CN207068804U - 一种温控平台 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种温控平台，包括：加热平板，所述加热平板具有多个孔洞，所述孔洞贯穿所述加热平板设置；支撑体底座，所述支撑体底座位于所述加热平板的第一侧；多个支撑针，所述支撑针的长度大于所述加热平板的厚度，且穿过所述加热平板在所述孔洞中伸缩运动，所述支撑针的第一端与所述支撑体底座固定；制冷设备，所述制冷设备包括制冷部和传导气管；所述传导气管与所述支撑体底座和所述多个支撑针接触；所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧之间的距离小于等于第一预设距离时，所述支撑针的第二端位于所述加热平板的第二侧，所述制冷设备为所述多个支撑针制冷。本实用新型提供的温控平台改善了支撑针造成的基板受热不均问题。
Description
技术领域
本实用新型实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种温控平台。
背景技术
在形成显示面板的过程中，往往需要对显示面板中的基板进行加热处理，例如在使用沉积工艺沉积半导体层时或使用黄光工艺来制作色阻层时。使用黄光工艺形成色阻的过程为：形成一层色阻层；在色阻层上形成光阻(也称为光刻胶，一般通过涂覆光阻液并对光阻液加热固化的方式来得到光阻)；对光阻的特定部分通过遮光罩进行光照处理将遮光罩上的图像信息转移到光阻上；利用显影液对光阻进行显影，对于正性光阻来说，去除了光阻被曝光的部分，保留了未被曝光的部分，从而使光阻形成所需图案；再通过光阻图案对色阻层进行蚀刻，将光阻图案转移到色阻层上，以便形成色阻。
在将基板进行加热的过程中通常会通过支撑针来对基板进行支撑，由于支撑针的存在导致了基板的受热不均(一般来说，支撑针在取出待加热基板时，支撑针的温度高于待加热基板的温度；而在对待加热基板进行加热时，支撑针的温度低于待加热基板的温度)，并因此导致了最终形成的显示面板存在缺陷。
实用新型内容
本实用新型实施例提供一种温控平台，以实现改善支撑针造成的基板受热不均的问题。
本实用新型实施例提供了一种温控平台，包括：
加热平板，所述加热平板具有多个孔洞，所述孔洞贯穿所述加热平板设置；
支撑体底座，所述支撑体底座位于所述加热平板的第一侧；
多个支撑针，所述支撑针的长度大于所述加热平板的厚度，且穿过所述加热平板在所述孔洞中伸缩运动，所述支撑针的第一端与所述支撑体底座固定；
制冷设备，所述制冷设备包括制冷部和传导气管；所述传导气管与所述支撑体底座和所述多个支撑针接触；
所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧表面之间的距离小于等于第一预设距离时，所述支撑针的第二端位于所述加热平板的第二侧，所述制冷设备为所述多个支撑针制冷。
进一步地，所述支撑体底座包括底座和框架；所述框架为网格状；所述多个支撑针固定在所述框架上，所述框架固定在所述底座上；
所述传导气管围绕所述底座设置。
进一步地，所述传导气管设置有通气孔，所述制冷部中设置有制冷剂；
所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧平面之间的距离小于等于第一预设距离时，所述支撑针的第二端位于所述加热平板的第二侧，所述制冷部通过所述通气孔将所述制冷剂喷洒到所述支撑体底座和所述多个支撑针上。
进一步地，所述制冷剂包括四氟乙烷。
进一步地，所述支撑体底座和所述支撑针为金属材料。
进一步地，所述温控平台还包括多个加热器，每一个所述加热器与每一个所述支撑针接触；
所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧平面之间的距离等于第二预设距离时，所述支撑针的第二端与所述加热平板第二侧表面平齐，所述多个加热器同时开启为所述多个支撑针加热。
进一步地，所述多个加热器位于所述加热平板的第一侧。
进一步地，所述加热器包括加热电阻。
进一步地，所述温控平台还包括电源和开关元件，所述电源、开关元件与所述多个加热电阻组成加热电路；
多个所述加热电阻并联后的一端通过所述开关元件与所述电源的正极连接；多个所述加热电阻并联后的另一端与所述电源的负极连接；
多个所述加热电阻具有相同的电阻值。
进一步地，所述温控平台还包括位置传感器，所述位置传感器位于所述加热平板的第一侧，用于检测所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧表面之间的距离。
本实用新型实施提供的温控平台包括加热平板、支撑体底座、固定在支撑体底座上的多个支撑针和制冷设备，加热平板作为加热源可以对待加热基板进行加热，且支撑针可以穿过加热平板上的孔洞运动，当取出待加热基板时，可以使支撑针穿过加热平板并顶起待加热基板，然后由支撑针托举待加热基板向加热平板运动，直至待加热基板与加热平板接触，由加热平板完成对待加热基板的加热处理。本实用新型实施提供的温控平台还包括制冷设备，制冷设备包括制冷部和传导气管，传导气管与支撑体底座和多个支撑针接触，当支撑体底座与加热平板的第一侧平面之间的距离小于等于第一预设距离时，支撑针的第二端位于加热平板的第二侧，此时支撑针穿过加热平板的孔洞取出待加热基板，制冷设备通过与支撑体底座和多个支撑针接触的气管为多个支撑针制冷，减小了支撑针与待加热基板平面之间的温度差异，从而改善了支撑针造成的基板受热不均的问题。
附图说明
图1a为本实用新型实施例提供的一种温控平台的结构示意图；
图1b为图1a中所示温控平台的侧视图；
图2a为本实用新型实施例提供的另一种温控平台的结构示意图；
图2b为图2a中所示温控平台的侧视图；
图3为本实用新型实施例提供的一种加热电路的电路图。
具体实施方式
为更进一步阐述本实用新型为达成预定实用新型的目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本实用新型提出的一种温控平台的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
图1a为本实用新型实施例提供的一种温控平台的结构示意图，图1b为图1a中所示温控平台的侧视图，结合图1a和图1b所示，本实用新型实施例提供的温控平台包括加热平板10、支撑体底座20、多个支撑针30和制冷设备40。加热平板10具有多个孔洞11，孔洞11贯穿加热平板10设置，加热平板10作为热源为待加热基板100提供热量，加热平板10例如可以使用红外辐射加热器或热气流加热器。支撑体底座20位于加热平板10的第一侧，且支撑体底座20与支撑针30的第一端固定，支撑针30的长度大于加热平板10的厚度，且穿过加热平板10在孔洞11中伸缩运动，即，加热平板10的孔洞11与支撑针30一一对应，支撑针30可穿过孔洞11去承接待加热基板100。支撑针30穿过加热平板10的孔洞11运动，可以通过控制与支撑针30固定的支撑体底座20来实现。制冷设备40包括制冷部41和传导气管42，传导气管42与支撑体底座20和多个支撑针30接触，支撑体底座20与加热平板10的第一侧平面之间的距离小于等于第一预设距离H1时，支撑针30的第二端位于加热平板10的第二侧，此时待加热基板100远离加热平板10，加热平板10未给待加热基板100提供热量进行加热，但是由于支撑针30穿过了热的加热平板10造成支撑针30的温度高于待加热基板100的温度，因此制冷设备40为多个支撑针30制冷。这里的第一预设距离H1可以根据待加热基板100与加热平板10的距离来设定，当支撑体底座20与加热平板10的第一侧平面之间的距离小于等于第一预设距离H1时，支撑针30穿过加热平板10的孔洞11去承接待加热基板，此时通过制冷设备40的传导气管42为支撑针30制冷，通过制冷设备40的传导气管42为支撑体底座20制冷，通过支撑体底座20将热量传导给支撑针30，从而实现对支撑针30的制冷。图1a和图1b中示例性地设置传导气管与支撑体底座20接触，在其他实施方式中，还可以设置传导气管42与支撑针30接触，或者可以设置传导气管42既与支撑体底座20接触又与支撑针30接触，本实用新型实施例对此不做限定。
需要说明的是，本实用新型实施例对于支撑针的数量以及排列方式也不做限定，只需要支撑针能够取放待加热基板即可。
本实用新型实施例提供的温控平台包括加热平板、支撑体底座、固定在支撑体底座上的多个支撑针和制冷设备，加热平板作为加热源可以对待加热基板进行加热，待加热基板例如可以是阵列基板或者彩膜基板，待加热基板可以由机械手取放，并由固定在支撑体底座上的支撑针提供支撑，支撑针可以穿过加热平板上的孔洞运动，当取出待加热基板时，可以使支撑针穿过加热平板并顶起待加热基板，然后由支撑针托举待加热基板向加热平板运动，直至待加热基板与加热平板接触，由加热平板完成对待加热基板的加热处理，本实用新型实施例提供的温控平台还包括制冷设备，制冷设备包括制冷部和传导气管，传导气管与支撑体底座和多个支撑针接触，当支撑体底座与加热平板的第一侧平面之间的距离小于等于第一预设距离时，支撑针的第二端位于加热平板的第二侧，即支撑针穿过加热平板一定长度，此时支撑针穿过加热平板的孔洞取出待加热基板，制冷设备通过与支撑体底座和多个支撑针接触的气管为多个支撑针制冷，减小了支撑针与待加热基板之间的温度差异，从而改善了支撑针造成的基板受热不均(pin mura)的问题。
可选地，参考图1a和图1b，支撑体底座20包括底座21和框架22，底座21可以选择圆柱状或棱柱状结构，框架22为网格状，图1a中示例性地设置框架22为“田”字形，多个支撑针30固定在框架22上，框架22固定在底座21上，传导气管42围绕底座21设置。在制冷部41通过传导气管42给支撑针30制冷时，底座21将热量传导给框架22，然后框架22将热量传导给支撑针30。
可选地，传导气管42设置有通气孔(未示出)，制冷部41中设置有制冷剂，支撑体底座20与加热平板10的第一侧平面之间的距离小于等于第一预设距离H1时，支撑针30的第二端位于加热平板10的第二侧，制冷部41通过通气孔将制冷剂喷洒到支撑体底座20和多个支撑针30上。将制冷剂通过通气孔喷洒到支撑体底座20和多个支撑针30上的方式，可以给支撑体底座20和多个支撑针30更快地降温，进而缩短支撑针30的温度达到待加热基板100温度的时间，提高生产效率。
可选地，制冷剂包括四氟乙烷,四氟乙烷又称为1,1,1,2-四氟乙烷。四氟乙烷的臭氧耗损潜值为0，具有优异的物化性能，无毒、无色、无味、不燃、不爆，熔点：-101℃，沸点：26.2℃。
可选地，支撑体底座20和支撑针30为金属材料，金属材料具有良好的导热性和机械强度。具体地，支撑体底座20和支撑针30可以选择铜、铁等导热性良好的金属，支撑体底座20和支撑针30可以选择相同的材料或不同的材料，且支撑体底座20和支撑针30例如可以通过焊接等方式连接固定。
图2a为本实用新型实施例提供的另一种温控平台的结构示意图，图2b为图2a中所示温控平台的侧视图，结合图2a和图2b所示，温控平台还可以包括多个加热器50，每一个加热器50与每一个支撑针30接触，支撑体底座20与加热平板10的第一侧平面之间的距离等于第二预设距离H2时，支撑针30的第二端与加热平板10第二侧表面平齐，多个加热器50同时开启为多个支撑针30加热。可以理解的是，当取出待加热基板100时，支撑针30比待加热基板100的温度高，需要对支撑针30制冷，而在取出待加热基板100后，待加热基板100在支撑针30的托举下向加热平板10运动，直至支撑针30的第二端与加热平板10第二侧表面平齐，即待加热基板100与加热平板10接触，此时通过加热平板10对待加热基板100加热，待加热基板100与支撑针30相接触部分的温度比与加热平板10相接触部分的温度低，因此本实用新型实施例通过在支撑针30上设置加热器50，并在支撑针30的第二端与加热平板10第二侧表面平齐时，多个加热器50同时开启为多个支撑针30加热，减小了支撑针30与待加热基板平面之间的温度差异，从而进一步改善了支撑针30造成的基板受热不均的问题。
可选地，多个加热器50位于加热平板10的第一侧。在其他实施方式中还可以为，加热器50位于支撑针30第二端一侧，从而在对支撑针30进行加热时，加热器50位于加热平板10的孔洞11中或位于加热平板10的第二侧，因此需要将孔洞11设置得比较大以便支撑针30和加热器50能够同时通过，可见，本实用新型实施例中将多个加热器50设置为位于加热平板10的第一侧，可以减小孔洞11的面积，进而增加了待加热基板100与加热平板10的接触面积，改善了基板受热不均的问题。
可选地，加热器50包括加热电阻，可以利用加热电阻的热效应实现对支撑针30的加热。
进一步地，温控平台还包括电源和开关元件，电源、开关元件与多个加热电阻组成加热电路，图3为本实用新型实施例提供的一种加热电路的电路图，参考图2a、图2b和图3，多个加热电阻R1～R9并联后的一端通过开关元件与电源的正极连接，多个加热电阻R1～R9并联后的另一端与电源的负极连接，多个加热电阻R1～R9具有相同的电阻值，因此在通过加热电阻R1～R9对支撑针30进行加热时，保证了对多个支撑针30同时进行加热，且对多个支撑针30以同样的速度进行加热，因此便于调整支撑针30的加热程度。需要说明的是，图3中示例性地设置了与上述实施例中支撑针数量对应的9个加热电阻，并非对本实用新型的限定。
在上述各实施例的基础上，可选地，温控平台还包括位置传感器60，位置传感器60位于加热平板10的第一侧，用于检测支撑体底座20与加热平板10的第一侧平面之间的距离。位置传感器60例如可以使用激光发射器和激光接收器来实现。示例性地，可以将激光发射器和激光接收器相对设置，即激光发射器在没有遮挡的情况下正好可以接收到激光发射器发射的激光束，可以通过激光接收器接收到的激光光强大小来判断支撑体底座是否到达了指定位置遮挡了激光发射器发射的激光束。例如可以设置温控平台包括第一位置传感器和第二位置传感器，其中每个位置传感器包括一个激光发射器和一个激光接收器，可以通过第一位置传感器中激光接收器接收到的光强是否小于设定值来判断激光束是否被支撑体底座遮挡，进而判断支撑体底座与加热平板的第一侧表面之间的距离是否小于等于第一预设距离，第一预设距离具体可以结合支撑体底座的运动方向、运动速度等因素计算得到；可以通过第二传感器中激光接收器接收到的光强是否小于设定值来判断激光束是否被支撑体底座遮挡，进而判断支撑体底座与加热平板的第一侧平面之间的距离是否等于第二预设距离，第二预设距离具体可以结合支撑体底座的运动方向、运动速度等因素计算得到。
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
Claims (10)
1.一种温控平台，其特征在于，包括：
加热平板，所述加热平板具有多个孔洞，所述孔洞贯穿所述加热平板设置；
支撑体底座，所述支撑体底座位于所述加热平板的第一侧；
多个支撑针，所述支撑针的长度大于所述加热平板的厚度，且穿过所述加热平板在所述孔洞中伸缩运动，所述支撑针的第一端与所述支撑体底座固定；
制冷设备，所述制冷设备包括制冷部和传导气管；所述传导气管与所述支撑体底座和所述多个支撑针接触；
所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧表面之间的距离小于等于第一预设距离时，所述支撑针的第二端位于所述加热平板的第二侧，所述制冷设备为所述多个支撑针制冷。
2.根据权利要求1所述的温控平台，其特征在于，所述支撑体底座包括底座和框架；所述框架为网格状；所述多个支撑针固定在所述框架上，所述框架固定在所述底座上；
所述传导气管围绕所述底座设置。
3.根据权利要求1所述的温控平台，其特征在于，所述传导气管设置有通气孔，所述制冷部中设置有制冷剂；
所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧平面之间的距离小于等于第一预设距离时，所述支撑针的第二端位于所述加热平板的第二侧，所述制冷部通过所述通气孔将所述制冷剂喷洒到所述支撑体底座和所述多个支撑针上。
4.根据权利要求3所述的温控平台，其特征在于，所述制冷剂包括四氟乙烷。
5.根据权利要求1所述的温控平台，其特征在于，所述支撑体底座和所述支撑针为金属材料。
6.根据权利要求1所述的温控平台，其特征在于，所述温控平台还包括多个加热器，每一个所述加热器与每一个所述支撑针接触；
所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧平面之间的距离等于第二预设距离时，所述支撑针的第二端与所述加热平板第二侧表面平齐，所述多个加热器同时开启为所述多个支撑针加热。
7.根据权利要求6所述的温控平台，其特征在于，所述多个加热器位于所述加热平板的第一侧。
8.根据权利要求6所述的温控平台，其特征在于，所述加热器包括加热电阻。
9.根据权利要求8所述的温控平台，其特征在于，所述温控平台还包括电源和开关元件，所述电源、开关元件与所述多个加热电阻组成加热电路；
多个所述加热电阻并联后的一端通过所述开关元件与所述电源的正极连接；多个所述加热电阻并联后的另一端与所述电源的负极连接；
多个所述加热电阻具有相同的电阻值。
10.根据权利要求1所述的温控平台，其特征在于，所述温控平台还包括位置传感器，所述位置传感器位于所述加热平板的第一侧，用于检测所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧表面之间的距离。
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