CN207164727U - 增透复合板及电子触控产品 - Google Patents
增透复合板及电子触控产品 Download PDFInfo
- Publication number
- CN207164727U CN207164727U CN201721021635.5U CN201721021635U CN207164727U CN 207164727 U CN207164727 U CN 207164727U CN 201721021635 U CN201721021635 U CN 201721021635U CN 207164727 U CN207164727 U CN 207164727U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- composite plate
- electron beam
- reflection
- reflection composite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本实用新型涉及一种增透复合板。一种增透复合板，包括透明基板，透明基板具有相对的第一表面及第二表面，第一表面及第二表面均形成有增透膜，增透膜包括依次层叠的二氧化硅层、二氧化锆层、中间层及具有蓝宝石结构的氧化铝层，中间层为二氧化钛层或五氧化二铌层，具有蓝宝石结构的氧化铝层位于中间层远离透明基板的一侧。上述增透复合板通过双面四层膜系设计，使增透复合板在420nm～680nm的平均透射率达98％以上，增透效果极佳；同时，增透复合板的硬度达9H～10H，既能防止电子触控产品的屏幕表面被划伤，又能避免增透复合板在储存和运输过程中被划伤。因此，上述增透复合板兼具增透和加硬效果，能够满足市场的需求。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种增透复合板及电子触控产品。
背景技术
随着电子触控产品的普遍使用，手机、平板电脑、笔记本电脑等电子触控产品已经成为人类生活的一部分。但电子触控产品在使用过程中屏幕极易出现划痕，不仅影响产品的美观，严重的甚至影响使用。当前主要采用在电子触控产品的屏幕表面贴附功能性保护膜的方法来避免屏幕被划伤，保证触控屏幕清晰显示并延长产品使用寿命。普通的功能性保护膜虽然可以达到增透效果，但是增透效果有待提升，同时普通的功能性保护膜硬度一般在6H～7H，很难起到真正意义上的防划伤作用。钢化玻璃保护膜虽然硬度可以达到要求，但是增透效果较差，而且厚度较厚。
实用新型内容
基于此，有必要提供一种兼具加硬和增透效果的增透复合板。
此外，还提供一种电子触控产品。
一种增透复合板，包括透明基板，透明基板具有相对的第一表面及第二表面，第一表面及第二表面均形成有增透膜，增透膜包括依次层叠的二氧化硅层、二氧化锆层、中间层及具有蓝宝石结构的氧化铝层，中间层为二氧化钛层或五氧化二铌层，具有蓝宝石结构的氧化铝层位于中间层远离透明基板的一侧。
上述增透复合板在透明基板的第一表面及第二表面均形成有增透膜，增透膜包括依次层叠的二氧化硅层、二氧化锆层、中间层及具有蓝宝石结构的氧化铝层，通过双面四层膜系设计，使增透复合板在420nm～680nm的平均透射率达98％以上，增透效果极佳；同时，增透复合板的第一表面及第二表面均镀有具有蓝宝石结构的氧化铝层，硬度达9H～10H，既能防止电子触控产品的屏幕表面被划伤，又能避免增透复合板在储存和运输过程中被划伤。因此，上述增透复合板兼具增透和加硬效果，能够满足市场的需求。
在其中一个实施例中，二氧化硅层的厚度为167nm～177nm。
在其中一个实施例中，二氧化锆层的厚度为59nm～69nm。
在其中一个实施例中，中间层的厚度为46nm～56nm。
在其中一个实施例中，具有蓝宝石结构的氧化铝层的厚度为72nm～82nm。
在其中一个实施例中，透明基板为塑料基板或玻璃基板。
在其中一个实施例中，透明基板的厚度为1mm。
一种电子触控产品，包括屏幕盖板，屏幕盖板为上述增透复合板。
附图说明
图1为一实施方式的增透复合板的结构示意图。
具体实施方式
下面主要结合具体实施例及附图对增透复合板及电子触控产品作进一步详细的说明。
请参阅图1，一实施方式的增透复合板100，包括透明基板110及增透膜120，增透膜120形成于透明基板110的表面。
透明基板110为增透复合板100的主体。透明基板110具有相对的第一表面111及第二表面112。
在其中一个实施例中，透明基板110为塑料基板或玻璃基板。
优选的，玻璃基板在420nm～680nm的平均透射率达91.8％以上。
在其中一个实施例中，透明基板110的厚度为1mm。
增透膜120包括依次层叠的二氧化硅层121、二氧化锆层122、中间层123及具有蓝宝石结构的氧化铝层124。在图示的实施方式中，第一表面111及第二表面112均形成有增透膜120，第一表面111及第二表面112上的增透膜120中的具有蓝宝石结构的氧化铝层124均位于中间层123远离透明基板110的一侧。以下以层叠于第一表面111的增透膜120为例对增透膜120的结构进行说明。
二氧化硅层121层叠于透明基板110的第一表面111。
在其中一个实施例中，二氧化硅层121的厚度为167nm～177nm。
优选的，二氧化硅层121的厚度为172nm。
二氧化锆层122层叠于二氧化硅层121的表面。
在其中一个实施例中，二氧化锆层122的厚度为59nm～69nm。
优选的，二氧化锆层122的厚度为64nm。
中间层123层叠于二氧化锆层122的表面。
在其中一个实施例中，中间层123为二氧化钛层或五氧化二铌层。
在其中一个实施例中，中间层123的厚度为46nm～56nm。
优选的，中间层123的厚度为51nm。
具有蓝宝石结构的氧化铝层124层叠于中间层123的表面。
在其中一个实施例中，具有蓝宝石结构的氧化铝层124的厚度为72nm～82nm。
优选的，具有蓝宝石结构的氧化铝层124的厚度为77nm。
上述增透复合板100在透明基板110的第一表面111及第二表面112均形成有增透膜120，增透膜120包括依次层叠的二氧化硅层121、二氧化锆层122、中间层123及具有蓝宝石结构的氧化铝层124，通过双面四层膜系设计，使增透复合板在420nm～680nm的平均透射率达98％以上，增透效果极佳；同时，增透复合板100的第一表面111及第二表面112均镀有具有蓝宝石结构的氧化铝层124，硬度达9H～10H，既能防止电子触控产品的屏幕表面被划伤，又能避免增透复合板在储存和运输过程中被划伤。因此，上述增透复合板100兼具增透和加硬效果，能够满足市场的需求。
上述增透复合板100的制备方法，包括以下步骤：
步骤S210，将透明基板100清洗后进行干燥。
在其中一个实施例中，清洗的方式为超声。
在其中一个实施例中，干燥的方式为烘干。
步骤S220，在透明基板100的第一表面111沉积二氧化硅层121。
在其中一个实施例中，沉积的方式为电子束蒸镀。
在其中一个实施例中，沉积的设备为电子束蒸发镀膜机。二氧化硅层121的厚度由电子束蒸发镀膜机自带的膜厚仪控制，到达预定厚度后会自动停止工作。
优选的，电子束蒸发镀膜机的靶材为二氧化硅。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室的压力<1.0×10-2Pa。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室衬底温度为100℃～150℃。
优选的，电子束蒸发镀膜机的氧气流量为10sccm～20sccm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的样品架转速为8rpm～15rpm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的电子束斑的大小为3×3。
优选的，电子束蒸发镀膜机的预蒸发电子束电流为10mA，预蒸发时间为1min～2min。
优选的，电子束蒸发镀膜机的蒸发电子束电流为30mA。
步骤S230，在第一表面111上的二氧化硅层121表面沉积二氧化锆层122。
在其中一个实施例中，沉积的方式为电子束蒸镀。
在其中一个实施例中，沉积的设备为电子束蒸发镀膜机。二氧化锆层122的厚度由电子束蒸发镀膜机自带的膜厚仪控制，到达预定厚度后会自动停止工作。
优选的，电子束蒸发镀膜机的靶材为二氧化锆。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室的压力<1.0×10-2Pa。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室衬底温度为100℃～150℃。
优选的，电子束蒸发镀膜机的氧气流量为5sccm～15sccm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的样品架转速为8rpm～15rpm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的电子束斑的大小为1×1。
优选的，电子束蒸发镀膜机的预蒸发电子束电流为15mA，预蒸发时间为1min～2min。
优选的，电子束蒸发镀膜机的蒸发电子束电流为50mA。
步骤S240，在第一表面111上的二氧化锆层122表面沉积中间层123。
在其中一个实施例中，沉积的方式为电子束蒸镀。
在其中一个实施例中，沉积的设备为电子束蒸发镀膜机。中间层123的厚度由电子束蒸发镀膜机自带的膜厚仪控制，到达预定厚度后会自动停止工作。
优选的，电子束蒸发镀膜机的靶材为二氧化钛或五氧化二铌。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室的压力<1.0×10-2Pa。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室衬底温度为100℃～150℃。
优选的，电子束蒸发镀膜机的氧气流量为5sccm～10sccm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的样品架转速为8rpm～15rpm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的电子束斑的大小为2×2。
优选的，电子束蒸发镀膜机的预蒸发电子束电流为15mA，预蒸发时间为1min～2min。
优选的，电子束蒸发镀膜机的蒸发电子束电流为40mA。
步骤S250，在第一表面111上的中间层123表面沉积具有蓝宝石结构的氧化铝层124。
在其中一个实施例中，沉积的方式为电子束蒸镀。
在其中一个实施例中，沉积的设备为电子束蒸发镀膜机。具有蓝宝石结构的氧化铝层124的厚度由电子束蒸发镀膜机自带的膜厚仪控制，到达预定厚度后会自动停止工作。
优选的，电子束蒸发镀膜机的靶材为具有蓝宝石结构的氧化铝。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室的压力<1.0×10-2Pa。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室衬底温度为100℃～150℃。
优选的，电子束蒸发镀膜机的氧气流量为5sccm～15sccm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的样品架转速为8rpm～15rpm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的电子束斑的大小为1×1。
优选的，电子束蒸发镀膜机的预蒸发电子束电流为15mA，预蒸发时间为1min～2min。
优选的，电子束蒸发镀膜机的蒸发电子束电流为50mA。
步骤S260，在透明基板110的第二表面112沉积二氧化硅层121。
在其中一个实施例中，沉积的方式为电子束蒸镀。
在其中一个实施例中，沉积的设备为电子束蒸发镀膜机。二氧化硅层121的厚度由电子束蒸发镀膜机自带的膜厚仪控制，到达预定厚度后会自动停止工作。
优选的，电子束蒸发镀膜机的靶材为二氧化硅。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室的压力<1.0×10-2Pa。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室衬底温度为100℃～150℃。
优选的，电子束蒸发镀膜机的氧气流量为10sccm～20sccm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的样品架转速为8rpm～15rpm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的电子束斑的大小为3×3。
优选的，电子束蒸发镀膜机的预蒸发电子束电流为10mA，预蒸发时间为1min～2min。
优选的，电子束蒸发镀膜机的蒸发电子束电流为30mA
步骤S270，在第二表面112上的二氧化硅层121表面沉积二氧化锆层122。
在其中一个实施例中，沉积的方式为电子束蒸镀。
在其中一个实施例中，沉积的设备为电子束蒸发镀膜机。二氧化锆层122的厚度由电子束蒸发镀膜机自带的膜厚仪控制，到达预定厚度后会自动停止工作。
优选的，电子束蒸发镀膜机的靶材为二氧化锆。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室的压力<1.0×10-2Pa。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室衬底温度为100℃～150℃。
优选的，电子束蒸发镀膜机的氧气流量为5sccm～15sccm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的样品架转速为8rpm～15rpm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的电子束斑的大小为1×1。
优选的，电子束蒸发镀膜机的预蒸发电子束电流为15mA，预蒸发时间为1min～2min。
优选的，电子束蒸发镀膜机的蒸发电子束电流为50mA。
步骤S280，在第二表面112上的二氧化锆层122表面沉积中间层123。
在其中一个实施例中，沉积的方式为电子束蒸镀。
在其中一个实施例中，沉积的设备为电子束蒸发镀膜机。中间层123的厚度由电子束蒸发镀膜机自带的膜厚仪控制，到达预定厚度后会自动停止工作。
优选的，电子束蒸发镀膜机的靶材为二氧化钛或五氧化二铌。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室的压力<1.0×10-2Pa。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室衬底温度为100℃～150℃。
优选的，电子束蒸发镀膜机的氧气流量为5sccm～10sccm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的样品架转速为8rpm～15rpm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的电子束斑的大小为2×2。
优选的，电子束蒸发镀膜机的预蒸发电子束电流为15mA，预蒸发时间为1min～2min。
优选的，电子束蒸发镀膜机的蒸发电子束电流为40mA。
步骤S290，在第二表面112上的中间层123表面沉积具有蓝宝石结构的氧化铝层124。
在其中一个实施例中，沉积的方式为电子束蒸镀。
在其中一个实施例中，沉积的设备为电子束蒸发镀膜机。具有蓝宝石结构的氧化铝层124的厚度由电子束蒸发镀膜机自带的膜厚仪控制，到达预定厚度后会自动停止工作。
优选的，电子束蒸发镀膜机的靶材为具有蓝宝石结构的氧化铝。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室的压力<1.0×10-2Pa。
优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室衬底温度为100℃～150℃。
优选的，电子束蒸发镀膜机的氧气流量为5sccm～15sccm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的样品架转速为8rpm～15rpm。
优选的，电子束蒸发镀膜机的电子束斑的大小为1×1。
优选的，电子束蒸发镀膜机的预蒸发电子束电流为15mA，预蒸发时间为1min～2min。
优选的，电子束蒸发镀膜机的蒸发电子束电流为50mA。
上述增透复合板的制备方法工艺简单，适合工业化生产。
一实施方式的电子触控产品，包括屏幕盖板，屏幕盖板为上述增透复合板。
上述电子触控产品通过使用上述增透复合板作为屏幕盖板，能够有效防止电子触控产品的屏幕表面被划伤。
以下为具体实施例部分：
实施例1
实施例1的增透复合板的结构为：具有蓝宝石结构的氧化铝层(77nm)/二氧化钛层(51nm)/二氧化锆层(64nm)/二氧化硅层(172nm)/玻璃基板(1mm)/二氧化硅层(172nm)/二氧化锆层(64nm)/二氧化钛层(51nm)/具有蓝宝石结构的氧化铝层(77nm)(上述结构中“/”表示层叠，下同)。
实施例2
实施例2的增透复合板的结构为：具有蓝宝石结构的氧化铝层(72nm)/二氧化钛层(46nm)/二氧化锆层(59nm)/二氧化硅层(167nm)/玻璃基板(1mm)/二氧化硅层(167nm)/二氧化锆层(59nm)/二氧化钛层(46nm)/具有蓝宝石结构的氧化铝层(72nm)。
实施例3
实施例3的增透复合板的结构为：具有蓝宝石结构的氧化铝层(82nm)/二氧化钛层(56nm)/二氧化锆层(69nm)/二氧化硅层(177nm)/塑料基板(1mm)/二氧化硅层(177nm)/二氧化锆层(69nm)/二氧化钛层(56nm)/具有蓝宝石结构的氧化铝层(82nm)。
实施例4
实施例4的增透复合板的结构为：具有蓝宝石结构的氧化铝层(77nm)/五氧化二铌层(51nm)/二氧化锆层(64nm)/二氧化硅层(172nm)/玻璃基板(1mm)/二氧化硅层(172nm)/二氧化锆层(64nm)/五氧化二铌层(51nm)/具有蓝宝石结构的氧化铝层(77nm)
采用分光光度计测定实施例1～4得到的增透复合板在420nm～680nm的平均透过率，结果见表1。
将负重1kg的硬度为9H的铅笔与实施例1～4得到的增透复合板呈45°以0.5mm/s的速度犁划5次，观察增透复合板表面是否有划伤，结果见表1。
使用2cm*2m的0000#钢丝棉为摩擦介质，荷重1kg以60次/min的频率在实施例1～4得到的增透复合板表面摩擦10000次，观察增透复合板表面是否有刮伤、脱落，结果见表1。
表1
| 平均透过率 | 铅笔测试 | 钢丝棉测试 | |
| 实施例1 | 98.46 | 无划伤 | 无刮伤、无脱落 |
| 实施例2 | 98.21 | 无划伤 | 无刮伤、无脱落 |
| 实施例3 | 98.13 | 无划伤 | 无刮伤、无脱落 |
| 实施例4 | 98.28 | 无划伤 | 无刮伤、无脱落 |
从表1可以看出，实施例1～4制得的增透复合板在420nm～680nm的平均透过率>98％，增透效果极佳。同时，实施例1～4制得的增透复合板经过9H铅笔测试无划伤，经过钢丝棉测试无刮伤、无脱落，表明增透复合板的硬度达9H～10H，既能防止电子触控产品的屏幕表面被划伤，又能避免增透复合板在储存和运输过程中被划伤。因此，上述增透复合板兼具增透和加硬效果，能够满足市场的需求。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (8)
1.一种增透复合板，其特征在于，所述增透复合板包括透明基板，所述透明基板具有相对的第一表面及第二表面，所述第一表面及所述第二表面均形成有增透膜，所述增透膜包括依次层叠的二氧化硅层、二氧化锆层、中间层及具有蓝宝石结构的氧化铝层，所述中间层为二氧化钛层或五氧化二铌层，所述具有蓝宝石结构的氧化铝层位于所述中间层远离所述透明基板的一侧。
2.根据权利要求1所述的增透复合板，其特征在于，所述二氧化硅层的厚度为167nm～177nm。
3.根据权利要求1所述的增透复合板，其特征在于，所述二氧化锆层的厚度为59nm～69nm。
4.根据权利要求1所述的增透复合板，其特征在于，所述中间层的厚度为46nm～56nm。
5.根据权利要求1所述的增透复合板，其特征在于，所述具有蓝宝石结构的氧化铝层的厚度为72nm～82nm。
6.根据权利要求1所述的增透复合板，其特征在于，所述透明基板为塑料基板或玻璃基板。
7.根据权利要求1所述的增透复合板，其特征在于，所述透明基板的厚度为1mm。
8.一种电子触控产品，包括屏幕盖板，其特征在于，所述屏幕盖板为权利要求1～7任一项所述的增透复合板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201721021635.5U CN207164727U (zh) | 2017-08-15 | 2017-08-15 | 增透复合板及电子触控产品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201721021635.5U CN207164727U (zh) | 2017-08-15 | 2017-08-15 | 增透复合板及电子触控产品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN207164727U true CN207164727U (zh) | 2018-03-30 |
Family
ID=61716717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201721021635.5U Active CN207164727U (zh) | 2017-08-15 | 2017-08-15 | 增透复合板及电子触控产品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN207164727U (zh) |
-
2017
- 2017-08-15 CN CN201721021635.5U patent/CN207164727U/zh active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6919735B2 (ja) | 防汚層付きガラス板 | |
| CN206956143U (zh) | 一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板 | |
| WO2018139749A1 (ko) | 하우징, 하우징 제조 방법 및 그것을 포함하는 전자 장치 | |
| CN204109479U (zh) | 一种曲面玻璃保护贴片 | |
| CN207969158U (zh) | 一种渐变色片材及电子产品壳体 | |
| CN207164727U (zh) | 增透复合板及电子触控产品 | |
| JP2018123365A5 (zh) | ||
| CN110240420A (zh) | 一种玻璃长效抗指纹膜镀膜喷涂工艺 | |
| CN207281728U (zh) | 玻璃盖板及包含该玻璃盖板的触摸屏 | |
| CN102655717A (zh) | 电子装置壳体及其制作方法 | |
| CN106886068A (zh) | 滤光片、其制备方法与具有其的成像设备 | |
| CN104559817B (zh) | 电子产品用保护贴膜 | |
| CN204398427U (zh) | 镀膜玻璃基板及具有该镀膜玻璃基板的手机 | |
| CN208035577U (zh) | 一种光学玻璃制品及电子产品外壳 | |
| CN207537350U (zh) | 加硬复合板和电子触控产品 | |
| CN106318260A (zh) | 用于面板的保护膜 | |
| CN208035562U (zh) | 类钻石高透高硬度复合板和电子触控产品 | |
| CN202242174U (zh) | 超厚预辊涂抗静电铝塑复合板 | |
| CN206194757U (zh) | 光伏背板玻璃及双玻光伏组件 | |
| CN201165502Y (zh) | 抗反射防静电透明胶膜 | |
| CN203529050U (zh) | 一种胶筐包套装置 | |
| CN104193187B (zh) | 一种平板式手机镜片的制备方法 | |
| CN103885633B (zh) | 触摸屏及其制备方法 | |
| CN104699256A (zh) | 计算机用键盘 | |
| CN207327748U (zh) | 高透高硬度复合板和电子触控产品 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |