CN207336790U - 显示装置用罩盖玻璃及电子设备 - Google Patents
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Abstract
提供一种具有防反射膜,近红外光的透射率高,耐擦伤性也优异的显示装置用罩盖玻璃及电子设备。显示装置用罩盖玻璃具有透明基材和设置在所述透明基材上的防反射膜。所述防反射膜具有将折射率为1.9以上的高折射率膜与折射率为1.6以下的低折射率膜交替地层叠而成的构造。所述高折射率膜、所述低折射率膜分别由如下材料构成,所述材料包含选自Al、Zr、Ti、Si、Sn、Hf、Ta的氧化物、氮化物及氮氧化物中的至少一种。显示装置用罩盖玻璃的可见光反射率为1.5%以下,具有在800~1200nm的波长范围的至少10nm的连续的波长范围内透射率成为90%以上的区域。
Description
技术领域
本实用新型的实施方式涉及显示装置用罩盖玻璃及电子设备。
背景技术
以往,为了显示装置的保护及强化而在前表面设置罩盖玻璃。在这样的罩盖玻璃上,为了提高显示的视觉辨认性而设有防止光的反射的防反射膜(例如,参照专利文献1)。
然而,在具有触摸面板式的显示装置的便携式电话机,例如,智能手机中,有时在显示装置的周围设置接近传感器。通过接近传感器,能够检测人类的耳朵等接近便携式电话机的情况,能够知晓是否处于通话状态。由此,例如,能够为了防止通话中的误动作而使操作无效,或者为了抑制蓄电池的电力消耗而使灯熄灭。
接近传感器例如具有发出近红外光的发光部、及接收从该发光部发出而由检测对象物反射的近红外光的受光部。发光部、受光部例如设置在便携式电话机的显示面侧。
在处于通话状态的情况下,即人类的耳朵等向接近传感器接近的情况下,从发光部发出的近红外光由作为检测对象物的人类的耳朵等反射,其反射的近红外光在受光部处被接收。由此,能够检测处于通话状态的情况(例如,参照专利文献2、3)。
【在先技术文献】
【专利文献】
【专利文献1】日本特开2016-102757号公报
【专利文献2】日本特开2016-103856号公报
【专利文献3】日本特开2016-086068号公报
【实用新型要解决的课题】
然而,关于以往的防反射膜,仅考虑可见区域的反射,未必考虑近红外区域的反射。通常,关于可见区域虽然反射率充分低,但是关于近红外区域,反射率随着波长的增加而升高。因此,接近传感器所使用的近红外光未充分地透射,可能无法适当地对检测对象物进行检测。而且,从向触摸面板式的显示装置等的使用的观点出发,也要求防反射膜的耐擦伤性优异。
实用新型内容
本实用新型要解决的课题的目的在于,提供具有防反射膜且近红外光的透射率高的显示装置用罩盖玻璃。而且,本实用新型要解决的课题的目的在于提供具有这样的显示装置用罩盖玻璃的显示装置。
【用于解决课题的方案】
本实用新型的显示装置用罩盖玻璃具有透明基材和设置在所述透明基材上的防反射膜,其中,所述防反射膜具有将折射率为1.9以上的高折射率膜与折射率为1.6以下的低折射率膜交替地层叠而形成的构造,所述高折射率膜、所述低折射率膜分别由如下材料构成,所述材料包含选自Al、Zr、Ti、Si、Sn、Hf、Ta的氧化物、氮化物及氮氧化物中的至少一种,可见光反射率为1.5%以下,具有在800~1200nm的波长范围的至少10nm的连续的波长范围内透射率成为90%以上的区域。
【实用新型效果】
根据本实用新型,能够提供一种具有防反射膜且近红外光的透射率高的显示装置用罩盖玻璃。
附图说明
图1是表示实施方式的显示装置用罩盖玻璃的剖视图。
图2是说明自由基辅助溅射装置的图。
图3是表示实施方式的电子设备的俯视图。
图4是图3所示的电子设备的A-A线剖视图。
【标号说明】
10…罩盖玻璃,11…透明基材,12…防反射膜,13…高折射率膜,14…低折射率膜,20…自由基辅助溅射装置,21…装置主体,22…鼓,23…壁部,24…靶,26…氩气供给部,27…自由基源,28…整合机及RF源,31…氩气供给部,32…氮气供给部,33…氧气供给部,35…电源,40…便携式电话机,41…壳体,42…显示装置,43…罩盖玻璃,45…接近传感器,451…发光部,452…受光部,453…基板
具体实施方式
以下,说明用于实施本实用新型的方式。
图1是表示显示装置用罩盖玻璃的一实施方式的剖视图。
需要说明的是,以下,将显示装置用罩盖玻璃仅记为罩盖玻璃而进行说明。
罩盖玻璃10具有透明基材11和设置在该透明基材11上的防反射膜12。防反射膜12具有将折射率为1.9以上的高折射率膜13与折射率为1.6以下的低折射率膜14交替层叠而形成的构造。需要说明的是,折射率是波长600nm的折射率。
罩盖玻璃10具有1.5%以下的可见光反射率,并且具有在800~1200nm的波长范围的至少10nm的连续的波长范围内透射率成为90%以上的区域。需要说明的是,可见光反射率是遵照JIS R3106(1998年)定义的可见光反射率。而且,构成防反射膜12的高折射率膜13及低折射率膜14分别由如下材料构成,所述材料包含选自Al、Zr、Ti、Si、Sn、Hf、Ta的氧化物、氮化物或氮氧化物中的至少一种。
通过具有1.5%以下的可见光反射率,能抑制可见光的反射,配置在显示装置的前表面时的显示的视觉辨认性变得良好。而且,通过具有在800~1200nm的波长范围的至少10nm的连续的波长范围内透射率成为90%以上的区域,近红外光的透射变得良好,能够使用接近传感器。
以下,具体说明罩盖玻璃10的构成构件。
透明基材11只要相对于可见光及近红外光具有透明性即可,可以是无机玻璃、有机玻璃中的任一个。
作为无机玻璃,可列举钠钙玻璃、无碱玻璃、硼硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃、蓝宝石玻璃等。作为无机玻璃,从强度高且耐擦伤性优异的情况出发而优选进行了物理强化或化学强化的强化玻璃或蓝宝石玻璃。需要说明的是,无机玻璃也可以是进行了硬化涂层等的结构。
物理强化通过风冷等对加热至软化点附近的玻璃的表面进行急冷。通过急冷,在玻璃的表面形成压缩应力层而强度提高。
化学强化以玻化温度以下的温度通过离子交换将玻璃的表面的离子半径小的碱金属离子(典型的是Li离子、Na离子)交换为离子半径更大的碱离子(典型的是K离子)。通过这样的离子交换,在玻璃的表面形成压缩应力层而强度提高。化学强化通常通过将玻璃浸渍在含有碱金属的熔融盐中进行。
作为有机玻璃,可列举聚碳酸酯、聚酯、三乙酰纤维素、环烯烃共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯等。从耐候性及透明性的观点出发,优选聚碳酸酯、聚酯、环烯烃共聚物。作为聚酯,可列举聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等。
透明基材11的形态可以根据显示装置而适当选择,可以是板状、膜状中的任一种。关于厚度,可以根据显示装置而适当选择。从确保强度等的观点出发,优选为0.1mm以上,更优选为0.3mm以上。而且,从薄型化及轻量化的观点出发,优选为2mm以下,更优选为1.5mm以下。
防反射膜12如已经说明那样是将具有1.9以上的折射率的高折射率膜13与具有1.6以下的折射率的低折射率膜14交替层叠而形成的结构。
高折射率膜13、低折射率膜14的层叠顺序没有特别限制。例如,在透明基材11侧配置的膜可以是高折射率膜13,也可以是低折射率膜14。而且,在与透明基材11侧相反的一侧配置的膜可以是高折射率膜13,也可以是低折射率膜14,但是从降低反射率的观点出发,优选低折射率材料。在图1的例子中,将最接近透明基材11的膜设为高折射率膜13,将距透明基材11最远的膜设为低折射率膜14。而且,能够容许高折射率膜13局部地相邻层叠的情况,或者低折射率膜14局部地相邻层叠的情况,即,即便不是交替地层叠,只要是局部性的就能够容许。
高折射率膜13的层数在防反射膜12中优选为2层以上,更优选为3层以上。随着高折射率膜13的层数的增加而可见光的反射得到抑制,且近红外光的透射也变得良好。通常,高折射率膜13的层数从生产性等观点出发,优选为10层以下,更优选为8层以下。
低折射率膜14的层数在防反射膜12中优选为2层以上,更优选为3层以上。随着低折射率膜14的层数增加而可见光的反射得到抑制,且近红外光的透射也良好。通常,低折射率膜14的层数从生产性等观点出发,优选为10层以下,更优选为8层以下。
防反射膜12的层数,即,将全部的高折射率膜13与低折射率膜14总计而得到的层数从抑制可见光的反射且近红外光的透射变得良好的情况出发而优选为4层以上,更优选为6层以上。通常,防反射膜12的层数从生产性等观点出发优选为20层以下,更优选为18层以下。
防反射膜12、高折射率膜13、低折射率膜14的各层的厚度调整为罩盖玻璃10具有规定的光学特性。具体而言,调整为可见光反射率成为1.5%以下,且调整为形成有在800~1200nm的波长范围的至少10nm的连续的波长范围内透射率成为90%以上的区域。需要说明的是,防反射膜12、高折射率膜13、低折射率膜14的厚度是几何学厚度。
从抑制可见光的反射且近红外光的透射变得良好的情况出发,防反射膜12的厚度,即,将高折射率膜13的各层全部及低折射率膜14的各层全部总计而得到的厚度优选为300nm以上,更优选为330nm以上,进一步优选为350nm以上。尤其是从近红外光的透射变得良好的情况出发,优选为550nm以上,更优选为600nm以上。另一方面,从生产性等观点出发,优选为1000nm以下,更优选为900nm以下,进一步优选为800nm以下。
从抑制可见光的反射且近红外光的透射变得良好的情况出发,高折射率膜13的各层的厚度分别优选为1nm以上,更优选为3nm以上。特别优选1层的高折射率膜13的厚度为1nm以上且小于10nm并且所述1层的高折射率膜13以外的全部的高折射率膜13的各层的厚度为10nm以上,或者全部的高折射率膜13的各层的厚度为10nm以上。另一方面,从生产性等观点出发,高折射率膜13的各层的厚度分别优选为250nm以下,更优选为200nm以下。
从抑制可见光的反射且近红外光的透射变得良好的情况出发,低折射率膜14的各层的厚度分别优选为1nm以上,更优选为3nm以上。特别优选1层的低折射率膜14的厚度为1nm以上且小于10nm,并且所述1层的低折射率膜14以外的全部的低折射率膜14的各层的厚度为10nm以上,或者全部的低折射率膜14的各层的厚度为10nm以上。另一方面,从生产性等观点出发,低折射率膜14的各层的厚度分别优选为300nm以下,更优选为250nm以下。
从抑制可见光的反射且近红外光的透射变得良好的情况出发,将高折射率膜13的各层全部总计而得到的厚度优选为100nm以上,更优选为150nm以上。另一方面,从生产性等观点出发,优选为500nm以下,更优选为450nm以下。
从抑制可见光的反射且近红外光的透射变得良好的情况出发,将低折射率膜14的各层全部总计而得到的厚度优选为100nm以上,更优选为150nm以上。另一方面,从生产性等观点出发,优选为500nm以下,更优选为450nm以下。
从抑制可见光的反射且近红外光的透射变得良好的情况出发,将高折射率膜13的各层全部进行了平均而得到的厚度优选为30nm以上,更优选为35nm以上,进一步优选为40nm以上,特别优选为43nm以上。另一方面,从生产性等观点出发,优选为60nm以下,更优选为55nm以下。
从抑制可见光的反射且近红外光的透射变得良好的情况出发,将低折射率膜14的各层全部进行了平均而得到的厚度优选为25nm以上,更优选为30nm以上。另一方面,从生产性等观点出发,优选为100nm以下,更优选为90nm以下。
尤其是以高折射率膜13和在透明基材11侧的相反侧与高折射率膜13相邻的低折射率膜14为1个层叠单位时,防反射膜12优选具有至少1个高折射率膜13的厚度(H[nm])与低折射率膜14的厚度(L[nm])之比(H/L)成为2.0以上的层叠单位。
通过具有至少1个比(H/L)成为2.0以上的层叠单位,能抑制可见光的反射,且近红外光的透射变得良好。这样的层叠单位优选具有3.0以上的比(H/L),更优选具有3.5以上的比(H/L)。通常,这样的层叠单位的比(H/L)优选为50以下,更优选为40以下。
比(H/L)成为2.0以上的层叠单位优选在防反射膜12上设置2个以上。通过将比(H/L)成为2.0以上的层叠单位设置2个以上,特别能抑制可见光的反射,且近红外光的透射变得良好。
需要说明的是,这些设置2个以上的层叠单位可以连续配置,也可以不连续配置。而且,上述的层叠单位无需具有相同的比(H/L),可以具有不同的比(H/L)。此外,上述的层叠单位优选至少1个层叠单位具有5.0以上的比(H/L),更优选具有10.0以上的比(H/L)。
关于其他的部分,即,由比(H/L)小于2.0的层叠单位构成的部分,优选全部的层叠单位具有小于1.0的比(H/L),或者1个层叠单位具有1.0以上且小于2.0的比(H/L)并且剩余的层叠单位具有小于1.0的比(H/L)。
需要说明的是,比(H/L)通常为0.001以上。关于上述部分,即,由比(H/L)小于2.0的层叠单位构成的部分,优选全部的层叠单位具有0.1以上的比(H/L),或者1个层叠单位具有小于0.1的比(H/L)且剩余的层叠单位具有0.1以上的比(H/L)。
高折射率膜13分别由如下材料构成,所述材料包含选自Al、Zr、Ti、Si、Sn、Hf、Ta的氧化物、氮化物及氮氧化物中的至少1种。低折射率膜14分别由如下材料构成,所述材料包含选自Al、Zr、Ti、Si、Sn、Hf、Ta的氧化物、氮化物及氮氧化物中的至少1种。根据上述材料,能够得到规定的折射率。
作为高折射率膜13与低折射率膜14的组合,例如,优选由Si的氮化物构成的高折射率膜13与由Si的氧化物构成的低折射率膜14的组合。根据这样的组合,能抑制可见光的反射,且近红外光的透射变得良好。
接下来,说明罩盖玻璃10的光学特性。
如已经说明那样,罩盖玻璃10具有1.5%以下的可见光反射率,并且具有在800~1200nm的波长范围的至少10nm的连续的波长范围内透射率成为90%以上的区域。作为上述区域,可列举例如包含接近传感器所使用的近红外光的代表性的中心波长,具体而言850nm、950nm等的区域。从向显示装置的使用、接近传感器的并用等观点出发,罩盖玻璃10优选还具有以下的光学特性。
可见光反射率优选为1.3%以下,更优选为1.0%以下,进一步优选为0.9%以下。上述区域,即,800~1200nm的波长范围内的透射率成为90%以上的区域由于在800~1200nm的波长范围内的透射率成为90%以上的波长范围连续地具有10nm以上的宽度,从而接近传感器所使用的近红外光良好地透射。上述区域的透射率优选为91%以上,更优选为92%以上,进一步优选为93%以上,特别优选为94%以上。
关于具有800~1200nm的至少1个波长的光,入射角为30度时的反射率优选为3%以下。作为上述波长,可列举例如接近传感器所使用的近红外光的代表性的中心波长,具体而言850nm、950nm等。在上述入射角为30度时的反射率为3%以下的情况下,近红外光的入射角变化时的反射率的变化,即,近红外光的入射角依赖性下降,因此优选。上述入射角为30度时的反射率更优选为2.5%以下。
关于具有800~1200nm的至少1个波长的光,入射角为60度时的反射率优选为25%以下。作为上述波长,可列举例如接近传感器所使用的近红外光的代表性的中心波长,具体而言850nm、950nm等。在上述入射角为60度时的反射率为25%以下的情况下,近红外光的入射角变化时的反射率的变化,即,近红外光的入射角依赖性下降,因此优选。上述入射角为60度时的反射率更优选为20%以下。
通过CIE1976标准化的L*a*b*表色系的D65光源的反射光的色差ΔE(L*,a*,b*)优选满足以下的式(1)。通过满足以下的式(1),反射光的色调接近于无彩色。由此,配置于显示装置的前表面时,能抑制显示的色调变化。需要说明的是,反射光的色调是对于防反射膜12消除透明基材11侧的反射的影响而测定到的值。
罩盖玻璃10能够在不损害本实用新型的效果的范围内具有防反射膜12以外的膜。作为这样的膜,可列举防污膜、保护膜等。防污膜、保护膜相对于防反射膜12而设置在透明基材11侧的相反侧。
防污膜可以由含氟有机硅化合物构成。作为含氟有机硅化合物,只要是赋予防污性、疏水性、疏油性即可,没有特别限定,可列举例如具有选自由全氟聚醚基、全氟亚烷基及全氟烷基构成的组中的1个以上的基的含氟有机硅化合物。需要说明的是,全氟聚醚基是指具有全氟亚烷基与醚性氧原子交替地耦合的构造的2价的基。
在设置防反射膜12以外的膜的情况下,优选在设有防反射膜12以外的膜的状态下满足规定的光学特性。即,在设有防反射膜12以外的膜的状态下,优选具有1.5%以下的可见光反射率,并且具有在800~1200nm的波长范围的至少10nm的连续的波长范围内透射率成为90%以上的区域。
这样的罩盖玻璃10使用于具有显示装置的各种电子设备。作为这样的电子设备,可列举电视接收机、个人计算机、导航系统、操作面板、便携式信息终端等。作为便携式信息终端,可列举以智能手机为首的便携式电话机、便携式计算机、便携式游戏机、电子书、具有显示装置的钟表等。作为电子设备,特别优选具有使用了近红外光的接近传感器的电子设备。
接下来,说明罩盖玻璃10的制造方法。
罩盖玻璃10可以通过在透明基材11上将构成防反射膜12的高折射率膜13与低折射率膜14交替地成膜来制造。成膜可以通过气相成膜法进行。作为气相成膜法,可列举化学蒸镀法(CVD)、物理蒸镀法(PVD)。作为化学蒸镀法(CVD),可列举热CVD、等离子体CVD、激光CVD等。作为物理蒸镀法(PVD),可列举真空蒸镀、离子辅助蒸镀、离子喷镀、溅射等。
作为成膜装置,例如,优选使用自由基辅助溅射装置。自由基辅助溅射装置在单一的真空容器内将成膜区域与反应区域分离设置,能够独立地进行成膜处理和反应处理。以下,具体地说明自由基辅助溅射装置。
图2是表示自由基辅助溅射装置的一例的图。
自由基辅助溅射装置20具有装置主体21和设置在装置主体21的内部的鼓22。鼓22对透明基材11进行保持,以保持有透明基材11的状态旋转。鼓22的周围的空间由壁部23分割成多个区域。
第一区域(图中的右侧)成为成膜区域,配置有靶24。在靶24上连接电源25。而且,在第一区域连接有供给氩气的氩气供给部26。
第二区域(图中的下侧)成为反应区域,配置有自由基源27。在自由基源27上连接有整合机及RF源28。而且,在第二区域连接有供给氩气的氩气供给部31、供给氮气的氮气供给部32及供给氧气的氧气供给部33。
在这样的自由基辅助溅射装置20中,首先,在鼓22保持透明基材11。然后,通过鼓22旋转而向第一区域(图中的右侧)传送透明基材11。从氩气供给部26向第一区域供给氩气。并且,通过靶24的溅射而在透明基材11的表面成膜出由靶24的构成材料构成的膜。作为这样的膜,可列举例如不进行氧化或氮化的金属膜。通过不进行氧化或氮化而成膜速度提高,并且成膜稳定地进行,因此膜质提高。
然后,通过保持有透明基材11的鼓22旋转而向第二区域(图中的下侧)传送透明基材11。从氩气供给部31、氮气供给部32、氧气供给部33,根据需要而将氮气、氩气、氧气向第二区域供给。并且,通过使等离子体与设于透明基材11的膜接触而进行氧化或氮化。通过使用等离子体,能够均一地进行氧化或氮化,并能够得到致密的膜。
接下来,说明具有罩盖玻璃10的电子设备。
图3是表示作为电子设备的便携式电话机的一实施方式的剖视图。图4是图3所示的便携式电话机的A-A线剖视图。
便携式电话机40例如称为智能手机,具有壳体41、显示装置42及罩盖玻璃43。壳体41具有一端开口的箱形。显示装置42例如是触摸面板式的显示装置,收容在具有箱形的壳体41的内部。设备主体由这样的壳体41及收容于壳体41的显示装置42等构成。罩盖玻璃43具有与壳体41同样的大小,以将壳体41及收容于壳体41的显示装置42覆盖的方式设置。作为这样的罩盖玻璃43,使用上述的罩盖玻璃10。
在壳体41的内部还设有接近传感器45。具体而言,设置在由壳体41、显示装置42及罩盖玻璃43形成的空间部分,即间隙部分。
接近传感器45由例如发光部451、受光部452及搭载它们的基板453构成。接近传感器45以使发光部451及受光部452成为罩盖玻璃43侧的方式配置。
发光部451发出近红外光。具体而言,发出在800~1200nm的波长范围具有中心波长的光。发光部451只要是通过电流的供给而发出近红外光的结构即可,可列举例如近红外LED(Light Emitting Diode)。
受光部452接收由检测对象物反射的近红外光。受光部452只要是接收近红外光而产生电流的结构即可,可列举例如具有PN结的光电二极管。
根据这样的便携式电话机40,通过具有接近传感器45而能够检测是否处于通话状态。即,在处于通话状态的情况下,从发光部451发出的近红外光由作为检测对象物的人类的耳朵等反射。在受光部452接收该反射了的近红外光,由此能够检测是否处于通话状态。
尤其是通过具有上述的罩盖玻璃10作为罩盖玻璃43,能够适当地进行接近传感器45的检测。即,不会妨碍接近传感器45所使用的近红外光的透射而能够适当地进行检测。而且,通过具有罩盖玻璃10,能抑制可见光的反射而显示的视觉辨认性优异。
【实施例】
以下,参照实施例,更具体地说明本实用新型。
<实施例1~5>
在作为透明基材的化学强化玻璃上,通过以成为表1所示的膜厚及比(H/L)的方式将作为高折射率膜的氮化硅膜(SiNx膜)与作为低折射率膜的氧化硅膜(SiO2膜)交替地成膜而形成防反射膜,制造出实施例1~5的罩盖玻璃。以下,具体地说明透明基材、防反射膜。
(透明基材)
将硝酸钾9700g、碳酸钾890g、硝酸钠400g放入到不锈钢(SUS)制的杯中,利用罩式加热器加热至450℃,调制了碳酸钾浓度为6mol%,钠浓度为10000重量ppm的熔融盐。
将100mm×100mm×0.56mm的铝硅酸盐玻璃(比重2.48)预热成200~400℃之后,在上述熔融盐中浸渍2小时而进行了离子交换处理。然后,冷却至室温附近,进行了水洗。
需要说明的是,上述铝硅酸盐玻璃具有64.4mol%的SiO2、8.0mol%的Al2O3、12.5mol%的Na2O、4.0mol%的K2O、10.5mol%的MgO、0.1mol%的CaO、0.1mol%的SrO、0.1mol%的BaO、0.5mol%的ZrO2的组成。
接下来,将6.0重量%的硝酸溶液放入烧杯,通过水浴调整为40℃的温度。将上述玻璃在该硝酸溶液中浸渍120秒钟而进行了酸处理。然后,对该玻璃进行了水洗。
接下来,将4.0重量%的氢氧化钠水溶液放入烧杯,通过水浴而调整为40℃的温度。然后,将上述玻璃在氢氧化钠水溶液中浸渍120秒钟而进行了碱处理。然后,对该玻璃进行了水洗。然后,通过吹风使其干燥,得到了成为透明基材的化学强化玻璃。
(防反射膜)
在上述的作为透明基材的化学强化玻璃的表面,交替地成膜氮化硅膜及氧化硅膜而形成了防反射膜。氮化硅膜的波长600nm的折射率为1.95。氧化硅膜的波长600nm的折射率为1.47。
在此,氮化硅膜、氧化硅膜都是通过后续反应溅射而成膜。即,使用硅靶而成膜出硅膜之后,与通过等离子体源而活性化的氮、氧、或氮和氧的混合气体进行了反应。
氮化硅膜的成膜在后续反应溅射装置:日本真空技术株式会社(ULVAC公司)制,商品名ULDis,靶:p-Si靶,成膜气体:氩气(流量100sccm),溅射电力:6kW,氮化源气体:氮气(流量100sccm),氮化源电力:1.5kW、基板温度:常温,成膜速率:0.2nm/min的条件下进行。需要说明的是,在设为这样的成膜条件时,成膜后的膜具有压缩应力。
氧化硅膜的成膜在后续反应溅射装置:日本真空技术株式会社(ULVAC公司)制,商品名ULDis,靶:p-Si靶,成膜气体:氩气(流量100sccm),溅射电力:6kW,氧化源气体:氧气(流量100sccm),氧化源电力:1.5kW,基板温度:常温,成膜速率:0.3nm/min的条件下进行。
<实施例6>
如表1所示,除了将高折射率膜变更为氧化锆膜(ZrO2膜)并变更了膜厚、比(H/L)、层叠数之外,与实施例1同样地制造了实施例6的罩盖玻璃。
需要说明的是,氧化锆膜的成膜在后续反应溅射装置:日本真空技术株式会社(ULVAC公司)制,商品名ULDis,靶:Zr靶,成膜气体:氩气(流量100sccm),溅射电力:6kW,氧化源气体:氧气(流量100sccm),氧化源电力:1.5kW,基板温度:常温,成膜速率:0.2nm/min的条件下进行。
<比较例1~3>
如表2所示,除了变更了膜厚、比(H/L)、层叠数之外,与实施例1同样地制造了比较例1~3的罩盖玻璃。
接下来,关于实施例1~6及比较例1~3的罩盖玻璃进行了以下的测定或评价。结果如表1、表2所示。
(可见光反射率)
关于罩盖玻璃的形成有防反射膜的一侧,测定了遵照JIS R 3106(1998年)定义的可见光反射率。测定使用紫外可视分光光度计(株式会社日立高新技术公司制紫外可视分光光度计U4100),以入射角5度、P·S波混合光、扫描速度600nm/分钟、采样间隔1nm、狭缝8nm进行了测定。以罩盖玻璃的反射光消除未形成防反射膜的一侧的反射光的影响为目的,对未形成防反射膜的面进行基于喷砂的处理并利用油性马克笔进行了涂黑。
(近红外光的透射率)
作为近红外光的透射率,测定了近红外传感器所使用的代表性的近红外光的中心波长即850nm或950nm下的透射率。测定使用紫外可视分光光度计(株式会社日立高新技术公司制紫外可视分光光度计U4100),以入射角5度、P·S波混合光、扫描速度750nm/分钟、采样间隔1nm、狭缝自动控制进行了测定。需要说明的是,表中,将中心波长记为IR传感器中心波长,将该中心波长的近红外光的透射率记为IR透射率。
需要说明的是,800~1200nm的波长范围的至少10nm的连续的波长范围表示包含中心波长的10nm以上的范围。在本实施例中,以采样间隔1nm进行测定,评价了包含中心波长的10nm以上的波长范围的近红外光的透射率的各测定值。
【表1】
【表2】
从表1可知,实施例1~6的罩盖玻璃具有1.5%以下的可见光反射率,并且在包含850nm或950nm的波长的至少10nm的连续的波长范围内具有90%以上的IR透射率。
另一方面,从表2可知,比较例1~3的罩盖玻璃在包含850nm及950nm的波长的至少10nm的连续的波长范围内无法得到90%以上的IR透射率。需要说明的是,比较例1~3的罩盖玻璃不具有在800~1200nm的波长范围的至少10nm的连续的波长范围内透射率为90%以上的区域。
需要说明的是,虽然表1未记载,但是实施例1~6的罩盖玻璃在包含850nm或950nm的波长的至少10nm的连续的波长范围内,采样间隔1nm的透射率的各测定值成为90%以上。
另外,实施例1~6的罩盖玻璃通过CIE1976标准化的L*a*b*表色系的D65光源的反射光的色差ΔE(L*,a*,b*)满足((L*)2+(a*)2+(b*)2)≤5。需要说明的是,反射光的色差ΔE(L*,a*,b*)对于罩盖玻璃的形成有防反射膜的一侧,测定了遵照JIS R 3106(1998年)定义的可见光反射率。测定使用紫外可视分光光度计(株式会社日立高新技术公司制紫外可视分光光度计U4100),以入射角5度、P·S波混合光、扫描速度600nm/分钟、采样间隔1nm、狭缝8nm进行了测定。反射光的色差是对于防反射膜12消除透明基材11侧的反射的影响而测定到的值。
此外,实施例1~6的罩盖玻璃关于850nm或950nm的波长,入射角为30度时的可见光反射率成为3%以下,并且入射角为60度时的可见光反射率成为25%以下。
实施例1~6的罩盖玻璃的可见光反射率为1.5%以下,800~1200nm的波长范围的至少10nm的连续的波长范围内的透射率为90%以上,因此近红外光的透射良好。因此,在显示装置的周围能够设置接近传感器,适合于具有显示装置的便携式电话机等各种电子设备。
以上,使用实施例而详细叙述了本实用新型的实施方式,但是本实用新型没有限定为所述实施方式,在不脱离本实用新型的主旨的范围内能够进行各种设计变更。
Claims (22)
1.一种显示装置用罩盖玻璃,具有透明基材和设置在所述透明基材上的防反射膜,所述显示装置用罩盖玻璃的特征在于,
所述防反射膜具有将折射率为1.9以上的高折射率膜和折射率为1.6以下的低折射率膜交替地层叠而形成的构造,
所述高折射率膜、所述低折射率膜分别由如下材料构成,所述材料包含选自Al、Zr、Ti、Si、Sn、Hf、Ta的氧化物、氮化物及氮氧化物中的至少一种,
可见光反射率为1.5%以下,具有在800~1200nm的波长范围的至少10nm的连续的波长范围内透射率成为90%以上的区域。
2.根据权利要求1所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
所述防反射膜具有至少一个所述高折射率膜的厚度H与所述低折射率膜的厚度L之比H/L成为2.0以上的层叠单位,所述H和所述L的单位为nm。
3.根据权利要求2所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
所述防反射膜具有两个以上的所述比H/L成为2.0以上的层叠单位。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
将所述高折射率膜的各层全部及所述低折射率膜的各层全部进行了总计而得到的厚度为300nm以上。
5.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
所述高折射率膜的各层的厚度为1nm以上。
6.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
所述低折射率膜的各层的厚度为1nm以上。
7.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
将所述高折射率膜的各层全部进行了总计而得到的厚度为100nm以上。
8.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
将所述低折射率膜的各层全部进行了总计而得到的厚度为100nm以上。
9.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
将所述高折射率膜的各层全部进行了平均而得到的厚度为30nm以上。
10.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
将所述低折射率膜的各层全部进行了平均而得到的厚度为25nm以上。
11.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
具有所述透射率成为91%以上的区域。
12.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
具有所述透射率成为92%以上的区域。
13.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
具有所述透射率成为93%以上的区域。
14.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
具有所述透射率成为94%以上的区域。
15.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
所述透明基材由无机玻璃构成。
16.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
所述透明基材由强化玻璃构成。
17.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
所述透明基材由蓝宝石玻璃构成。
18.根据权利要求1~3中任一项所述的显示装置用罩盖玻璃,其特征在于,
反射光的L*a*b*色空间的L*值、a*值及b*值满足
19.一种电子设备,其特征在于,具有:
具有显示装置的设备主体;及
以覆盖所述显示装置的方式设置的权利要求1所述的显示装置用罩盖玻璃。
20.根据权利要求19所述的电子设备,其特征在于,
具有使用近红外光的接近传感器。
21.根据权利要求19或20所述的电子设备,其特征在于,
所述电子设备是便携式信息终端。
22.根据权利要求21所述的电子设备,其特征在于,
所述便携式信息终端是便携式电话机。
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