定植孔相配合的定位凸起，相邻两组定位凸起之间的距离大于培养槽的长度。

4.根据权利要求3所述的一种带收集槽的培养槽清洗装置，其特征在于，所述横向隔板设置于传送带的上侧，所述清洗台上还设置有控制按钮。

5.根据权利要求1、2或4所述的一种带收集槽的培养槽清洗装置，其特征在于，所述清洗台台面上间隔布设有漏水孔，清洗台台面的前、后侧分别横向设置有挡板，所述横向隔板设置于两挡板之间。

6.根据权利要求1、2或4所述的一种带收集槽的培养槽清洗装置，其特征在于，所述集水槽的下部设置有脚轮，集水槽的底板向前侧倾斜并设置有若干个泄水孔。

7.根据权利要求1、2或4所述的一种带收集槽的培养槽清洗装置，其特征在于，所述收集槽内靠近清洗台的一侧设置有向收集槽另一侧下部倾斜的斜台，所述斜台上设置有一层光滑绒布，所述收集槽的下部还设置有脚轮。