CN207330821U

CN207330821U - 一种透明正投影显示膜

Info

Publication number: CN207330821U
Application number: CN201721007601.0U
Authority: CN
Inventors: 陈佳; 刘庆雷; 张景龙
Original assignee: Shanghai All Eagle Intelligent Technology Co Ltd
Current assignee: Shanghai All Eagle Intelligent Technology Co Ltd
Priority date: 2017-08-11
Filing date: 2017-08-11
Publication date: 2018-05-08
Anticipated expiration: 2027-08-11

Abstract

一种透明正投影显示膜，包括依次层叠的背胶层、第一基材层、第一磁控溅射镀层、第二磁控溅射镀层、第三磁控溅射镀层、复合胶层、第二基材层；所述第二磁控溅射镀层的折射率低于第一磁控溅射镀层和第三磁控溅射镀层。本实用新型具有投影显示效果好的优点。

Description

一种透明正投影显示膜

技术领域

本实用新型属于显示技术领域，特别涉及一种透明正投影显示膜。

背景技术

投影在会议室、培训室、控制室、广告投放等场合得到广泛的应用，尤其在实现大尺寸或超大尺寸显示应用方面具有优势。随着融合、变形、播放等图像处理技术的发展，投影可以在任何介质上实现成像显示。

按照观众与屏幕之间的相对关系，适于投影的屏幕可以分为背投屏幕（透射式）和正投屏幕（反射式）。如附图1所示，背投屏幕是投影机的安装位置与观众分别位于屏幕的两侧，投影机发出的光线从屏幕的一侧直射到屏幕，光线透过屏幕进入观众眼睛。如附图2所示，正投屏幕是将投影机的安装位置与观众在屏幕的同侧，投影机发出的光线投射到屏幕，在屏幕上形成图像，然后光线再反射到人眼。正投屏幕不受屏幕大小的限制，而背投屏幕最大程度地减少了环境的干扰，两种方式都有不同的应用场合。

现有技术还没有提及适于正投屏幕的透明正投影显示膜的结构。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种透明正投影显示膜。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供的技术方案是：一种透明正投影显示膜，包括依次层叠的背胶层、第一基材层、第一磁控溅射镀层、第二磁控溅射镀层、第三磁控溅射镀层、复合胶层、第二基材层；所述第二磁控溅射镀层的折射率低于第一磁控溅射镀层和第三磁控溅射镀层。

优选的技术方案为：所述第二基材层的表面设有硬度大于或等于2H的硬化涂层。

优选的技术方案为：所述第一磁控溅射镀层的材质为TiO_X、NbO_X，ZnO_X，ZnSnO_X，AlN_X、SiN_X或NiSiO_X；所述第二磁控溅射镀层的材质为SiO_X、AlO_X或MgF_X；所述第三磁控溅射镀层的材质为TiO_X、NbO_X，ZnO_X，ZnSnO_X，AlN_X、SiN_X或NiSiO_X。

优选的技术方案为：所述第一基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚乙烯薄膜或聚氯乙烯薄膜；所述第二基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚乙烯薄膜或聚氯乙烯薄膜；所述第一基材层的厚度为5μm -175μm；所述第二基材层的厚度为5μm -175μm。

优选的技术方案为：所述第一磁控溅射镀层的物理厚度为5nm-50nm，所述第二磁控溅射镀层的物理厚度为10nm-60nm，所述第三磁控溅射镀层的物理厚度为20nm-100nm。

优选的技术方案为：所述背胶层的表面贴合有离型材料层，该离型材料层的厚度范围为0.1μm ~175μm。

优选的技术方案为：所述的复合胶层的厚度为1μm -20μm；所述的背胶层的厚度为1μm -50μm；所述硬化涂层的厚度为1μm -10μm。

由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有的优点是：

本实用新型包括依次层叠的背胶层、第一基材层、第一磁控溅射镀层、第二磁控溅射镀层、第三磁控溅射镀层、复合胶层和第二基材层，具有投影成像效果好的优点。

附图说明

附图1为背投关系示意图。

附图2为正投关系示意图。

附图3为本实用新型的结构的剖视示意图。

附图4为本实用新型的结构的制备方法的工艺流程图。

以上附图中，1、背胶层；2、第一基材层；3、第一磁控溅射镀层；4、第二磁控溅射镀层；5、第三磁控溅射镀层；6、复合胶层；7、第二基材层；8、硬化涂层；9、离型材料层。

具体实施方式

以下配合附图及元件符号对本发明之实施方式做更详细的说明，俾使熟习该项技艺者在阅读本说明书后能据以实施。

本文中使用的术语的目的仅在于说明特别实施例，并不意图对本发明做限制。除非上下文明确显示，否则本文中使用的单数形式“一”、“一个”、“该”亦旨在包括复数形式。

在说明显示于附图中的较佳实施例时，可能基于清楚的目的而使用特别的术语；然而，本说明书所揭露者并不意图被限制在所选择的该特别术语；并且应当理解，每一个特定元件包括具有相同功能、以相似方式操作并达成相似效果的所有等效技术。

实施例1：一种透明正投影显示膜

参见附图3所示，一种透明正投影显示膜，包括依次层叠的背胶层1、第一基材层2、第一磁控溅射镀层3、第二磁控溅射镀层4、第三磁控溅射镀层5、复合胶层6、第二基材层7和硬化涂层8；所述第二磁控溅射镀层的折射率低于第一磁控溅射镀层和第三磁控溅射镀层，所述复合胶层的原料配方包含下列质量百分含量的组分：

胶水 82.8%；

高折射率无机纳米材料 5.2%；

无机纳米黑色颜料 0.1%；

分散剂 5.3%；

固化剂 6.6%；

所述高折射率无机纳米材料为氧化硅和氧化钛按照1：2的质量比例构成的混合物。

所述背胶层的材料采用复合胶层的原料配方中的胶水，即背胶层的材料仅为丙烯酸酯胶粘剂。

所述硬化涂层8的制备方法：将牌号为UM-9818的丙烯酸树脂用微型凹版涂布法涂布在第二基材层7的另一侧，80℃热固2min后成型，形成厚度为2um的硬化涂层8，采用Yasuda硬度仪器测试，其硬度为4H。

优选的实施方式为：所述第一磁控溅射镀层为TiO_X；所述第二磁控溅射镀层为SiO_X；第三磁控溅射镀层为TiO_X。

所述第一磁控溅射镀层的物理厚度为30nm，所述第二磁控溅射镀层的物理厚度为40nm，所述第三磁控溅射镀层的物理厚度为60nm。

所述固化剂为紫外线固化剂，具体为美国汽巴公司生产的商品名称为 IRGACURE127，在其它具体实施方式中可以选用商品名称为：美国汽巴公司生产的 IRGACURE 127、IRGACURE184、IRGACURE2959、IRGACURE651、IRGACURE369、IRGACURE907、IRGACURE1300、IRGACURE819、IRGACURE784、DarocurITX、Darocur4265、Lucerin TPO 等。

所述无机纳米黑色颜料为骨黑，粒径为50nm。

所述高折射率无机纳米材料的粒径为200nm。

所述第一基材层为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜；所述第二基材层为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜；所述第一基材层的厚度为10μm；所述第二基材层的厚度为10μm。

所述胶水为丙烯酸酯胶粘剂。

所述背胶层1的表面贴合有离型材料层9，该离型材料层的厚度为100μm。

所述复合胶层的厚度为12μm；所述背胶层的厚度为50μm；所述硬化涂层的厚度为5μm。

本实施方式中的分散剂的商品名称为：毕克化学的 Disperbyk-111，在其它实施方式中可以为：毕克化学的 Disperbyk-162、-163、168 ；路博润的 Solsperse5000、12000、22000、24000、32000、32500、36000、39000 ；德固萨的Dispers710、685、652、655；埃夫卡的EFKA Additives4030、4330。

制备方法参见附图4所示，首先，用磁控溅射的方法在第一基材层的一侧依次溅射上第一磁控溅射镀层，第二磁控溅射镀层和第三磁控溅射镀层，收卷。将复合胶层的各个组分按照比例均匀混合制成涂布液，将此涂布液静置1-2h后，经过滤用微型凹版法、狭缝模具法或斜板式法等涂布方式涂布在第三磁控溅射镀层上，并用第二基材层的一侧进行复合。将背胶层即丙烯酸酯胶粘剂静置1-2h后，经过滤用微型凹版法、狭缝模具法或斜板式法等涂布方式涂布在第一基材层的另一侧，并用离型材料层进行复合。配置硬化涂布液，并将硬化涂布液涂布在第二基材层的另一侧，收卷后即可得到本专利所述产品。

使用时，需要先将离型材料层剥离开来，利用背胶层即粘贴胶层将薄膜安装在透明的介质上。在实际应用时，将与一智能投射设备配合使用。一般地，该智能投影设备包括有，一个光机投射器件和一个安卓控制器件；其中安卓控制器件一般含有 DMD控制器和LED控制器，还可选配有有线通讯模块如（HDMI、USB、VGA等接口），无线通讯模块（WIFI、蓝牙、4G通讯），GPS模块或OBD模块。服务器可以通过有线或无线数据传输方式向该智能投射设备传输图片、文字或者视屏，智能投射设备接收到这些数据后，通过内部运行的应用程序，将此图片、文字或者视屏投射到透明显示膜上。

实施例2：一种透明正投影显示膜

参见附图3所示，一种透明正投影显示膜，包括依次层叠的背胶层1、第一基材层2、第一磁控溅射镀层3、第二磁控溅射镀层4、第三磁控溅射镀层5、复合胶层6、第二基材层7和硬化涂层8；所述第二磁控溅射镀层的折射率低于第一磁控溅射镀层和第三磁控溅射镀层。

所述复合胶层和背胶层的原料配方不同，比例存在差异，复合胶层的原料配方包含下列质量百分含量的组分：

胶水 87.3%；

高折射率无机纳米材料 4.5%；

无机纳米黑色颜料 0.4%；

分散剂 5.8%；

固化剂 2%；

所述背胶层的原料配方包含下列质量百分含量的组分：

胶水 86.2%；

高折射率无机纳米材料 5.5%；

无机纳米黑色颜料 0.5%；

分散剂 5.8%；

固化剂 2%；

所述高折射率无机纳米材料为氧化硅包覆氧化钛所构成的高折射率纳米粒子。

优选的技术方案为：所述第一磁控溅射镀层为NiSiO_X；所述第二磁控溅射镀层为AlO_X；第三磁控溅射镀层为NiSiO_X。

所述硬化涂层8的制备方法：将上海今盟贸易有限公司牌号为AD-520的丙烯酸树脂用狭缝涂布法涂布在第二基材层7的另一侧，80℃热固2min后成型，形成厚度为1.5um的硬化涂层8，采用Yasuda硬度仪器测试，其硬度为3H

所述原料配方中还含有1.5倍胶水重量的有机溶剂。

上述有机溶剂为甲苯和环己烷按照1：5的体积比构成的混合物。

所述第一磁控溅射镀层的厚度为25nm，所述第二磁控溅射镀层的厚度为57nm，所述第三磁控溅射镀层的厚度为50nm。

所述固化剂为热固化剂。

所述无机纳米黑色颜料为骨黑和炭黑按照1：1.05的质量比例构成的混合物，骨黑的粒径为50nm，炭黑的粒径为80nm。

所述高折射率无机纳米材料的粒径为680nm。

所述第一基材为聚乙烯薄膜；所述第二基材为聚乙烯薄膜；所述第一基材层的厚度为75μm；所述第二基材层的厚度为120μm。

所述胶水为丙烯酸酯胶粘剂和聚氨酯胶粘剂按照1：1的质量比例构成的混合物。

所述背胶层的表面贴合有离型材料层，该离型材料层的厚度范围为170μm。

所述的复合胶层的厚度为18μm；所述的背胶层的厚度为45μm；所述硬化涂层的厚度为9μm。

本实施方式中的分散剂的商品名称为：路博润的 Solsperse5000。

制备方法同实施例1。

投射系统同实施例1。

实施例3-5：一种透明正投影显示膜

参见附图3所示，一种透明正投影显示膜，包括依次层叠的背胶层1、第一基材层2、第一磁控溅射镀层3、第二磁控溅射镀层4、第三磁控溅射镀层5、复合胶层6、第二基材层7和硬化涂层8。所述第二磁控溅射镀层的折射率低于第一磁控溅射镀层和第三磁控溅射镀层。

所述硬化涂层、复合胶层和背胶层的原料配方相同，均包含下列质量百分含量的组分：

	实施例3	实施例4	实施例5
				胶水或树脂	89.2%	91.5%	78.8%
高折射率无机纳米材料	3.6%	5.2%	5.5%
				无机纳米黑色颜料	0.5%	0.3%	0.2%
分散剂	1.7%	2%	6.5%
				固化剂	5%	1%；	9%

1、高折射率无机纳米材料：实施例3：氧化锆。实施例4：氧化钛、氧化硅和氧化硅包覆氧化钛所构成的高折射率纳米粒子三者按照1：1：1的质量比例构成的混合物。实施例5：氧化铝。

2、实施例3：所述第一磁控溅射镀层为AlN_X；所述第二磁控溅射镀层为AlO_X；第三磁控溅射镀层为ZnSnO_X。实施例4：所述第一磁控溅射镀层为NiSiO_X；所述第二磁控溅射镀层为SiO_X；第三磁控溅射镀层为AlN_X。实施例5：所述第一磁控溅射镀层为SiN_X；所述第二磁控溅射镀层为MgF_X；第三磁控溅射镀层为SiN_X。

3、胶水或树脂：实施例3：丙烯酸树脂。实施例4：丙烯酸酯胶粘剂和丙烯酸树脂按照1：10的质量比例构成混合物。实施例5：丙烯酸酯胶粘剂和有机硅树脂按照1：1的质量比例构成的混合物。

4、有机溶剂：实施例3：乙二醇乙醚。实施例4：丁酮和甲基异丁基酮按照1：2的体积比构成的混合物。实施例5：100#溶剂油。

5、有机溶剂：实施例3：胶水质量的94倍。实施例4：胶水和树脂总质量的15倍。实施例4：胶水和树脂总质量的50倍。

6：实施例3：所述第一磁控溅射镀层的物理厚度为25nm，所述第二磁控溅射镀层的物理厚度为25nm，所述第三磁控溅射镀层的物理厚度为25nm。实施例4：所述第一磁控溅射镀层的物理厚度为5nm，所述第二磁控溅射镀层的物理厚度为60nm，所述第三磁控溅射镀层的物理厚度为70nm。实施例5：所述第一磁控溅射镀层的物理厚度为50nm，所述第二磁控溅射镀层的物理厚度为30nm，所述第三磁控溅射镀层的物理厚度为20nm。

7、无机纳米黑色颜料：实施例3：铁黑，粒径200nm。实施例4：炭黑、骨黑和铁黑按照1：3：1的质量比例构成的混合物，炭黑的粒径为700nm、骨黑的粒径为450nm、铁黑的粒径为80nm。实施例5：炭黑、骨黑和铁黑按照1：1：1的质量比例构成的混合物，炭黑的粒径为80nm、骨黑的粒径为80nm、铁黑的粒径为80nm。

8、基材层：实施例3：聚氯乙烯薄膜。实施例4：聚氯乙烯薄膜。实施例5：聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。

9、分散剂：实施例3：德固萨的Dispers710。实施例4：毕克化学的 Disperbyk-168和路博润的 Solsperse5000按照1：1的体积比构成的混合物。实施例5：路博润的Solsperse36000。

10、固化剂（又称为紫外光引发剂）：实施例3：汽巴公司生产的IRGACURE2959和Darocur4265按照3：1的质量比例构成的混合物。实施例4：汽巴公司生产的IRGACURE2959。实施例5：汽巴公司生产的Lucerin TPO。

11、实施例3：所述高折射率无机纳米材料的粒径为200nm。实施例4：所述高折射率无机纳米材料的粒径为300nm。实施例5：所述高折射率无机纳米材料的粒径为450nm。

12、实施例3：所述背胶层的表面贴合有离型材料层，该离型材料层的厚度范围为10μm。实施例4：所述背胶层的表面贴合有离型材料层，该离型材料层的厚度范围为100μm。实施例5：所述背胶层的表面贴合有离型材料层，该离型材料层的厚度范围为175μm。

13、实施例3：所述的复合胶层的厚度为10μm；所述的背胶层的厚度为50μm；所述硬化涂层的厚度为1μm。实施例4：所述的复合胶层的厚度为20μm；所述的背胶层的厚度为30μm；所述硬化涂层的厚度为1μm。实施例5：所述的复合胶层的厚度为10μm；所述的背胶层的厚度为25μm；所述硬化涂层的厚度为6μm。

14、硬化涂层：实施例3：硬度为2H；实施例4：硬度为3H；实施例5：硬度为4H。

制备方法同实施例1。

投射系统同实施例1。

实施例6：一种透明正投影显示膜

所述背胶层的原料配方包含下列质量百分含量的组分：

树脂 93.4%；

高折射率无机纳米材料 2.2%；

无机纳米黑色颜料 0.3%；

分散剂 2%；

固化剂 2.1%；

所述高折射率无机纳米材料为金刚石。

所述复合胶层的材质为聚氨酯胶粘剂。

优选的实施方式为：所述第一磁控溅射镀层为ZnSnO_X；所述第二磁控溅射镀层为SiO_X；第三磁控溅射镀层为ZnSnO_X。

优选的实施方式为：所述原料配方中还含有60倍树脂重量的有机溶剂。

优选的实施方式为：所述有机溶剂为100#溶剂油。

优选的实施方式为：所述第一磁控溅射镀层的厚度为50nm，所述第二磁控溅射镀层的厚度为50nm，所述第三磁控溅射镀层的厚度为80nm。

优选的实施方式为：所述固化剂为紫外线固化剂。

优选的实施方式为：所述无机纳米黑色颜料为炭黑，所述无机纳米黑色颜料的粒径为200nm。

优选的实施方式为：所述高折射率无机纳米材料的粒径为100nm。

优选的实施方式为：所述第一基材为聚乙烯薄膜；所述第二基材为聚乙烯薄膜；所述第一基材层的厚度为100μm；所述第二基材层的厚度为100μm。

优选的实施方式为：所述树脂选用丙烯酸树脂。

优选的实施方式为：所述背胶层的表面贴合有离型材料层9，该离型材料层的厚度范围为150μm。

优选的实施方式为：所述的复合胶层的厚度为30μm；所述的背胶层的厚度为50μm；所述硬化涂层的厚度为8μm。

优选的实施方式为：分散剂为德固萨的Dispers710。

实施例7：一种透明正投影显示膜

一种透明正投影显示膜，其特征在于：包括依次层叠的背胶层1、第一基材层2、第一磁控溅射镀层3、第二磁控溅射镀层4、第三磁控溅射镀层5、复合胶层6、第二基材层7；所述第二磁控溅射镀层的折射率低于第一磁控溅射镀层和第三磁控溅射镀层。

优选的实施方式为：所述第一基材为聚乙烯薄膜；所述第二基材为聚氯乙烯薄膜；所述第一基材层的厚度为105μm；所述第二基材层的厚度为175μm。

优选的实施方式为：所述第一磁控溅射镀层的厚度为50nm，所述第二磁控溅射镀层的厚度为18nm，所述第三磁控溅射镀层的厚度为45nm。

优选的实施方式为：所述背胶层的表面贴合有离型材料层，该离型材料层的厚度范围为175μm。

优选的实施方式为：所述的复合胶层的厚度为17μm；所述的背胶层的厚度为35μm；所述硬化涂层的厚度为5μm。

实施例8：一种透明正投影显示膜

优选的实施方式为：所述第二基材层的表面设有硬度为3H的硬化涂层。

优选的实施方式为：所述硬化涂层的原料配方包含下列质量百分含量的组分：

树脂 80.6%；

高折射率无机纳米材料 3%；

无机纳米黑色颜料 0.1%；

分散剂 6.3%；

固化剂 10%；

所述复合胶层和背胶层均由丙烯酸树脂用微型凹版涂布法涂布形成

所述高折射率无机纳米材料为氧化锆。

优选的实施方式为：所述第一磁控溅射镀层为SiN_X；所述第二磁控溅射镀层为MgF_X；第三磁控溅射镀层为NbO_X。

优选的实施方式为：所述原料配方中还含有10倍树脂型原胶重量的有机溶剂。

优选的实施方式为：所述有机溶剂甲基异丁基酮。

优选的实施方式为：所述固化剂为美国汽巴公司生产的 IRGACURE369。

优选的实施方式为：所述无机纳米黑色颜料为炭黑，所述无机纳米黑色颜料的粒径为250nm。

优选的实施方式为：所述高折射率无机纳米材料的粒径为180nm。

优选的实施方式为：所述树脂选用丙烯酸树脂。

优选的实施方式为：所述第一基材为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜；所述第二基材为聚氯乙烯薄膜；所述第一基材层的厚度为175μm；所述第二基材层的厚度为75μm。

优选的实施方式为：所述第一磁控溅射镀层的厚度为30nm，所述第二磁控溅射镀层的厚度为30nm，所述第三磁控溅射镀层的厚度为100nm。

优选的实施方式为：所述背胶层的表面贴合有离型材料层，该离型材料层的厚度范围为75μm。

优选的实施方式为：所述的复合胶层的厚度为5μm；所述的背胶层的厚度为10μm；所述硬化涂层的厚度为8μm。

实施例9：一种透明正投影显示膜

优选的实施方式为：所述第二基材层的表面设有硬度为4H的硬化涂层。

优选的实施方式为：所述复合胶层和背胶层的原料配方相同，均包含下列质量百分含量的组分：

胶水 91.2%；

高折射率无机纳米材料 0.9%；

无机纳米黑色颜料 0.3%；

分散剂 3.2%；

固化剂 4.4%；

所述高折射率无机纳米材料为氧化硅、氧化钛和氧化硅包覆氧化钛所构成的高折射率纳米粒子按照2：2：1的质量比例构成的混合物。

树脂 91.2%；

高折射率无机纳米材料 0.9%；

无机纳米黑色颜料 0.3%；

分散剂 3.2%；

固化剂 4.4%；

优选的实施方式为：所述第一磁控溅射镀层为NbO_X；所述第二磁控溅射镀层为SiO_X；第三磁控溅射镀层为SiN_X。

优选的实施方式为：所述复合胶层和背胶层的原料配方中不再添加有机溶剂，硬化涂层的原料配方中还含有8倍树脂型原胶重量的有机溶剂。

优选的实施方式为：所述有机溶剂为环己烷。

优选的实施方式为：所述固化剂为热固化剂。

优选的实施方式为：所述无机纳米黑色颜料为骨黑，所述无机纳米黑色颜料的粒径为600nm。

优选的实施方式为：所述高折射率无机纳米材料的粒径为85nm。

优选的实施方式为：所述胶水选自丙烯酸酯胶粘剂；所述树脂选用丙烯酸树脂。

优选的实施方式为：所述第一基材为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜；所述第二基材为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜；所述第一基材层的厚度为50μm；所述第二基材层的厚度为40μm。

优选的实施方式为：所述第一磁控溅射镀层的厚度为48nm，所述第二磁控溅射镀层的厚度为50nm，所述第三磁控溅射镀层的厚度为90nm。

优选的实施方式为：所述背胶层的表面贴合有离型材料层，该离型材料层的厚度范围为97μm。

优选的实施方式为：所述的复合胶层的厚度为17μm；所述的背胶层的厚度为23μm；所述硬化涂层的厚度为6μm。

以上所述者仅为用以解释本发明之较佳实施例，并非企图具以对本发明做任何形式上之限制，是以，凡有在相同之发明精神下所作有关本发明之任何修饰或变更，皆仍应包括在本发明意图保护之范畴。

Claims

1.一种透明正投影显示膜，其特征在于：包括依次层叠的背胶层、第一基材层、第一磁控溅射镀层、第二磁控溅射镀层、第三磁控溅射镀层、复合胶层、第二基材层；所述第二磁控溅射镀层的折射率低于第一磁控溅射镀层和第三磁控溅射镀层。

2.根据权利要求1所述的透明正投影显示膜，其特征在于：所述第二基材层的表面设有硬度大于或等于2H的硬化涂层。

3.根据权利要求1所述的透明正投影显示膜，其特征在于：所述第一磁控溅射镀层的材质为TiO_X、NbO_X，ZnO_X，ZnSnO_X，AlN_X、SiN_X或NiSiO_X；所述第二磁控溅射镀层的材质为SiO_X、AlO_X或MgF_X；所述第三磁控溅射镀层的材质为TiO_X、NbO_X，ZnO_X，ZnSnO_X，AlN_X、SiN_X或NiSiO_X。

4.根据权利要求1所述的透明正投影显示膜，其特征在于：所述第一基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚乙烯薄膜或聚氯乙烯薄膜；所述第二基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚乙烯薄膜或聚氯乙烯薄膜；所述第一基材层的厚度为5μm -175μm；所述第二基材层的厚度为5μm -175μm。

5.根据权利要求1所述的透明正投影显示膜，其特征在于：所述第一磁控溅射镀层的物理厚度为5nm-50nm，所述第二磁控溅射镀层的物理厚度为10nm-60nm，所述第三磁控溅射镀层的物理厚度为20nm-100nm。

6.根据权利要求1所述的透明正投影显示膜，其特征在于：所述背胶层的表面贴合有离型材料层，该离型材料层的厚度范围为0.1μm ~175μm。

7.根据权利要求2所述的透明正投影显示膜，其特征在于：所述的复合胶层的厚度为1μm -20μm；所述的背胶层的厚度为1μm -50μm；所述硬化涂层的厚度为1μm -10μm。