CN207857493U - 光阻涂布槽清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光阻涂布槽清洗装置。所述光阻涂布槽清洗装置，包括：轨道，环绕一光阻涂布槽的外周设置；第一清洗组件，与第二清洗组件先后进入所述轨道，且能够沿所述轨道运动，用于向光阻涂布槽的槽壁喷射清洗液；第二清洗组件，连接所述轨道且能够沿所述轨道运动，用于向所述槽壁喷射气体，以干燥位于所述槽壁上的清洗液。本实用新型提高了光阻涂布槽的清洗效率，节省了光阻涂布槽清洗的人力成本；同时减少了因清洗光阻涂布槽造成的停机时间，提高了晶圆的生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光阻涂布槽清洗装置。
背景技术
目前，半导体集成电路(IC)产业已经经历了指数式增长。IC材料和设计中的技术进步已经产生了数代IC，其中，每代IC都比前一代IC具有更小和更复杂的电路。在IC发展的过程中，功能密度(即每一芯片面积上互连器件的数量)已普遍增加，而几何尺寸(即使用制造工艺可以产生的最小部件)却已减小。除了IC部件变得更小和更复杂之外，在其上制造IC的晶圆变得越来越大，这就对晶圆的质量要求越来越高。
在晶圆的制造过程中，需要经过多步工艺，例如表面清洗、初次氧化、化学气相沉积镀膜、化学机械研磨、光刻、退火、离子注入等。其中，光刻技术是指在光照作用下，借助光阻(又名光致刻蚀剂、光刻胶)将掩膜版上的图形转移到晶圆上的技术。
在光刻过程中，光阻的涂布是至关重要的一步。一般来说，光阻的涂布是在光阻涂布槽中进行的。现有的光阻涂布槽包括转轴、承载台和槽壁，所述转轴连接所述承载台，所述承载台用于承载晶圆，所述侧壁环绕所述承载台设置。在光阻涂布槽中对晶圆进行光阻涂布的过程中，晶圆在所述转轴的带动下处于高速旋转的状态，一部分光阻在旋转过程中由于离心力的作用会自所述晶圆表面抛出，粘附于光阻涂布槽的槽壁上。当光阻在侧壁上的累积达到一定程度时，工作人员需要对所述侧壁进行清洗，以确保后续晶圆制程的顺利进行。但是，现有的侧壁清洗方法是依靠工作人员人工擦洗，这不仅增大了人力成本，而且人工清洗的时间较长，延长了光阻涂布槽的停机时间，降低了晶圆的生成效率。
因此，如何提高光阻涂布槽的清洗效率，节省人力成本，是目前亟待解决的技术问题。
发明内容
本实用新型提供一种光阻涂布槽清洗装置，用以解决现有的光阻涂布槽清洗效率低的问题，节省清洗光阻涂布槽的人力成本，同时提高晶圆的生产效率。
为了解决上述问题，本实用新型提供了一种光阻涂布槽清洗装置，包括：轨道，环绕一光阻涂布槽的外周设置；第一清洗组件，与第二清洗组件先后进入所述轨道，且能够沿所述轨道运动，用于向光阻涂布槽的槽壁喷射清洗液；第二清洗组件，连接所述轨道且能够沿所述轨道运动，用于向所述槽壁喷射气体，以干燥位于所述槽壁上的清洗液。
优选的，所述第一清洗组件包括第一喷头、第一支架和第一连接部；所述第一喷头，连接所述第一支架，用于向所述槽壁喷射清洗液；所述第一连接部，连接所述轨道，用于将所述第一支架从第一复位位置转移至所述轨道；所述第一支架用于沿所述轨道运动。
优选的，所述第一喷头呈弧形，且所述第一喷头能够沿所述第一支架的轴向进行升降运动。
优选的，所述第二清洗组件包括第二喷头、第二支架和第二连接部；所述第二喷头，连接所述第二支架，用于向所述槽壁喷射气体，以干燥位于所述槽壁上的清洗液；所述第二连接部，连接所述轨道，用于将所述第二支架从第二复位位置转移至所述轨道；所述第二支架用于沿所述轨道运动。
优选的，所述第二喷头呈弧形，且所述第二喷头能够沿所述第二支架的轴向进行升降运动。
优选的，还包括控制器，所述控制器，同时连接所述第一清洗组件和所述第二清洗组件，用于控制所述第一清洗组件、所述第二清洗组件先后进入所述轨道。
优选的，所述控制器，连接所述第一连接部，用于控制所述第一连接部将所述第一支架从所述第一复位位置转移至所述轨道，并判断所述第一支架是否沿所述轨道运行第一预设时间，若是，则控制所述第一连接部将所述第一支架从所述轨道转移至所述第一复位位置。
优选的，所述控制器，连接所述第二连接部，用于判断所述第一支架是否位于所述第一复位位置，若是，则控制所述第二连接部将所述第二支架从所述第二复位位置转移至所述轨道，并判断所述第二支架是否沿所述轨道运行第二预设时间，若是，则控制所述第二连接部将所述第二支架从所述轨道转移至所述第二复位位置。
优选的，所述清洗液为丙酮。
优选的，所述气体为氮气。
本实用新型提供的光阻涂布槽清洗装置，通过环绕光阻涂布槽设置一轨道，并增加分别能够沿轨道运动的第一清洗组件和第二清洗组件，通过第一清洗组件向所述光阻涂布槽的槽壁喷射清洗液来实现对所述槽壁的清洗，并通过第二清洗组件向所述光阻涂布槽的槽壁喷射气体来干燥残留于所述槽壁的清洗液，提高了光阻涂布槽的清洗效率，节省了光阻涂布槽清洗的人力成本；同时减少了因清洗光阻涂布槽造成的停机时间，提高了晶圆的生产效率。
附图说明
附图1是本实用新型具体实施方式中光阻涂布槽清洗装置的结构示意图；
附图2是本实用新型具体实施方式中光阻涂布槽清洗装置的结构框图；
附图3是本实用新型具体实施方式中第一清洗组件进入轨道时的结构示意图；
附图4是本实用新型具体实施方式中第二清洗组件进入轨道时的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型提供的光阻涂布槽清洗装置的具体实施方式做详细说明。
本具体实施方式提供了一种光阻涂布槽清洗装置，附图1是本实用新型具体实施方式中光阻涂布槽清洗装置的结构示意图，附图2是本实用新型具体实施方式中光阻涂布槽清洗装置的结构框图。
如图1、2所示，本具体实施方式提供的光阻涂布槽，包括轨道12、第一清洗组件13和第二清洗组件14。所述轨道12，环绕一光阻涂布槽11的外周设置；第一清洗组件13，与第二清洗组件14先后进入所述轨道12，且能够沿所述轨道12运动，用于向光阻涂布槽11的槽壁喷射清洗液；第二清洗组件14，连接所述轨道12且能够沿所述轨道运动，用于向所述槽壁喷射气体，以干燥位于所述槽壁上的清洗液。本具体实施方式先通过所述第一清洗组件13向所述光阻涂布槽11喷射清洗液来对粘附于槽壁上的光阻进行清洗，然后通过所述第二清洗组件向所述光阻涂布槽11喷射气体来干燥残留于所述槽壁上的清洗液，从而实现了对所述光阻涂布槽11槽壁的自动化清洗，节省了人力成本；且所述第一清洗组件13在沿所述轨道12运动的过程中喷射清洗液、所述第二清洗组件14在沿所述轨道12运动的过程中喷射气体，从而实现了对所述光阻涂布槽11整个槽壁的清洗，提高了光阻涂布槽的清洗效果。
本领域技术人员可以根据实际需要选择清洗液的种类，例如根据光阻的性质进行选择。为了扩大清洗液的适用范围，优选的，所述清洗液为丙酮。为了不对所述光阻涂布槽的性质造成影响，且便于快速干燥残留于所述光阻涂布槽的槽壁上的清洗液，优选的，所述气体为氮气。
附图3是本实用新型具体实施方式中第一清洗组件进入轨道时的结构示意图。优选的，如图2、3所示，所述第一清洗组件13包括第一喷头132、第一支架133和第一连接部131；所述第一喷头132，连接所述第一支架133，用于向所述槽壁喷射清洗液；所述第一连接部131，连接所述轨道12，用于将所述第一支架133从第一复位位置转移至所述轨道12；所述第一支架133用于沿所述轨道12运动。为了实现对所述光阻涂布槽11内侧槽壁的清洗，优选的，所述第一喷头132呈弧形，且所述第一喷头132能够沿所述第一支架133的轴向进行升降运动。具体来说，当第一清洗组件13对所述光阻涂布槽11进行清洗的过程中，所述第一连接部131将连接有所述第一喷头132的所述第一支架133从第一复位位置转移至所述轨道12上；接着，所述第一喷头132下降一预设距离，以便于近距离向所述光阻涂布槽11的槽壁喷射清洗液；然后，所述第一支架132沿所述轨道12运动且所述第一喷头132开始喷射清洗液，以实现对所述光阻涂布槽11整个槽壁的清洗。待所述第一清洗组件13完成一第一预设时间的清洗后，所述第一喷头132上升所述预设距离，回复至初始高度位置；然后，所述第一连接部131再将所述第一支架133转移至所述第一复位位置。其中，所述第一复位位置是指，所述第一清洗组件13进入所述轨道12之前的初始位置。
附图4是本实用新型具体实施方式中第二清洗组件进入轨道时的结构示意图。优选的，如图2、4所示，所述第二清洗组件14包括第二喷头142、第二支架143和第二连接部141；所述第二喷头142，连接所述第二支架143，用于向所述槽壁喷射气体，以干燥位于所述槽壁上的清洗液；所述第二连接部141，连接所述轨道12，用于将所述第二支架143从第二复位位置转移至所述轨道12；所述第二支架143用于沿所述轨道12运动。为了彻底干燥残留于所述光阻涂布槽槽壁上的清洗液，优选的，所述第二喷头142呈弧形，且所述第二喷头142能够沿所述第二支架143的轴向进行升降运动。具体来说，当第二清洗组件14对所述光阻涂布槽11喷射气体的过程中，所述第二连接部141将连接有所述第二喷头142的所述第二支架143从第二复位位置转移至所述轨道12上；接着，所述第二喷头142下降一预设距离，以便于近距离向所述光阻涂布槽11的槽壁喷射气体，实现所述槽壁上残留清洗液的快速干燥；然后，所述第二支架142沿所述轨道12运动且所述第二喷头142开始喷射气体。待所述第二清洗组件14完成一第二预设时间的干燥后，所述第二喷头142上升所述预设距离，回复至初始高度位置；然后，所述第二连接部141再将所述第二支架143转移至所述第二复位位置。其中，所述第二复位位置是指，所述第二清洗组件14进入所述轨道12之前的初始位置。
为了进一步提高所述光阻涂布槽清洗装置的自动化程度，优选的，本具体实施方式提供的光阻涂布槽清洗装置还包括控制器21，所述控制器21，同时连接所述第一清洗组件13和所述第二清洗组件14，用于控制所述第一清洗组件13、所述第二清洗组件14先后进入所述轨道12。
具体来说，所述控制器21，连接所述第一连接部131，用于控制所述第一连接部131将所述第一支架133从所述第一复位位置转移至所述轨道12，并判断所述第一支架133是否沿所述轨道12运行第一预设时间，若是，则控制所述第一连接部131将所述第一支架133从所述轨道12转移至所述第一复位位置。优选的，所述控制器21，连接所述第二连接部141，用于判断所述第一支架133是否位于所述第一复位位置，若是，则控制所述第二连接部141将所述第二支架143从所述第二复位位置转移至所述轨道12，并判断所述第二支架143是否沿所述轨道12运行第二预设时间，若是，则控制所述第二连接部141将所述第二支架143从所述轨道12转移至所述第二复位位置。更优选的，所述第一预设时间是2分钟，所述第二预设时间是1分钟。其中，所述控制器21判断所述第一支架133是否位于所述第一复位位置的具体方式，可以是但不限于在所述第一复位位置安装一所述控制器21连接的传感器，例如光电传感器或者重力传感器等等。本具体实施方式中，在所述第一清洗组件13完成对所述光阻涂布槽11槽壁的清洗并回复至第一复位位置之后，所述第二清洗组件14再进入所述轨道12并向所述槽壁喷射气体，使得所述第一清洗组件13和所述第二清洗组件14不同时出现在所述轨道12上，在提高所述槽壁清洗效果的同时，也避免了所述第一清洗组件13与所述第二清洗组件14发生碰撞，提高了所述光阻涂布槽清洗装置的安全性。
本具体实施方式提供的光阻涂布槽清洗装置，通过环绕光阻涂布槽设置一轨道，并增加分别能够沿轨道运动的第一清洗组件和第二清洗组件，通过第一清洗组件向所述光阻涂布槽的槽壁喷射清洗液来实现对所述槽壁的清洗，并通过第二清洗组件向所述光阻涂布槽的槽壁喷射气体来干燥残留于所述槽壁的清洗液，提高了光阻涂布槽的清洗效率，节省了光阻涂布槽清洗的人力成本；同时减少了因清洗光阻涂布槽造成的停机时间，提高了晶圆的生产效率。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种光阻涂布槽清洗装置，其特征在于，包括：
轨道，环绕一光阻涂布槽的外周设置；
第一清洗组件，与第二清洗组件先后进入所述轨道，且能够沿所述轨道运动，用于向光阻涂布槽的槽壁喷射清洗液；
第二清洗组件，连接所述轨道且能够沿所述轨道运动，用于向所述槽壁喷射气体，以干燥位于所述槽壁上的清洗液。
2.根据权利要求1所述的光阻涂布槽清洗装置，其特征在于，所述第一清洗组件包括第一喷头、第一支架和第一连接部；所述第一喷头，连接所述第一支架，用于向所述槽壁喷射清洗液；所述第一连接部，连接所述轨道，用于将所述第一支架从第一复位位置转移至所述轨道；所述第一支架用于沿所述轨道运动。
3.根据权利要求2所述的光阻涂布槽清洗装置，其特征在于，所述第一喷头呈弧形，且所述第一喷头能够沿所述第一支架的轴向进行升降运动。
4.根据权利要求2所述的光阻涂布槽清洗装置，其特征在于，所述第二清洗组件包括第二喷头、第二支架和第二连接部；所述第二喷头，连接所述第二支架，用于向所述槽壁喷射气体，以干燥位于所述槽壁上的清洗液；所述第二连接部，连接所述轨道，用于将所述第二支架从第二复位位置转移至所述轨道；所述第二支架用于沿所述轨道运动。
5.根据权利要求4所述的光阻涂布槽清洗装置，其特征在于，所述第二喷头呈弧形，且所述第二喷头能够沿所述第二支架的轴向进行升降运动。
6.根据权利要求4所述的光阻涂布槽清洗装置，其特征在于，还包括控制器，所述控制器，同时连接所述第一清洗组件和所述第二清洗组件，用于控制所述第一清洗组件、所述第二清洗组件先后进入所述轨道。
7.根据权利要求6所述的光阻涂布槽清洗装置，其特征在于，所述控制器，连接所述第一连接部，用于控制所述第一连接部将所述第一支架从所述第一复位位置转移至所述轨道，并判断所述第一支架是否沿所述轨道运行第一预设时间，若是，则控制所述第一连接部将所述第一支架从所述轨道转移至所述第一复位位置。
8.根据权利要求7所述的光阻涂布槽清洗装置，其特征在于，所述控制器，连接所述第二连接部，用于判断所述第一支架是否位于所述第一复位位置，若是，则控制所述第二连接部将所述第二支架从所述第二复位位置转移至所述轨道，并判断所述第二支架是否沿所述轨道运行第二预设时间，若是，则控制所述第二连接部将所述第二支架从所述轨道转移至所述第二复位位置。
9.根据权利要求1所述的光阻涂布槽清洗装置，其特征在于，所述清洗液为丙酮。
10.根据权利要求9所述的光阻涂布槽清洗装置，其特征在于，所述气体为氮气。
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