CN207061252U - 一种改进型高分子施加装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及卫生用品生产设备，提供一种改进型高分子施加装置，包括机架、高分子下料器、高分子下料板、凹辊和凸辊，所述高分子下料器设于机架上部，所述高分子下料板设于高分子下料器的出料口上，所述高分子下料板上均布设有下料孔，所述凹辊的外表面设有多圈间隔平行排列的向凹辊轴心凹陷的环形凹腔，所述凸辊的外表面设有多圈间隔平行排列的由凸辊轴心向外延伸凸出外表面的环形凸圈，所述凹辊可上下调节地设于机架上位于高分子下料板下方且高分子下料板的出料孔与凹辊的环形凹腔相对应，所述凸辊可上下调节地设于机架上位于凹辊下方且凸辊的环形凸圈与凹辊的环形凹腔相适配且一一对应。本实用新型解决现有高分子施加不易控制的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及卫生用品生产设备，特别涉及一种改进型高分子施加装置。
背景技术
目前，在一次性卫生用品领域，对吸收芯体的性能要求越来越高，采用高分子占比高的芯体，吸收性能就会更好，高分子条状分布的复合芯体兼具高分子固定与液体导流所以可以具有很好的吸收性能。但是现有的高分子施加装置均采用分散式地洒于复合芯体上，从而使得高分子复合芯体存在施加的高分子结团状况以及高分子施加量控制不准的问题。
实用新型内容
因此，针对上述的问题，本实用新型提出一种结构简单、施加高分子不结团、施加的量可精准控制的改进型高分子施加装置。
为解决此技术问题，本实用新型采取以下方案：一种改进型高分子施加装置，包括机架、高分子下料器、高分子下料板、凹辊和凸辊，所述高分子下料器设于机架上部，所述高分子下料板设于高分子下料器的出料口上，所述高分子下料板上均布设有下料孔，所述凹辊的外表面设有多圈间隔平行排列的向凹辊轴心凹陷的环形凹腔，所述凸辊的外表面设有多圈间隔平行排列的由凸辊轴心向外延伸凸出外表面的环形凸圈，所述凹辊可上下调节地设于机架上位于高分子下料板下方且高分子下料板的出料孔与凹辊的环形凹腔相对应，所述凹辊内设有负压吸附机构且该负压吸附机构位于各圈环形凹腔处进行负压吸附，所述凸辊可上下调节地设于机架上位于凹辊下方且凸辊的环形凸圈与凹辊的环形凹腔相适配且一一对应。
进一步的改进，所述高分子下料板为波浪状高分子下料板且该高分子下料板的波浪状与凹辊的多圈环形凹腔相贴合，所述高分子下料板的出料孔分别布设于波浪状凹坑底部用于高分子下料。
更进一步的改进，还包括插板，所述插板可水平方向移动地设于高分子下料器的出料口与高分子下料板之间用于调节高分子下料板的出料孔的出料量。
通过采用前述技术方案，本实用新型的有益效果是：通过在高分子下料器的出料口设置下料板，并结合凹辊和凸辊设置，使得底层材料经过凹辊与凸辊对压之后，底层材料形成贴合凹辊的波浪形状，而高分子直接下料到底层材料形成的波浪形状的凹陷内，凹辊具有负压吸附，可以使底层材料持续保证凹凸形状进而使得高分子可稳定的施加，且施加的高分子不会结团，调整高分子下料板与凹辊的接触距离，可以调整高分子的施加量，通过进一步的设置，即设置插板，通过调整插板可以调整高分子下料板开口大小，进一步控制高分子施加量，进一步提高高分子施加量的精度，结构简单合理，可广泛推广应用。
附图说明
图1是本实用新型实施例的结构示意图；
图2是图1的M处放大图；
图3是本实用新型实施例的结合底层材料以及表层材料进行复合的结构示意图。
具体实施方式
现结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步说明。
参考图1-图3，优选的本实用新型的改进型高分子施加装置，包括机架、高分子下料器1、高分子下料板2、凹辊3、凸辊4和插板5，所述高分子下料器1设于机架上部，所述高分子下料板2设于高分子下料器1的出料口上，所述高分子下料板2上均布设有下料孔，所述凹辊3的外表面设有多圈间隔平行排列的向凹辊3轴心凹陷的环形凹腔31，所述凸辊4的外表面设有多圈间隔平行排列的由凸辊轴心向外延伸凸出外表面的环形凸圈41，所述高分子下料板2为波浪状高分子下料板且该高分子下料板2的波浪状与凹辊3的多圈环形凹腔31相贴合，所述高分子下料板2的出料孔分别布设于波浪状凹坑底部用于高分子下料，所述凹辊3可上下调节地设于机架上位于高分子下料板2下方且高分子下料板2的出料孔与凹辊3的环形凹腔31相对应，所述凹辊3内设有负压吸附机构且该负压吸附机构位于各圈环形凹腔31处进行负压吸附，所述凸辊4可上下调节地设于机架上位于凹辊3下方且凸辊4的环形凸圈41与凹辊3的环形凹腔31相适配且一一对应，所述插板5可水平方向移动地设于高分子下料器1的出料口与高分子下料板2之间用于调节高分子下料板2的出料孔的出料量。
本实用新型通过在高分子下料器的出料口设置下料板，并结合凹辊和凸辊设置，使得底层材料经过凹辊与凸辊对压之后，底层材料形成贴合凹辊的波浪形状，而高分子直接下料到底层材料形成的波浪形状的凹陷内，凹辊具有负压吸附，可以使底层材料持续保证凹凸形状进而使得高分子可稳定的施加，且施加的高分子不会结团，调整高分子下料板与凹辊的接触距离，可以调整高分子的施加量，通过进一步的设置，即设置插板，通过调整插板可以调整高分子下料板开口大小，进一步控制高分子施加量，进一步提高高分子施加量的精度，结构简单合理，可广泛推广应用。
尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本实用新型，但所属领域的技术人员应该明白，在不脱离所附权利要求书所限定的本实用新型的精神和范围内，在形式上和细节上可以对本实用新型做出各种变化，均为本实用新型的保护范围。
Claims (3)
1.一种改进型高分子施加装置，包括机架、高分子下料器、高分子下料板、凹辊和凸辊，其特征在于：所述高分子下料器设于机架上部，所述高分子下料板设于高分子下料器的出料口上，所述高分子下料板上均布设有下料孔，所述凹辊的外表面设有多圈间隔平行排列的向凹辊轴心凹陷的环形凹腔，所述凸辊的外表面设有多圈间隔平行排列的由凸辊轴心向外延伸凸出外表面的环形凸圈，所述凹辊可上下调节地设于机架上位于高分子下料板下方且高分子下料板的出料孔与凹辊的环形凹腔相对应，所述凹辊内设有负压吸附机构且该负压吸附机构位于各圈环形凹腔处进行负压吸附，所述凸辊可上下调节地设于机架上位于凹辊下方且凸辊的环形凸圈与凹辊的环形凹腔相适配且一一对应。
2.根据权利要求1所述的改进型高分子施加装置，其特征在于：所述高分子下料板为波浪状高分子下料板且该高分子下料板的波浪状与凹辊的多圈环形凹腔相贴合，所述高分子下料板的出料孔分别布设于波浪状凹坑底部用于高分子下料。
3.根据权利要求1或2所述的改进型高分子施加装置，其特征在于：还包括插板，所述插板可水平方向移动地设于高分子下料器的出料口与高分子下料板之间用于调节高分子下料板的出料孔的出料量。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201720667141.8U CN207061252U (zh) | 2017-06-09 | 2017-06-09 | 一种改进型高分子施加装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201720667141.8U CN207061252U (zh) | 2017-06-09 | 2017-06-09 | 一种改进型高分子施加装置 |
Publications (1)
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| CN207061252U true CN207061252U (zh) | 2018-03-02 |
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ID=61508562
Family Applications (1)
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| CN201720667141.8U Active CN207061252U (zh) | 2017-06-09 | 2017-06-09 | 一种改进型高分子施加装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN207061252U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110584883A (zh) * | 2019-10-11 | 2019-12-20 | 泉州市泰迪新材料科技有限公司 | 一种超薄吸收芯成型装置 |
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2017
- 2017-06-09 CN CN201720667141.8U patent/CN207061252U/zh active Active
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110584883A (zh) * | 2019-10-11 | 2019-12-20 | 泉州市泰迪新材料科技有限公司 | 一种超薄吸收芯成型装置 |
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