CN207201088U - 挠性基材水平连续式双面制程处理机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种挠性基材水平连续式双面制程处理机构，包含：送料装置，包括第一导轮组；双面处理装置；以及收料装置，包括第二导轮组；其中双面处理装置包括：至少两个浮力管组；以及至少一个化学药液供液管组，且至少一个化学药液供液管组具有上供液管及下供液管。藉此，由于本实用新型的双面处理装置包括至少两个浮力管组，可通过浮力管组使水平通过双面处理装置的挠性基材在传输过程中能平稳地位于上浮力管与下浮力管之间，并同时对挠性基材的两个表面进行处理，能有效解决现有技术中欲对挠性基材的双面进行表面处理导致制程耗时的缺点，亦能避免挠性基材的表面被破坏，使产品的良率提高，并降低生产成本。

Description

挠性基材水平连续式双面制程处理机构

技术领域

本实用新型是关于一种挠性基材制程处理机构，更特别的是关于一种挠性基材水平连续式双面制程处理机构。

背景技术

一般挠性基材的表面处理，采用一种卷对卷(Roll-to-Roll)生产技术进行。挠性基材具有上下两个表面，且表面皆须进行表面处理，然而，由于现有技术的制程机构在一次处理流程中仅能针对挠性基材的单一表面(例如上表面)进行处理，亦即，须待表面(上表面)进行处理完毕后，才能将挠性基材翻至另一面(例如下表面)进行处理，不仅使得制程相当耗时，持续运作的制程机构亦会增加生产成本。

此外，若待表面(上表面)处理完毕后再针对挠性基材的另一表面(下表面)进行处理，可能造成挠性基材已处理的表面(上表面)被破坏，导致产品的良率下降，同样也会增加生产成本。

有鉴于此，如何创作出一种挠性基材水平连续式双面制程处理机构，藉以有效解决前述问题，将是本实用新型所欲积极公开之处。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种挠性基材水平连续式双面制程处理机构，能有效解决现有技术中，无法同时对挠性基材的两个表面进行处理，导致制程耗时、产品良率下降、生产成本增加等问题。

为达上述目的及其他目的，本实用新型提出一种挠性基材水平连续式双面制程处理机构，包含：送料装置，包括第一导轮组，用以输入挠性基材；双面处理装置，用以同时对所述挠性基材的两个表面进行表面处理；以及收料装置，包括第二导轮组，用以接收所述挠性基材；其中所述双面处理装置包括：至少两个浮力管组，分别邻接于所述送料装置与所述收料装置，且各所述浮力管组具有上浮力管及下浮力管；以及至少一个化学药液供液管组，设置于所述浮力管组之间，且所述至少一个化学药液供液管组具有上供液管及下供液管。

在本实用新型的一实施例中，上浮力管及下浮力管分别包括至少一个压力输入端及多个压力输出口，且上浮力管的压力输出口面对下浮力管的压力输出口。

在本实用新型的一实施例中，藉由将供压液体或供压气体输入上浮力管及下浮力管的至少一个压力输入端，并将供压液体或供压气体通过上浮力管及下浮力管的多个压力输出口供给，使挠性基材平稳地传输在上浮力管与下浮力管之间。

在本实用新型的一实施例中，供压液体为化学药液供液管组所供给的化学药液。

在本实用新型的一实施例中，供压气体包括惰性气体。

在本实用新型的一实施例中，各浮力管组包括高度调整构件。

在本实用新型的一实施例中，高度调整构件包括上浮力管高度调整部件、下浮力管高度调整部件以及高度调整导引块。

在本实用新型的一实施例中，双面处理装置更包括：至少一个第三导轮组，设置于浮力管组之间。

藉此，由于本实用新型所提出的挠性基材水平连续式双面制程处理机构的双面处理装置包括至少两个浮力管组，可通过浮力管组使水平通过双面处理装置的挠性基材在传输过程中能平稳地位于上浮力管与下浮力管之间，并藉由上供液管及下供液管分别在挠性基材的两个表面同时供给化学药液。即本实用新型所提出的挠性基材水平连续式双面制程处理机构可同时对挠性基材的两个表面进行处理，能有效解决现有技术中欲对挠性基材的双面进行表面处理导致制程耗时的缺点，亦能避免挠性基材的表面被破坏，使产品的良率提高，并降低生产成本。

附图说明

图1是本实用新型一实施例的挠性基材水平连续式双面制程处理机构的示意图。

图2是本实用新型一实施例的浮力管组的示意图。

图3是本实用新型另一实施例的挠性基材水平连续式双面制程处理机构的示意图。

附图标记列表：

100、100’ 挠性基材水平连续式双面制程处理机构

10 送料装置

11 第一导轮组

20、20’ 双面处理装置

21 浮力管组

211 上浮力管

2111 压力输入端

2113 压力输出口

213 下浮力管

2131 压力输入端

2133 压力输出口

215 高度调整构件

2151 上浮力管高度调整部件

2153 下浮力管高度调整部件

2155 高度调整导引块

23 化学药液供液管组

231 上供液管

233 下供液管

25 第三导轮组

30 收料装置

31 第二导轮组

90 挠性基材

具体实施方式

为充分了解本实用新型，藉由下述具体的实施例，并配合所附的图式，对本实用新型做详细说明。本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本实用新型的目的、特征及功效。须注意的是，本实用新型可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节亦可基于不同观点与应用，在不悖离本实用新型的精神下进行各种修饰与变更。另外，本实用新型所附的图式仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘。以下的实施方式将进一步详细说明本实用新型的相关技术内容，但所公开的内容并非用以限制本实用新型的申请专利范围。说明如下：

图1为本实用新型一实施例的挠性基材水平连续式双面制程处理机构100的示意图。如图1所示，挠性基材水平连续式双面制程处理机构100包含送料装置10、双面处理装置20以及收料装置30。送料装置10包括第一导轮组11，用以输入挠性基材90。双面处理装置20用以同时对挠性基材90的两个表面进行表面处理(例如沉积、剥膜、蚀刻等)。收料装置30包括第二导轮组31，用以接收经双面处理装置20进行双面表面处理后的挠性基材90。

在本实用新型实施例中，双面处理装置20包括至少两个浮力管组21及至少一个化学药液供液管组23。至少两个浮力管组21分别邻接于送料装置10与收料装置30，且各浮力管组21具有上浮力管211及下浮力管213。至少一个化学药液供液管组23设置于浮力管组21之间，且至少一个化学药液供液管组23具有上供液管231及一下供液管233。至少两个浮力管组21通过其上浮力管211及下浮力管213以提供挠性基材90浮力(详细将在后方说明)，而至少一个化学药液供液管组23通过其上供液管231及下供液管233同时供给化学药液在挠性基材90的上下表面，使挠性基材90位于双面处理装置20内的区段可同时进行双面制程(表面)处理。

在实施例中，双面处理装置20还包括至少一个第三导轮组25，至少一个第三导轮组25设置于浮力管组21之间。至少一个第三导轮组25在挠性基材90初始被送料装置10输入双面处理装置20且至少一个化学药液供液管组23尚未供给化学药液时，提供挠性基材90水平传输的动力，使挠性基材90可被送入收料装置30。

图2为本实用新型实施例的浮力管组21的示意图。如图2所示，上浮力管211包括至少一个压力输入端2111及多个压力输出口2113；类似地，下浮力管213分别包括至少一个压力输入端2131及多个压力输出口2133。此外，上浮力管211的压力输出口2113面对下浮力管213的压力输出口2133。在图2所示的实施例中，上浮力管211包括两个压力输入端2111，而下浮力管213包括两个压力输入端2131，但本实用新型并未限定于此。

在本实用新型实施例中，双面处理装置20藉由将供压液体或供压气体输入上浮力管211的压力输入端2111以及下浮力管213的压力输入端2131，并将供压液体或供压气体通过上浮力管211的多个压力输出口2113及下浮力管213的多个压力输出口2133供给，使挠性基材90平稳地传输于上浮力管211与下浮力管213之间。

因此，位于双面处理装置20内的挠性基材90，由于双面处理装置20内的化学药液提供的浮力以及上浮力管211与下浮力管213所提供的压力达到平衡状态，使挠性基材90可呈现悬浮状态，并且上供液管231及下供液管233可分别供给化学药液在挠性基材90的上下表面，对挠性基材90的上下表面进行表面处理。亦即，本实用新型实施例的挠性基材水平连续式双面制程处理机构100可同时对挠性基材90的两个表面进行处理，能有效解决现有技术中无法同时对挠性基材90的双面进行表面处理导致制程耗时的缺点。此外，由于挠性基材90呈悬浮状态，在运送与供给化学药液的过程中不会造成挠性基材90的任一表面被破坏，能有效提升产品的良率，并降低生产成本。

在本实施例中，双面处理装置20所提供的供压液体可例如为化学药液供液管组23所供给的化学药液，例如为蚀刻液；或者，双面处理装置20所提供的供压气体包括惰性气体。在此，惰性气体定义为不与化学药液产生作用的气体，例如氮气。供压液体与供压气体的种类皆以不影响挠性基材90的表面处理为原则进行选择。

如图2所示，浮力管组21包括高度调整构件215，用以调整上浮力管211与下浮力管213的高度，并调整上浮力管211与下浮力管213之间的距离。在一实施例中，高度调整构件215包括上浮力管高度调整部件2151、下浮力管高度调整部件2153及高度调整导引块2155。可依据挠性基材90本身的材料特性，藉由高度调整构件215中的各部件调整上浮力管211与下浮力管213之间的距离，并配合上浮力管211与下浮力管213所提供的压力，使挠性基材90可平稳地传输于上浮力管211与下浮力管213之间。

要注意的是，虽然在上述实施例中，双面处理装置20包括两个浮力管组21及一个化学药液供液管组23，但本实用新型并未限定于此。图3为本实用新型另一实施例的挠性基材水平连续式双面制程处理机构100’的示意图。在图3所示的实施例中，双面处理装置20’包括两个浮力管组21及三个化学药液供液管组23。亦即，浮力管组21及化学药液供液管组23的数量，可视实际需求(例如挠性基材90的尺寸、材料、重量等)而改变。

以下详细描述将挠性基材90藉由本实用新型实施例的挠性基材水平连续式双面制程处理机构100进行表面处理的流程步骤。要注意的是，亦可以图3所示的挠性基材水平连续式双面制程处理机构100’取代挠性基材水平连续式双面制程处理机构100，进行以下流程步骤，视其实际需求决定。

首先，挠性基材90例如被卷收于滚筒(未绘示)上，将挠性基材90的一端藉由送料装置10的第一导轮组11夹持，且第一导轮组11持续转动带动挠性基材90输入双面处理装置20，并通过邻接于送料装置10的浮力管组21的上浮力管211及下浮力管213之间。此时，浮力管组21尚未提供浮力，且至少一个化学药液供液管组23亦未供给化学药液。

接着，藉由至少一个第三导轮组25夹持挠性基材90，并至少一个第三导轮组25持续转动提供挠性基材90水平传输的动力，使挠性基材90通过邻接于收料装置30的浮力管组21的上浮力管211及下浮力管213之间并送入收料装置30。

待收料装置30的第二导轮组31夹持挠性基材90后，浮力管组21的上浮力管211及下浮力管213开始提供浮力，使挠性基材90平稳地传输于上浮力管211与下浮力管213之间，同时至少一个化学药液供液管组23的上供液管231及下供液管233开始供给化学药液，对挠性基材90的上下表面同时进行表面处理。此时，至少一个第三导轮组25停止，藉由持续转动送料装置10的第一导轮组11与收料装置30的第二导轮组31，使挠性基材90可连续地被水平传输并进行双面表面处理。

综上所述，由于本实用新型所提出的挠性基材水平连续式双面制程处理机构100(或100’)的双面处理装置20包括至少两个浮力管组21，可通过浮力管组21使水平通过双面处理装置20的挠性基材90在传输过程中能平稳地位于上浮力管211与下浮力管213之间，并藉由至少一化学药液供液管组23的上供液管231及下供液管233分别于挠性基材90的两个表面同时供给化学药液。即本实用新型所提出的挠性基材水平连续式双面制程处理机构100可同时对挠性基材90的两个表面进行处理，能有效解决现有技术中欲对挠性基材90的双面进行表面处理导致制程耗时的缺点，亦能避免挠性基材90的表面在处理时被破坏，使产品的良率提高，并降低生产成本。

本实用新型在上文中已以实施例公开，然而本实用新型所属技术领域中的技术人员应理解的是，该实施例仅用于描绘本实用新型，而不应解读为限制本实用新型的范围。应注意的是，举凡与该实施例等效的变化与置换，均应设为涵盖于本实用新型的范畴内。因此，本实用新型的保护范围当以申请专利范围所界定者为准。

Claims (8)

1.一种挠性基材水平连续式双面制程处理机构，其特征在于，包含：

送料装置，包括第一导轮组，用以输入挠性基材；

双面处理装置，用以同时对所述挠性基材的两个表面进行表面处理；以及

收料装置，包括第二导轮组，用以接收所述挠性基材；

其中所述双面处理装置包括：

至少两个浮力管组，分别邻接于所述送料装置与所述收料装置，且各所述浮力管组具有上浮力管及下浮力管；以及

至少一个化学药液供液管组，设置于所述浮力管组之间，且所述至少一个化学药液供液管组具有上供液管及下供液管。

2.如权利要求1所述的挠性基材水平连续式双面制程处理机构，其特征在于，所述上浮力管及所述下浮力管分别包括至少一个压力输入端及多个压力输出口，且所述上浮力管的压力输出口面对所述下浮力管的压力输出口。

3.如权利要求2所述的挠性基材水平连续式双面制程处理机构，其特征在于，藉由将供压液体或供压气体输入所述上浮力管及所述下浮力管的至少一个压力输入端，并将所述供压液体或所述供压气体通过所述上浮力管及所述下浮力管的多个压力输出口供给，使所述挠性基材平稳地传输在所述上浮力管与所述下浮力管之间。

4.如权利要求3所述的挠性基材水平连续式双面制程处理机构，其特征在于，所述供压液体为所述化学药液供液管组所供给的化学药液。

5.如权利要求3所述的挠性基材水平连续式双面制程处理机构，其特征在于，所述供压气体包括惰性气体。

6.如权利要求1所述的挠性基材水平连续式双面制程处理机构，其特征在于，各所述浮力管组包括高度调整构件。

7.如权利要求6所述的挠性基材水平连续式双面制程处理机构，其特征在于，所述高度调整构件包括上浮力管高度调整部件、下浮力管高度调整部件以及高度调整导引块。

8.如权利要求1所述的挠性基材水平连续式双面制程处理机构，其特征在于，所述双面处理装置更包括：

至少一个第三导轮组，设置于所述浮力管组之间。