CN207398080U - 一种硅片自动涂源生产线 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种硅片自动涂源生产线，包括涂硼装置、第一烘干炉、涂磷装置、第二烘干炉和洒粉单元，涂硼装置与第一烘干炉之间、第一烘干炉与涂磷装置之间、涂磷装置与第二烘干炉之间、第二烘干炉与洒粉单元之间均设有第一转运机械手，第一烘干炉的下游一端设有硅片翻转机构。该硅片自动涂源生产线自动化程度高，硅片涂源的多个过程自动进行，无需配备大量专人人工操作，失误率低，涂敷效率高，涂料均匀，产品合格率高。

Description

一种硅片自动涂源生产线

技术领域

本实用新型属于硅片生产设备领域，尤其是涉及一种硅片自动涂源生产线。

背景技术

随着半导体行业的迅速发展，半导体硅片产能日趋扩大。半导体硅片制作过程中需要对硅片涂覆扩散源，以形成PN结，而现有技术中，多使用手动涂覆的方法完成，由于硅片生产时会涉及到多种作业流程，导致产品效率与质量都有待提高，目前手动涂敷的操作方法存在：人工作业失误率高；需配备专人进行操作；手动涂敷效率低的问题，因此，为解决人工涂敷造成的涂料不均匀质量问题，需求一种自动化设备实现圆形硅片自动涂敷功能，使硅片进行均匀涂敷，避免由于人员问题造成的不合格产品，实现稳定高效产出。

发明内容

本实用新型要解决的问题是提供一种硅片自动涂源生产线，硅片扩散源的涂覆自动化程度高，产品合格率高，生产效率高。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种硅片自动涂源生产线，包括涂硼装置、第一烘干炉、涂磷装置、第二烘干炉和洒粉单元，涂硼装置与第一烘干炉之间、第一烘干炉与涂磷装置之间、涂磷装置与第二烘干炉之间、第二烘干炉与洒粉单元之间均设有第一转运机械手，第一烘干炉的下游一端设有硅片翻转机构。

技术方案中，优选的，还包括上料线，上料线与涂硼装置之间设有第二转运机械手，上料线包括满载上料线、第一硅片承载装置翻转机构和空载流出线，第一硅片承载装置翻转机构设于满载上料线的下游一端。

技术方案中，优选的，还包括下料线，下料线与洒粉单元之间设有第三转运机械手，下料线包括空载流入线、满载流出线和第二硅片承载装置翻转机构，空载流入线的下游一端与满载流出线的上游一端之间设有移动轴，第二硅片承载装置翻转机构可移动设于移动轴上。

技术方案中，优选的，涂硼装置包括第一机台、第一喷嘴、第一托盘、第一升降机构和第一旋转机构，第一托盘底部与第一升降机构的升降轴连接，第一升降机构的底部与第一旋转机构的旋转轴连接，第一旋转机构固定于第一机台上，第一喷嘴设于第一托盘上方。

技术方案中，优选的，涂磷装置包括第二机台、第二喷嘴、第二托盘、第二升降机构和第二旋转机构，第二托盘底部与第二升降机构的升降轴连接，第二升降机构的底部与第二旋转机构的旋转轴连接，第二旋转机构固定于第二机台上，第二喷嘴设于第二托盘上方。

技术方案中，优选的，洒粉单元包括第三机台、第三托盘、第三升降机构和震动洒粉单元，第三升降机构设于第三机台上，第三升降机构的升降轴与第三托盘底部连接，震动洒粉单元设于第三托盘上方。

技术方案中，优选的，第一烘干炉包括第一炉体和第一传送带，第一传送带设于第一炉体内，第一炉体上设有第一送风马达和第一排风马达。

技术方案中，优选的，第二烘干炉包括第二炉体和第二传送带，第二传送带设于第二炉体内，第二炉体上设有第二送风马达和第二排风马达。

技术方案中，优选的，涂硼装置与上料线之间还设有第一碎片筛选装置，第一碎片筛选装置包括来料提升机、第一光源、第一图像采集装置和第一碎片收集盒，来料提升机设于花篮翻转机构翻转之后下游一端，来料提升机与第一碎片收集盒之间设有第四转运机械手。

技术方案中，优选的，硅片翻转机构与涂磷装置之间还设有第二碎片筛选装置，第二碎片筛选装置包括第二光源、第二图像采集装置和第二碎片收集盒，硅片翻转机构与第二碎片收集盒之间设有第五转运机械手。

本实用新型具有的优点和积极效果是：该硅片自动涂源生产线自动化程度高，硅片涂源的多个过程在生产线上连续机械运行，无需配备大量专人人工操作，失误率低，涂敷效率高，涂料均匀，产品合格率高。

附图说明

图1是本实用新型硅片自动涂源生产线的结构示意图。

图2是本实用新型中上料线的结构示意图。

图3是本实用新型中碎片筛选装置的结构示意图。

图4是本实用新型中来料提升机的俯视图。

图5是本实用新型中来料提升机的主视图。

图6是本实用新型中缓存提升机的俯视图。

图7是本实用新型中缓存提升机的主视图。

图8是本实用新型中涂硼装置的主视图。

图9是本实用新型中烘干炉和硅片翻转机构的结构示意图。

图10是本实用新型中碎片筛选装置的结构示意图。

图11是本实用新型中涂磷装置的主视图。

图12是本实用新型中洒粉装置的俯视图。

图13是本实用新型中洒粉装置的左视图。

图14是本实用新型中下料线的结构示意图。

图中：

1、涂硼装置 2、烘干炉 3、涂磷装置

4、烘干炉 5、洒粉单元 6、转运机械手

7、硅片翻转机构 8、上料线 9、转运机械手

10、下料线 11、机台 12、喷嘴

13、托盘 14、升降机构 15、旋转机构

16、转运机械手 17、碎片筛选装置 18、碎片筛选装置

19、缓存提升机构 20、转运机械手 21、炉体

22、传送带 23、送风马达 24、排风马达

25、转运机械手 26、转运机械手 27、转运机械手

28、吸盘 29、夹具 31、机台

32、喷嘴 33、托盘 34、升降机构

35、旋转机构 51、机台 52、托盘

53、可移动挡边 54、升降机构 55、震动洒粉单元

71、吸盘 72、吸盘支杆 73、电机

81、满花篮上料线 82、花篮翻转机构 83、空花篮流出线

101、空舟流入线 102、满舟流出线 103、硅舟翻转机构

104、移动轴 171、光源 172、图像采集装置

173、转运机械手 174、来料提升机 175、碎片收集盒

176、缓存提升机构 177、转运机械手 178、横移机器人

179、支撑架 181、光源 182、图像采集装置

183、转运机械手 184、支撑架 185、碎片收集盒

531、驱动气缸 532、挡边 533、挡片

551、筛床 552、震动机构 821、传输机构

822、转动轴 823、翻转电机 811、传输支架

812、传送带 813、花篮卡紧装置 831、传输支架

832、传送带 833、花篮卡紧装置 1741、传送带

1742、花篮卡紧机构 1743、花篮提升机构 1744、支撑架

1761、传送带 1762、花篮卡紧机构 1763、花篮提升机构

1764、支撑架 8211、传输支架 8212、传送带

8213、花篮卡紧装置

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型实施例做进一步描述：

如图1所示，本实施例所述的一种硅片自动涂源生产线，包括涂硼装置1、烘干炉2、涂磷装置3、烘干炉4和洒粉单元5，涂硼装置1与烘干炉2之间、烘干炉2与涂磷装置3之间、涂磷装置3与烘干炉4之间、烘干炉4与洒粉单元5之间均设有转运机械手，烘干炉2的下游一端设有硅片翻转机构7。硅片在涂硼装置1中喷涂硼扩散源后，由转运机械手6转运至烘干炉2中，对喷涂硼扩散源的一面进行烘干和硼的扩散，然后由烘干炉2的下游的硅片翻转机构7将硅片翻转180度，另一面朝上，再由转运机械手20转运至涂磷装置3，进行磷扩散源的喷涂，再由转运机械手26转运至烘干炉4中，对背面进行烘干和磷的扩散，然后由转运机械手25将硅片转移至洒粉单元，对逐一转移的硅片进行洒氧化铝粉，防止硅片在扩散的过程中产生粘片。该硅片自动涂源生产线实现了整个硅片涂源过程的流水线化，可实现硅片涂源的整个过程，不需要人力操作，全部使用自动化设备，自动化程度高，生产效率高。

如图2所示，优选方案中，该生产线还包括上料线8，上料线8与涂硼装置1之间设有转运机械手9，上料线8包括满花篮上料线81、花篮翻转机构82和空花篮流出线83，花篮翻转机构82设于满花篮上料线81的下游的一端，并与满花篮上料线81在一条直线上，接收由满花篮上料线81传送过来的盛满硅片的花篮，花篮翻转机构82包括传输机构821、水平设置的转动轴822和翻转电机823，传输机构821与转动轴822固定连接，并且转动轴822与传输机构821的与传送方向平行的侧边处固定，翻转电机823的输出轴与转动轴822连接，翻转电机823运行带动转动轴822转动，从而使传输机构821绕侧边旋转90度，使传输机构821上的花篮由平躺位转变为竖立位，花篮中的硅片由竖立为转为平躺位，供转运机械手9上的吸盘直接吸取硅片，进行转运，花篮翻转机构82翻转后的位置位于空花篮流出线83的上游端，用于接收花篮翻转机构82中将硅片均移走后剩余的空花篮，并将空花篮传送回来。

上料线8可将由上游工艺提供的承载硅片的装置运送至涂源工序设备，并将硅片调整为适应下步设备的角度，同时可将不需要的空花篮运回生产线，自动化程度高，无需人工手动转运。

其中，传输机构821包括传输支架8211、架设在传输支架8211上的传送带8212和设于传送带8212上方的花篮卡紧装置8213，当花篮由满花篮上料线81传送至花篮翻转机构82上后，被花篮卡紧装置8213固定在传输机构821上，使其无法沿竖直方向活动，当花篮翻转机构82翻转时带动其中的花篮翻转90度，当花篮中硅片都被抽走后，传输机构821的传送带8212向反方向传动，由于此时传输机构821与空花篮流出线83对准，将空花篮传送至空花篮流出线83并被流出线传送回来。其中，花篮卡紧装置8213可以为固定于传输支架8211上的，位于传送带8212上方的围栏档杆，不限制花篮在水平方向上的移动，但限制花篮在竖直方向上的移动，从而在花篮翻转机构82 90度旋转后，花篮不会掉下。

满花篮上料线81包括传输支架811、架设在传输支架811上的传送带812和设于传送带812上方的花篮卡紧装置813，花篮卡紧装置813可以为固定于传输支架811上的，位于传送带812上方的围栏档杆，防止花篮在传送过程中翻到或移位从传送带812上掉下。

空花篮出料线83包括传输支架831、架设在传输支架831上的传送带832和设于传送带832上方的花篮卡紧装置833，花篮卡紧装置833可以为固定于传输支架831上的，位于传送带832上方的围栏档杆，防止花篮在传送过程中翻到或移位从传送带832上掉下。

如图3所示，上料线8与涂硼装置1之间还设有碎片筛选装置17，碎片筛选装置17包括光源171、图像采集装置172、转运机械手173、控制器、图像显示装置和碎片收集盒175，图像采集装置172设于光源171的附近，图像采集装置172、转运机械手173和图像显示装置分别与控制器电连接。转运机械手173将上料线8上花篮翻转机构82中的硅片由承载花篮中抽出，并放于光源171的上方，在光源171的照射下，控制图像采集装置172对硅片进行拍照，并将图像传至图像显示装置，工作人员在图像显示装置前观测到硅片碎片后，通过操作转运机械手173将碎片的硅片转移至碎片收集盒175中，从而将碎片筛选出来。工作人员可在图像显示装置上同时监测多个工艺节点处的碎片情况，且无需到现场将碎片挑拣出来，省时省力，效率高。其中，图像采集装置172可以为工业相机。还可在光源171上方设支撑架179，转运机械手173从承载花篮中将硅片抽出后放在支撑架179上，进行图像采集。

如图4、图5所示，其中，碎片筛选装置17还可以包括来料提升机174，转运机械手173设于来料提升机174与图像采集装置172之间，来料提升机174位于花篮翻转机构82下游，并保持在同一条线上，与上料线8的花篮翻转机构82进行直接衔接，连贯性更高，自动化程度更高，来料提升机174包括传送带1741、花篮卡紧机构1742、支撑架1744和花篮提升机构1743，传送带1741架设在支撑架1744上，花篮卡紧机构1742设于传送带1741上方，花篮提升机构1743设于花篮卡紧机构1742下方。承载硅片的花篮由上料线8送入生产线，到花篮翻转机构82被旋转90度后，由花篮旋转机构82的传送带8212送至来料提升机174的传送带1741上，并被花篮卡紧机构1742固定，转运机械手173从花篮中将硅片抽出，放在光源171上方采集图像，由于硅片逐渐被抽走，花篮中硅片的高度随之下降，为了保证花篮中第一个硅片的高度不变，每抽走一个硅片后，花篮提升机构1743将花篮高度升高，使最上层的硅片与转运机械手高度保持一致。花篮提升机构1742可以为电机控制升降，传送带1741架设于支撑架1744的两侧，支撑架1744中间部位为空，升降电机的螺纹轴由支撑架1744的中间伸出，与花篮下方的花篮卡紧机构1742接触，将其顶起，提高花篮的高度。来料提升机174可与上道工序的生产线进行直接衔接，使生产线与碎片筛选装置之间的操作更连贯，生产连续性更高，自动化程度更高。

如图6、图7所示，还包括缓存提升机构176，与来料提升机174类似，缓存提升机构176与图像采集装置172之间设有转运机械手177，缓存提升机构176包括传送带1761、花篮卡紧机构1762、支撑架1764和花篮提升机构1763，传送带1761架设在支撑架1764上，花篮卡紧机构1762设于传送带1761上方，花篮提升机构1762设于花篮卡紧机构1742下方，转运机械手177与控制器电连接，缓存提升机构176与来料提升机174之间还设有横移机器人178，当上料线8运至来料提升机174的物料过多，而碎片筛选较慢时，可通过横移机器人178将承载花篮运至缓存提升机构176，在缓存提升机构176与图像采集装置172之间同样设有转运机械手177，可与来料提升机174上的硅片穿插进行图像采集，进行碎片筛选，碎片筛选效率高。

该碎片筛选装置，工作人员无需到现场的每个工艺节点处监测筛选、挑拣硅片中的碎片，可在图像显示装置上同时监测多个工艺节点处的碎片情况，并对碎片进行挑拣，省时省力，效率高；设有来料提升机，可与上道工序的生产线进行直接衔接，使生产线与碎片筛选装置之间的操作更连贯，生产连续性更高，自动化程度更高；设有缓存提升装置，可缓存来料提升机无法及时处理的物料，并可与来料提升机穿插进行硅片的筛选，效率更高。

如图8所示，涂硼装置1包括机台11、喷嘴12、托盘13、升降机构14和旋转机构15，托盘13底部与升降机构14的升降轴连接，升降机构14的底部与旋转机构15的旋转轴连接，旋转机构15固定于机台11上，喷嘴12设于托盘13上方。硅片被转运机械手9吸起后，涂硼装置1的升降机构14升起，使其上的托盘13高度对准转运机械手的高度，转运机械手将硅片放置在托盘13上后，升降机构14下降至喷嘴12下方，旋转机构15带动托盘13高速旋转，同时喷嘴12喷出硼扩散源溶液。升降机构14可以为升降气缸，旋转机构15可以为电机，涂硼装置1可将扩散源溶液均匀的喷涂在硅片上。

如图9所示，烘干炉2包括炉体21和传送带22，传送带22设于炉体21内，炉体21上设有送风马达23和排风马达24，在涂硼装置1上喷涂完硼扩散源的硅片由转运机械手6吸取并转运至烘干炉2的传送带22上，进入炉体21进行烘干，并扩散，烘干完成后由传送带22将其从炉体21的另一端送出，送风马达23为炉体21中不断送入空气，排风马达24将炉体中扩散源溶液产生的气体排出，对炉体21中进行换气。

硅片翻转机构7包括吸盘71、吸盘支杆72和电机73，电机73的输出轴与吸盘支杆72的一端连接，吸盘71设于吸盘支杆72的一端，吸盘71将从烘干炉2中运出的硅片吸起，电机73带动吸盘支杆72绕轴旋转180度，使吸盘71上的硅片由正面朝上转为反面朝上，然后经转运机械手20转运至涂磷装置3进行磷扩散源的喷涂。

如图10所示，硅片翻转机构7与涂磷装置3之间还可设有碎片筛选装置18，碎片筛选装置18包括光源181、图像采集装置182、转运机械手183、控制器、图像显示装置和碎片收集盒185，图像采集装置182设于光源181的附近，图像采集装置182、转运机械手183和图像显示装置分别与控制器电连接，转运机械手183设于硅片翻转机构7与碎片收集盒185之间，硅片翻转机构7将硅片翻转后放置于光源181的上方，在光源181的照射下，控制图像采集装置182对硅片进行拍照，并将图像传至图像显示装置，工作人员在图像显示装置前观测到硅片碎片后，通过操作转运机械手183将碎片的硅片转移至碎片收集盒185中，从而将碎片筛选出来。工作人员可在图像显示装置上同时监测多个工艺节点处的碎片情况，且无需到现场将碎片挑拣出来，省时省力，效率高。其中，图像采集装置182可以为工业相机。还可在光源181上方设支撑架184，吸盘71从烘干炉2中将硅片抽出后放在支撑架184上，进行图像采集。

碎片筛选装置18与涂磷装置4之间还可以设置缓存提升机构19，缓存提升机构19与图像采集装置182之间设有转运机械手183，缓存提升机构19包括传送带、花篮卡紧机构、支撑架和花篮提升机构，传送带架设在支撑架上，花篮卡紧机构设于传送带上方，花篮提升机构设于花篮卡紧机构下方，转运机械手183与控制器电连接，当碎片筛选装置18筛选后的硅片过多，涂磷装置4处理较慢时，转运机械手183将硅片运至缓存提升机构19，进行缓存。

如图11所示，涂磷装置3包括机台31、喷嘴32、托盘33、升降机构34和旋转机构35，托盘33底部与升降机构34的升降轴连接，升降机构34的底部与旋转机构35的旋转轴连接，旋转机构35固定于机台31上，喷嘴32设于托盘33上方。硅片被转运机械手20吸起后，涂磷装置3的升降机构34升起，使其上的托盘33高度对准转运机械手20的高度，转运机械手20将硅片放置在托盘33上后，升降机构34下降至喷嘴32下方，旋转机构35带动托盘33高速旋转，同时喷嘴32喷出磷扩散源溶液。涂磷装置3可将磷扩散源溶液均匀的喷涂在硅片上。

与烘干炉2相同，烘干炉4包括炉体和传送带，传送带设于炉体内，炉体上设有送风马达和排风马达，在涂磷装置3上喷涂完磷扩散源的硅片由转运机械手26吸取并转运至烘干炉4的传送带上，进入炉体进行烘干，并扩散，烘干完成后由传送带将其从炉体的另一端送出，送风马达为炉体中不断送入空气，排风马达将炉体中扩散源溶液产生的气体排出，对炉体中进行换气。

如图12、图13所示，洒粉单元5包括机台51、托盘52、可移动挡边53、升降机构54和震动洒粉单元55，升降机构54设于机台51上，升降机构54的升降轴与托盘52的底部连接，可移动挡边53设于托盘52上方，震动洒粉单元55设于可移动挡边53的上方。托盘52上放置有挡片533，挡片533大小大于硅片，对硅片起保护作用，防止硅片被托盘划伤，涂源并烘干后传送过来的硅片首先被设于机台51上的转运机械手27上的吸盘28吸取，升降机构54上升，机械手27将硅片放置于托盘52上的挡片533上，可移动挡边53调整位置对硅片进行定位，之后转运过来的硅片逐一往第一个硅片上堆叠，可移动挡边53将堆叠上的大量硅片调整齐，并且在整个过程中，震动洒粉单元55不断的进行震动，震动洒粉单元55中盛满氧化铝粉末，震动洒粉单元55底部设有筛孔，震动过程中氧化铝粉末由筛孔中洒出至硅片上，当硅片堆叠一定数量后，将硅舟的开口对准硅片，并从堆叠好的硅片的侧面使硅片插入硅舟中，装满硅舟，然后升降机构54下降，托盘52下降，并将装满硅片的硅舟运送至下一工艺。该装置可在硅片堆叠过程中不断自动洒粉，可有效防止硅片在高温扩散工序过程中发生粘片，且无需人工洒粉，效率高，省时省力。

机台51上还设有转运机械手16，转运机械手16的端部设有夹具29，转运机械手16从硅舟供给装置上夹取硅舟，然后在可移动挡边53上堆叠的硅片到一定数量后，转运机械手16夹持硅舟，将硅片从硅舟侧面插入，升降机构54下降，使托盘52与挡片533脱离，挡片533及硅片留在硅舟内，然后转运机械手16将装满硅片的硅舟转送至下一工艺生产线，无需人工手动转移硅舟，使洒粉装置与下游工艺的连续性更好，自动化程度更高，效率高。

震动洒粉单元55包括筛床551和震动机构552，筛床551通过震动机构552与机台51连接，筛床551底部设有若干筛孔。现有的震动洒粉装置有很多种类型，现有专利中也有许多对此装置的公开(如CN201510825393.4)，此处对震动洒粉单元中的筛床和震动机构等的具体结构不进行限定，各种类型的结构在本实用新型中均可使用。

可移动挡边53可以为包括多个驱动气缸531和多个挡边532，驱动气缸531水平设于机台51上，驱动气缸531的伸缩轴与挡边532的一端连接，挡边532的另一端延伸超过托盘52的高度，当托盘52上堆叠大量硅片后，驱动气缸531驱动挡边532，使堆叠的硅片堆叠整齐，防止其从托盘52上滑下。

如图14所示，还包括下料线10，下料线10与洒粉单元5之间设有转运机械手16，下料线10包括空舟流入线101、满舟流出线102和硅舟翻转机构103，空舟流入线101的下游一端与满舟流出线102的上游一端之间设有移动轴104，硅舟翻转机构103可移动的设于移动轴104上，并可绕移动轴104旋转90度。完成涂源工艺的硅片被运送至下料线10，空硅舟由空舟流入线101送入硅舟翻转机构103，硅舟翻转机构103翻转90度后，硅舟由水平位变为侧立位，转运机械手16从硅舟翻转机构103中将硅舟夹持出，并将硅舟从硅片侧面插入，将满舟放置在硅舟翻转机构103上，硅舟翻转机构103绕移动轴104旋转90度后硅舟转变为水平位，硅舟翻转机构103沿移动轴104由空舟流入线101旁移动至满舟流出线102旁，并将满舟由满舟流出线102送出该生产线。

下料线10可为经涂源工艺完成的硅片提供承载用硅舟，并将由涂源工艺完成得到的硅片运送至下一工艺的设备，自动化程度高，无需人工手动转运。

其中，移动轴104可为气缸，气缸的伸缩轴与硅舟翻转机构103底部中线连接，气缸驱动伸缩轴伸缩使硅舟翻转机构103沿轴移动，气缸的另一端与电机的输出轴连接，电机驱动输出轴旋转，带动气缸绕轴旋转，从而使硅舟翻转机构103绕移动轴104旋转，使硅舟翻转机构103旋转至翻转后位置。

硅舟翻转机构103包括支架、架设在支架上的传送带和设于传送带上方的硅舟卡紧装置，当硅舟由空舟流入线101传送至硅舟翻转机构103上后，被硅舟卡紧装置固定在硅舟翻转机构103上，使其无法沿竖直方向活动，当硅舟翻转机构103翻转时带动其中的硅舟翻转90度，通过转运机械手放入满舟后，硅舟翻转机构103绕轴旋转90度后，沿移动轴104移动至满舟流出线102旁，硅舟翻转机构103的传送带向反方向传动，由于此时硅舟翻转机构103与满舟流出线102对准，将满舟传送至满舟流出线102并送出涂源生产线。其中，硅舟卡紧装置可以为固定于硅舟翻转机构103上的，位于传送带上方的围栏档杆，不限制硅舟在水平方向上的移动，但限制硅舟在竖直方向上的移动，从而在硅舟翻转机构103 90度旋转后，硅舟不会掉下。

空舟流入线101包括传输支架、架设在传输支架上的传送带和设于传送带上方的硅舟卡紧装置，硅舟卡紧装置可以为固定于传输支架上的，位于传送带上方的围栏档杆，防止花篮在传送过程中翻到或移位从传送带上掉下。

满舟流出线102包括传输支架、架设在传输支架上的传送带和设于传送带上方的硅舟卡紧装置，硅舟卡紧装置可以为固定于传输支架上的，位于传送带上方的围栏档杆，防止花篮在传送过程中翻到或移位从传送带上掉下。

该硅片自动涂源生产线自动化程度高，硅片涂源的多个过程自动进行，无需配备大量专人人工操作，失误率低，涂敷效率高，涂料均匀，产品合格率高。

以上对本实用新型的一个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。

Claims (10)

1.一种硅片自动涂源生产线，其特征在于：包括涂硼装置、第一烘干炉、涂磷装置、第二烘干炉和洒粉单元，所述涂硼装置与所述第一烘干炉之间、所述第一烘干炉与所述涂磷装置之间、所述涂磷装置与所述第二烘干炉之间、所述第二烘干炉与所述洒粉单元之间均设有第一转运机械手，所述第一烘干炉的下游一端设有硅片翻转机构。

2.根据权利要求1所述的硅片自动涂源生产线，其特征在于：还包括上料线，所述上料线与所述涂硼装置之间设有第二转运机械手，所述上料线包括满载上料线、第一硅片承载装置翻转机构和空载流出线，所述第一硅片承载装置翻转机构设于所述满载上料线的下游一端。

3.根据权利要求1或2所述的硅片自动涂源生产线，其特征在于：还包括下料线，所述下料线与所述洒粉单元之间设有第三转运机械手，所述下料线包括空载流入线、满载流出线和第二硅片承载装置翻转机构，所述空载流入线的下游一端与所述满载流出线的上游一端之间设有移动轴，所述第二硅片承载装置翻转机构可移动设于所述移动轴上。

4.根据权利要求1或2所述的硅片自动涂源生产线，其特征在于：所述涂硼装置包括第一机台、第一喷嘴、第一托盘、第一升降机构和第一旋转机构，所述第一托盘底部与所述第一升降机构的升降轴连接，所述第一升降机构的底部与所述第一旋转机构的旋转轴连接，所述第一旋转机构固定于所述第一机台上，所述第一喷嘴设于所述第一托盘上方。

5.根据权利要求1或2所述的硅片自动涂源生产线，其特征在于：所述涂磷装置包括第二机台、第二喷嘴、第二托盘、第二升降机构和第二旋转机构，所述第二托盘底部与所述第二升降机构的升降轴连接，所述第二升降机构的底部与所述第二旋转机构的旋转轴连接，所述第二旋转机构固定于所述第二机台上，所述第二喷嘴设于所述第二托盘上方。

6.根据权利要求1或2所述的硅片自动涂源生产线，其特征在于：所述洒粉单元包括第三机台、第三托盘、第三升降机构和震动洒粉单元，所述第三升降机构设于所述第三机台上，所述第三升降机构的升降轴与所述第三托盘底部连接，所述震动洒粉单元设于所述第三托盘上方。

7.根据权利要求1或2所述的硅片自动涂源生产线，其特征在于：所述第一烘干炉包括第一炉体和第一传送带，所述第一传送带设于所述第一炉体内，所述第一炉体上设有第一送风马达和第一排风马达。

8.根据权利要求1或2所述的硅片自动涂源生产线，其特征在于：所述第二烘干炉包括第二炉体和第二传送带，所述第二传送带设于所述第二炉体内，所述第二炉体上设有第二送风马达和第二排风马达。

9.根据权利要求2所述的硅片自动涂源生产线，其特征在于：所述涂硼装置与所述上料线之间还设有第一碎片筛选装置，所述第一碎片筛选装置包括来料提升机、第一光源、第一图像采集装置和第一碎片收集盒，所述来料提升机设于所述第一硅片承载装置翻转机构翻转之后的下游一端，所述来料提升机与所述第一碎片收集盒之间设有第四转运机械手。

10.根据权利要求1或2所述的硅片自动涂源生产线，其特征在于：所述硅片翻转机构与所述涂磷装置之间还设有第二碎片筛选装置，所述第二碎片筛选装置包括第二光源、第二图像采集装置和第二碎片收集盒，所述硅片翻转机构与所述第二碎片收集盒之间设有第五转运机械手。