CN207468709U - 一种蒸镀用精密掩膜板组件 - Google Patents

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柯贤军
吴俊雄
王红英
陈聪
苏君海
李建华
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Abstract

本实用新型涉及蒸镀技术领域,具体公开了一种蒸镀用精密掩膜板组件,包括掩膜板框架和设置在掩膜板框架上的掩膜单元,所述掩膜单元包括支撑条和设置在支撑条上方的掩膜基板,所述支撑条是具有磁力的磁条,本实用新型中的支撑条不仅起到支撑作用,同时还可吸附住掩膜基板,使得在与玻璃基板贴合之前就缓解掩膜基板存在的皱褶现象,当蒸镀系统的磁力部件下降吸附时,掩膜基板可以更加紧密的与玻璃基板贴合在一起,从而避免了混色、蒸镀成膜材料厚度不均等蒸镀不良情况的发生。

Description

一种蒸镀用精密掩膜板组件
技术领域
本实用新型涉及蒸镀技术领域,尤其涉及一种蒸镀用精密掩膜板组件。
背景技术
OLED 器件的制备通常采用的真空蒸镀法,蒸镀工艺的稳定性对成膜质量的好坏有着很大的影响。为了实现彩色化显示,在蒸镀工艺中要分别蒸镀红、绿、蓝三基色对应的材料,常用的方法为掩膜法,即在衬底基板的前面设置一层很薄的金属掩膜板,只在金属掩膜板的开口处蒸镀红、绿、蓝三基色对应的有机材料。而用来蒸镀红、绿、蓝三基色对应的有机材料的位置(也即像素电极的位置)已经被精确的定义了出来,所以在蒸镀工艺中金属掩膜板的开口就要和像素电极位置对应,不允许有超出误差范围之内的偏移,且掩模基板与衬底基板要贴合无间隙,否则将会出现两种发光材料重合在一起的情况,发生混色。
当金属掩膜板存在皱褶的情况下与玻璃基板贴合时,由于受到掩膜基板自身的内应力和外界支撑条的影响,使得皱褶情况无法缓解,在有间隙的情况下蒸镀有机发光材料,发光材料不会按照设计好的方式沉积,从而导致色偏,严重时出现混色等不良产品。
实用新型内容
针对上述技术问题,本实用新型提供了一种实现掩膜基板与玻璃基板紧密贴合在一起,避免混色、蒸镀成膜材料厚度不均等蒸镀不良情况发生的蒸镀用精密掩膜板组件。
为了解决上述技术问题,本实用新型提供的具体方案如下:一种蒸镀用精密掩膜板组件,包括掩膜板框架和设置在掩膜板框架上的掩膜单元,所述掩膜单元包括支撑条和设置在支撑条上方的掩膜基板,所述支撑条是具有磁力的磁条。
优选的,所述掩膜基板的数量为N,所述N为大于1的正整数,实际蒸镀过程中,可根据需要设定掩膜基板的数量,提高生产效率。
优选的,所述掩膜单元还包括设置在支撑条下方的遮挡条,遮挡条用以遮住各掩膜基板之间的缝隙,提高蒸镀的稳定性与产品的质量。
优选的,所述掩膜单元还包括设置在支撑条与掩膜基板之间的遮挡条,遮挡条用以遮住各掩膜基板之间的缝隙,提高蒸镀的稳定性与产品的质量。
进一步优选的,所述遮挡条是具有磁力的磁条,遮挡条吸附住掩膜基板,缓解掩膜基板的皱褶现象,提高蒸镀的稳定性与产品的合格率。
优选的,所述掩膜基板均匀排列在掩膜板框架上,更好的与玻璃基板贴合在一起。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:本实用新型的支撑条是具有磁力的磁条,使得支撑条不仅起到支撑作用,同时还可吸附住掩膜基板,在与玻璃基板贴合之前就缓解掩膜基板存在的皱褶现象,当蒸镀系统的磁力部件下降吸附时,掩膜基板可以更加紧密的与玻璃基板贴合在一起,从而避免了混色、蒸镀成膜材料厚度不均等蒸镀不良情况的发生。
附图说明
图1为本实用新型实施例一的整体结构示意图;
图2为本实用新型实施例二的整体结构示意图;
图3为本实用新型蒸镀对位时玻璃基板放置后的状态示意图;
图4为本实用新型磁力部件下降后吸持状态示意图;
其中,1为掩膜板框架;2为支撑条;3为掩膜基板;4为遮挡条;5为玻璃基板;6为磁力部件;7为平板机构。
具体实施方式
为了使本领域的技术人员更好的理解本实用新型的技术方案,下面结合附图对本实用新型的技术方案做进一步的阐述。
实施例一:如图1、3、4所示,一种蒸镀用精密掩膜板组件,包括掩膜板框架和设置在掩膜板框架上的掩膜单元,所述掩膜单元包括支撑条和设置在支撑条上方的掩膜基板,所述支撑条是具有磁力的磁条,本实施例中,掩膜基板的数量为一个,由于支撑条无变形,可以近似为平面,而掩膜基板是具有磁性的金属元件,张网后掩膜基板可以被吸持在平坦的支撑条上,这种情况下,掩膜基板的皱褶现象也就被迫缓解下来,蒸镀使用时玻璃基板的上方有较强的磁力部件,当磁力部件下降到一定高度时即将掩膜基板和支撑条一同吸附上去,使得掩膜基板紧贴玻璃基板和玻璃基板上方的平板机构,本实施例中的支撑条在蒸镀玻璃对位时支撑玻璃基板,同时用于将产生有皱褶的掩膜基板吸附住,缓解掩膜基板的皱褶现象。
实施例二:如图2、3、4所示,一种蒸镀用精密掩膜板组件,包括掩膜板框架和设置在掩膜板框架上的掩膜单元,所述掩膜单元包括支撑条和设置在支撑条上方的掩膜基板,所述支撑条是具有磁力的磁条。
其中,掩膜单元还包括设置在支撑条下方的遮挡条,遮挡条用以遮住各掩膜基板之间的缝隙,提高蒸镀的稳定性与产品的质量。
本实施例中,遮挡条是具有磁力的磁条,掩膜基板的数量为四个,掩膜基板均匀排列在掩膜板框架上,遮挡条用以遮住各掩膜基板之间的缝隙,在精密金属掩膜板制作完成,未用于蒸镀时,皱褶的掩膜基板受到支撑条与遮挡条的磁力作用,从而被迫克服内应力,与支撑条接触,当皱褶情况缓解程度很大的情况下,在蒸镀使用时,掩膜板框架上方的平板机构与磁力部件下移贴近掩膜板框架时,各掩膜基板、支撑条以及遮挡条同时受到向上的作用力,从而平展吸持在平板机构上。
实施例三:本实施例类似于实施例二,不同之处在于,本实施例的遮挡条位于支撑条与掩膜基板之间,遮挡条用以遮住各掩膜基板之间的缝隙,提高蒸镀的稳定性与产品的质量。
以上为本实用新型的较佳的实现方式,需要说明的是,在不背离本实用新型精神及其实质的情况下,熟悉本领域的技术人员当可根据本实用新型做出各种相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。

Claims (6)

1.一种蒸镀用精密掩膜板组件,包括掩膜板框架(1)和设置在掩膜板框架(1)上的掩膜单元,其特征在于:所述掩膜单元包括支撑条(2)和设置在支撑条(2)上方的掩膜基板(3),所述支撑条(2)是具有磁力的磁条。
2.根据权利要求1所述的蒸镀用精密掩膜板组件,其特征在于:所述掩膜基板(3)的数量为N,所述N为大于1的正整数。
3.根据权利要求2所述的蒸镀用精密掩膜板组件,其特征在于:所述掩膜单元还包括设置在支撑条(2)下方的遮挡条(4)。
4.根据权利要求2所述的蒸镀用精密掩膜板组件,其特征在于:所述掩膜单元还包括设置在支撑条(2)与掩膜基板(3)之间的遮挡条(4)。
5.根据权利要求3或4所述的蒸镀用精密掩膜板组件,其特征在于:所述遮挡条(4)是具有磁力的磁条。
6.根据权利要求5所述的蒸镀用精密掩膜板组件,其特征在于:所述掩膜基板(3)均匀排列在掩膜板框架(1)上。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109609912A (zh) * 2019-01-21 2019-04-12 昆山国显光电有限公司 真空蒸镀装置和真空蒸镀方法
CN112739845A (zh) * 2019-08-28 2021-04-30 京东方科技集团股份有限公司 掩模板及制备方法、精细金属掩模板、掩模装置及使用方法
CN113355636A (zh) * 2021-06-28 2021-09-07 昆山国显光电有限公司 掩膜结构及掩膜组件

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