CN207578656U - 一种施釉系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及瓷砖技术领域,尤其是涉及的是一种施釉系统。本实用新型公开一种施釉系统,包括机架、输送带、施釉机构和回收机构。施釉工序中增设回收机构,可将经砖块、输送带流落的釉水回收,有效解决施釉工序流水线地面积水、造成釉水浪费的问题。而且回收机构与施釉机构相连通。还可以形成釉水循环,降低施釉机构中釉水长时间静置沉淀导致施釉不均匀的状况。
Description
技术领域
本实用新型涉及瓷砖技术领域,尤其是涉及的是一种施釉系统。
背景技术
瓷砖生产工艺流程包括:配料→投料→球磨→测浆→过筛除铁→入池搅拌→喷雾干燥→粉料检测→粉料入仓→送粉→压制成型→干燥→施釉→印花(云彩釉)→入窑烧成→检测→包装。
施釉工序、印花工序中釉水多通过架设于流水线上的喷覆设备进行喷覆作业,作业过程中,多余的釉水等将从砖面、流水线往下滴落,使该工序流水线地面积水、同时造成釉水浪费。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述不足,提供一种施釉系统。
为实现上述目的,本实用新型的技术解决方案是:一种施釉系统,包括机架、输送带、施釉机构和回收机构。所述机架包括两与砖块输送方向平行的横杆;所述输送带包括若干绳带和动力滚筒,动力滚筒用于驱动绳带输送砖块,绳带设于两横杆之间;所述施釉机构架设于机架上面,位于绳带上方;所述回收机构包括回收槽、回收桶、搅拌机和釉水输入管;所述回收槽有若干个,分别倾斜设置于施釉机构的下面、施釉机构出料一侧,回收槽位于绳带下面;回收槽长度大于输送带的宽度;所述回收桶设于回收槽较低的一端下面,便于回收槽回收的釉水流入回收桶;所述搅拌机安装于回收桶内,用于搅拌釉水,保持釉水混合均匀;所述釉水输入管下端与回收桶连通,上端与施釉机构连通,用于将回收桶内的釉水输送至施釉机构;施釉机构下面设有釉水输出管,釉水输出管下面位于回收桶内。
施釉工序中增设回收机构,可将经砖块、输送带流落的釉水回收,有效解决施釉工序流水线地面积水、造成釉水浪费的问题。而且回收机构与施釉机构相连通。还可以形成釉水循环,降低施釉机构中釉水长时间静置沉淀导致施釉不均匀的状况。
优选的,所述回收机构还包括设于回收槽与回收桶之间的导流槽;回收槽与动力滚筒平行,导流槽与横杆平行;导流槽为倾斜设置,导流槽位于回收桶上面的一端低于另一端。一个导流槽可同时连接多个回收槽,可节省回收槽的架设材料成本。
优选的,所述搅拌机包括设于回收桶上面的安装架和与安装架连接的转动轴,转动轴设有高低错开的搅拌叶。
优选的,所述回收桶下面设有移动轮,便于回收桶内的移动。
优选的,所述回收桶底部设有排水口。施釉工序中使用的回收桶一般兼具釉水调节功能,这就要求回收桶的体积较大。由于体积大,更换釉水时、停机时回收桶的清洁也较为麻烦,排水口的设置就可有效解决该问题。
通过采用上述的技术方案,本实用新型的有益效果是:本实用新型公开一种施釉系统,包括机架、输送带、施釉机构和回收机构。施釉工序中增设回收机构,可将经砖块、输送带流落的釉水回收,有效解决施釉工序流水线地面积水、造成釉水浪费的问题。而且回收机构与施釉机构相连通。还可以形成釉水循环,降低施釉机构中釉水长时间静置沉淀导致施釉不均匀的状况。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的结构俯视图。
主要附图标记说明:(1、机架;11、横杆;2、输送带;21、绳带;22、动力滚筒;3、施釉机构;31、釉水输出管;4、回收机构;41、回收槽;42、回收桶;43、搅拌机;44、釉水输入管;45、移动轮;46、排水口;47、安装架;48、转动轴;49、搅拌叶;50、导流槽)。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例来进一步说明本实用新型。
本实用新型中所提到的方向用语,例如:上、下、内、外等,仅是参考说明书附图1的方向。因此,使用的方向用语仅是用来说明,并非用来限制本实用新型。
如图1-图2所示,本实用新型一种施釉系统,包括机架1、输送带2、施釉机构3和回收机构4。
所述机架1包括两与砖块输送方向平行的横杆11。所述输送带2包括若干绳带21和动力滚筒22,动力滚筒22用于驱动绳带21输送砖块,绳带21设于两横杆11之间。
所述施釉机构3架设于机架11上面,位于绳带21上方。
所述回收机构4包括回收槽41、回收桶42、搅拌机43和釉水输入管44;所述回收槽41有若干个,分别倾斜设置于施釉机构3的下面、施釉机构3出料一侧,回收槽41位于绳带21下面;回收槽41长度大于输送带2的宽度。
所述回收桶42设于回收槽41较低的一端下面,便于回收槽41回收的釉水流入回收桶42;所述搅拌机43安装于回收桶42内,用于搅拌釉水,保持釉水混合均匀。所述回收桶42下面设有移动轮45,便于回收桶内42的移动。所述回收桶42底部设有排水口46。施釉工序中使用的回收桶42一般兼具釉水调节功能,这就要求回收桶42的体积较大。由于体积大,更换釉水时、停机时回收桶42的清洁也较为麻烦,排水口46的设置就可有效解决该问题
所述搅拌机43包括设于回收桶42上面的安装架47和与安装架47连接的转动轴48,转动轴48设有高低错开的搅拌叶49。
所述釉水输入管44下端与回收桶42连通,上端与施釉机构4连通,用于将回收桶42内的釉水输送至施釉机构3。
所述回收机构4还包括设于回收槽41与回收桶42之间的导流槽50;回收槽41与动力滚筒22平行,导流槽50与横杆11平行;导流槽50为倾斜设置,导流槽50位于回收桶42上面的一端低于另一端。一个导流槽50可同时连接多个回收槽41,可节省回收槽41的架设材料成本。
施釉机构3下面设有釉水输出管31,釉水输出管31下面位于回收桶42内。
施釉工序中增设回收机构4,可将经砖块、输送带2流落的釉水回收,有效解决施釉工序流水线地面积水、造成釉水浪费的问题。而且回收机构4与施釉机构3相连通。还可以形成釉水循环,降低施釉机构3中釉水长时间静置沉淀导致施釉不均匀的状况。
以上所述的,仅为本实用新型的较佳实施例而已,不能限定本实用实施的范围,凡是依本实用新型申请专利范围所作的均等变化与装饰,皆应仍属于本实用新型涵盖的范围内。
Claims (5)
1.一种施釉系统,其特征在于:包括机架、输送带、施釉机构和回收机构;所述机架包括两与砖块输送方向平行的横杆;所述输送带包括若干绳带和动力滚筒,动力滚筒用于驱动绳带输送砖块,绳带设于两横杆之间;所述施釉机构架设于机架上面,位于绳带上方;所述回收机构包括回收槽、回收桶、搅拌机和釉水输入管;所述回收槽有若干个,分别倾斜设置于施釉机构的下面、施釉机构出料一侧,回收槽位于绳带下面;回收槽长度大于输送带的宽度;所述回收桶设于回收槽较低的一端下面,便于回收槽回收的釉水流入回收桶;所述搅拌机安装于回收桶内,用于搅拌釉水,保持釉水混合均匀;所述釉水输入管下端与回收桶连通,上端与施釉机构连通,用于将回收桶内的釉水输送至施釉机构;施釉机构下面设有釉水输出管,釉水输出管下面位于回收桶内。
2.根据权利要求1所述的一种施釉系统,其特征在于:所述回收机构还包括设于回收槽与回收桶之间的导流槽;回收槽与动力滚筒平行,导流槽与横杆平行;导流槽为倾斜设置,导流槽位于回收桶上面的一端低于另一端。
3.根据权利要求1所述的一种施釉系统,其特征在于:所述搅拌机包括设于回收桶上面的安装架和与安装架连接的转动轴,转动轴设有高低错开的搅拌叶。
4.根据权利要求1所述的一种施釉系统,其特征在于:所述回收桶下面设有移动轮。
5.根据权利要求1所述的一种施釉系统,其特征在于:所述回收桶底部设有排水口。
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- 2017-12-06 CN CN201721679928.2U patent/CN207578656U/zh not_active Expired - Fee Related
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