CN207153388U - 一种用于cvd设备的过滤装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种用于CVD设备的过滤装置，CVD设备具有反应室，过滤装置包括进气管、过滤器单元、出气管和真空泵，进气管的一端与反应室相连，出气管的一端与过滤器单元的出气口相连、另一端与真空泵相连，过滤装置还包括具有内腔的沉积桶，沉积桶的进气口与进气管的另一端相连，沉积桶的出气口与过滤器单元的进气口相连，沉积桶内固定设置有水冷盘管。本实用新型设置沉积桶，带有粉尘的气体在重力作用下，大部分的大颗粒粉尘沉积到沉积桶的底部，气体然后进入过滤器单元进一步过滤，如此进入到过滤器内的气体，粉尘量大大降低，提高了过滤器的使用周期和单组滤芯的利用率，进而提高了设备的稳定性及稼动率，提高产量，也降低了生产成本。
Description
技术领域
本实用新型属于半导体CVD技术领域，特别涉及一种用于CVD设备的过滤装置。
背景技术
半导体CVD（化学气相沉积）工艺中会产生很多粉尘，这些粉尘会对尾气端的真空系统产生污染和堵塞，所以在CVD设备的反应室出口端需要增加颗粒过滤器，把产生的粉尘过滤干净。
目前的颗粒过滤器是采用传统的纸质滤芯过滤装置，传统的纸质过滤装置只有粗滤和精馏两级滤筒，这种过滤器使用一段时间后就会发生堵塞，导致过滤器的使用周期缩短，需要经常更换，否则会导致反应室真空度失控，或者过压，影响机台的稼动率及稳定性。且每次更换滤芯也会造成成本上升。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种改进的用于CVD设备的过滤装置。
为解决以上技术问题，本实用新型采用如下技术方案：
一种用于CVD设备的过滤装置，所述CVD设备具有反应室，所述过滤装置包括进气管、过滤器单元、出气管和真空泵，所述进气管的一端与所述反应室相连，所述出气管的一端与所述过滤器单元的出气口相连、另一端与所述真空泵相连，所述过滤装置还包括具有内腔的沉积桶，所述沉积桶的进气口与所述进气管的另一端相连，所述沉积桶的出气口与所述过滤器单元的进气口相连，所述沉积桶内固定设置有水冷盘管。
进一步地，所述沉积桶的进气口设置在所述沉积桶的顶部，所述沉积桶的出气口设置在所述沉积桶的侧部。
进一步地，所述沉积桶的底部设置有排尘孔。
优选地，所述沉积桶为不锈钢桶。
优选地，所述水冷盘管为螺旋盘管，其在所述沉积桶内沿上下方向延伸设置。
根据本实用新型的一些优选实施方案，所述过滤器单元包括串联连接的粗过滤器和精过滤器，所述粗过滤器使用的滤芯孔径大于所述精过滤器使用的滤芯孔径，所述粗过滤器的进气口与所述沉积桶的出气口相连，所述粗过滤器的出气口与所述精过滤器的进气口相连，所述精过滤器的出气口与所述出气管的所述一端相连。
进一步优选地，所述粗过滤器的滤芯为聚酯滤芯，孔径为10~25微米。
进一步优选地，所述精过滤器的滤芯为聚酯滤芯，孔径为2~8微米。
根据本实用新型的一些优选实施方案，所述过滤器单元包括多个并联连接的精过滤器，各所述精过滤器的进气口分别与所述沉积桶的出气口相连，各所述精过滤器的出气口分别与所述出气管的所述一端相连。
进一步优选地，所述精过滤器的滤芯为聚酯滤芯，孔径为2~8微米。
由于上述技术方案的实施，本实用新型与现有技术相比具有如下优点：
本实用新型的过滤装置在过滤器单元和反应室之间设置沉积桶，反应室内带有粉尘的气体在沉积桶内在重力作用下，大部分的大颗粒粉尘沉积到沉积桶的底部，气体然后进入过滤器单元进行进一步过滤，如此进入到后期过滤器内的气体，粉尘量大大降低，能够提高了过滤器的使用周期和单组滤芯的利用率，进而提高了设备的稳定性及稼动率，提高产量，也降低了生产成本。
附图说明
图1为本实用新型的实施例1的过滤装置的结构示意图。
图中：1、进气管；2、出气管；3、沉积桶；4、水冷盘管；5、精过滤器；6、滤芯。
具体实施方式
下面结合说明书附图对本实用新型进行进一步说明。
实施例1
如图1所示，本实施例提供的用于CVD设备的过滤装置，CVD设备具有反应室，该过滤装置包括进气管1、过滤器单元、出气管2和真空泵，进气管1的一端与反应室相连，出气管2的一端与过滤器单元的出气口相连、另一端与真空泵相连，该过滤装置还包括具有内腔的沉积桶3，沉积桶3的进气口与进气管1的另一端相连，沉积桶3的出气口与过滤器单元的进气口相连，沉积桶3内固定设置有水冷盘管4。
本例中，沉积桶3的进气口设置在沉积桶3的顶部，沉积桶3的出气口设置在沉积桶3的侧部，具体地，沉积桶3的出气口设置在沉积桶3的侧部下方；沉积桶3的底部还设置有排尘孔。沉积桶3通常为不锈钢桶。
本例中，水冷盘管4为螺旋盘管，其在沉积桶3内沿上下方向延伸设置。
本例中，如图1所示，过滤器单元包括多个并联连接的精过滤器5，各精过滤器5的进气口分别与沉积桶3的出气口相连，各精过滤器5的出气口分别与出气管2的一端相连，出气管2的另一端与真空泵相连。具体地，精过滤器5的滤芯为聚酯滤芯，孔径为2~8微米，优选为5微米。
本实用新型过滤装置的工作原理：CVD反应室内的带有粉尘的气体在真空泵的作用下，依次流经沉积桶3、过滤器单元，然后被抽出，带粉尘的气体在沉积桶3内经水冷盘管冷却，且大部分的大颗粒在沉积桶3内在重力作用下，沉积到沉积桶3底部，气体然后进入过滤器单元进一步进行过滤，过滤后的气体由真空泵抽出。
经沉积桶3处理后的气体进入到后期过滤器内的气体，粉尘量大大降低，能够提高了过滤器的使用周期和单组滤芯的利用率，进而提高了设备的稳定性及稼动率，提高产量，也降低了生产成本。
实施例2
本实施例提供的用于CVD设备的过滤装置，除过滤器单元外，其他同实施例1。
本例中的过滤器单元包括串联连接的粗过滤器和精过滤器，粗过滤器使用的滤芯孔径大于精过滤器使用的滤芯孔径，粗过滤器的进气口与沉积桶的出气口相连，粗过滤器的出气口与精过滤器的进气口相连，精过滤器的出气口与出气管的一端相连，出气管的另一端与真空泵相连。
本例中，粗过滤器的滤芯为聚酯滤芯，孔径为10~25微米，优选为20微米；精过滤器的滤芯为聚酯滤芯，孔径为2~8微米，优选为5微米。
以上对本实用新型做了详尽的描述，其目的在于让熟悉此领域技术的人士能够了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围，凡根据本实用新型的精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
Claims (10)
1.一种用于CVD设备的过滤装置，所述CVD设备具有反应室，所述过滤装置包括进气管、过滤器单元、出气管和真空泵，所述进气管的一端与所述反应室相连，所述出气管的一端与所述过滤器单元的出气口相连、另一端与所述真空泵相连，其特征在于：所述过滤装置还包括具有内腔的沉积桶，所述沉积桶的进气口与所述进气管的另一端相连，所述沉积桶的出气口与所述过滤器单元的进气口相连，所述沉积桶内固定设置有水冷盘管。
2.根据权利要求1所述的用于CVD设备的过滤装置，其特征在于：所述沉积桶的进气口设置在所述沉积桶的顶部，所述沉积桶的出气口设置在所述沉积桶的侧部。
3.根据权利要求1所述的用于CVD设备的过滤装置，其特征在于：所述沉积桶的底部设置有排尘孔。
4.根据权利要求1所述的用于CVD设备的过滤装置，其特征在于：所述沉积桶为不锈钢桶。
5.根据权利要求1所述的用于CVD设备的过滤装置，其特征在于：所述水冷盘管为螺旋盘管，其在所述沉积桶内沿上下方向延伸设置。
6.根据权利要求1所述的用于CVD设备的过滤装置，其特征在于：所述过滤器单元包括串联连接的粗过滤器和精过滤器，所述粗过滤器使用的滤芯孔径大于所述精过滤器使用的滤芯孔径，所述粗过滤器的进气口与所述沉积桶的出气口相连，所述粗过滤器的出气口与所述精过滤器的进气口相连，所述精过滤器的出气口与所述出气管的所述一端相连。
7.根据权利要求6所述的用于CVD设备的过滤装置，其特征在于：所述粗过滤器的滤芯为聚酯滤芯，孔径为10~25微米。
8.根据权利要求6所述的用于CVD设备的过滤装置，其特征在于：所述精过滤器的滤芯为聚酯滤芯，孔径为2~8微米。
9.根据权利要求1所述的用于CVD设备的过滤装置，其特征在于：所述过滤器单元包括多个并联连接的精过滤器，各所述精过滤器的进气口分别与所述沉积桶的出气口相连，各所述精过滤器的出气口分别与所述出气管的所述一端相连。
10.根据权利要求9所述的用于CVD设备的过滤装置，其特征在于：所述精过滤器的滤芯为聚酯滤芯，孔径为2~8微米。
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