CN207042939U - 一种水质传感器清洗装置及系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种水质传感器清洗装置及系统,属于传感器清洗领域。一种水质传感器清洗装置,包括:水质传感器、清洗壳体和超声波发生器。水质传感器包括探头端。清洗壳体环设于水质传感器的外周,清洗壳体包括横向设置的第一壳体和竖向设置的第二壳体,第一壳体的两端分别与水质传感器的外壁和第二壳体连接,第二壳体与水质传感器的外侧壁具有间隙,清洗壳体面向探头端的一侧具有开口,探头端在径向上的投影可投影于清洗壳体。超声波发生器与清洗壳体面向水质传感器的一侧面连接。该水质传感器清洗装置能够改善目前水质传感器中接触式清洗装置无法长期使用的缺点。
Description
技术领域
本实用新型涉及传感器清洗领域,具体而言,涉及一种水质传感器清洗装置及系统。
背景技术
目前在开放水域或者污水的水质监测过程中,水质传感器的应用相当广泛,水质传感器在使用过程中,由于长期浸没在水下,易被藻类或者杂质附着,如果不及时清理,将影响测量精度。现有技术中,通常采用的是接触式的清洗装置,如水质传感器自带刮刷,定时清洗探头表面。
刮刷等接触式的清洗装置使用一段时间之后,由于刮刷表面的磨损,往往不能彻底将藻类或者杂质等附着物挂刷干净,造成了杂质的积累,日复一日,很快就会影响到刮刷去除杂质的效果、造成水质传感器测量不准,这个时候,就必须人为进行清理,势必增加人工作业强度。
水质传感器使用年限通常较长,在水中杂质及藻类很多的使用环境下,刮刷的使用寿命很短,几天甚至1、2天就不能正常使用。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种水质传感器清洗装置,该水质传感器清洗装置能够改善目前水质传感器中接触式清洗装置无法长期使用的缺点。
本实用新型的另一目的在于提供一种水质传感器清洗系统,其具有清洗效果好的特点。
本实用新型是这样实现的:
一种水质传感器清洗装置,包括:水质传感器、清洗壳体和超声波发生器。
水质传感器包括探头端。
清洗壳体环设于水质传感器的外周,清洗壳体包括横向设置的第一壳体和竖向设置的第二壳体,第一壳体的两端分别与水质传感器的外壁和第二壳体连接,第二壳体与水质传感器的外侧壁具有间隙,清洗壳体面向探头端的一侧具有开口,探头端在径向上的投影可投影于清洗壳体。
超声波发生器与清洗壳体面向水质传感器的一侧面连接。
进一步地,在本实用新型的一种实施例中,开口的孔径大于或等于探头端的外径。
进一步地,在本实用新型的一种实施例中,第二壳体的最大外径大于或等于开口的孔径。
进一步地,在本实用新型的一种实施例中,第二壳体为圆筒状。
进一步地,在本实用新型的一种实施例中,第二壳体的外径与水质传感器的外径之比为1.3-1.7:1。
进一步地,在本实用新型的一种实施例中,第二壳体的外径与水质传感器的外径之比为1.4-1.6:1。
进一步地,在本实用新型的一种实施例中,第二壳体为方筒状。
进一步地,在本实用新型的一种实施例中,第二壳体包括第一端和第二端,第一端与第一壳体连接,探头端在径向上的在第二壳体的投影到第二端的距离为H1,水质传感器的外径为H2,H1:H2=0.3-0.8。
进一步地,在本实用新型的一种实施例中,H1:H2=0.4-0.6。
一种水质传感器清洗系统,其包括上述的水质传感器清洗装置。
本实用新型的有益效果是:一种水质传感器清洗装置,超声波发生器一方面会发射出超声波,另一方面会产生振动。清洗壳体环设于水质传感器的外周,第二壳体与水质传感器的外侧壁具有间隙,超声波发生器产生的超声波在清洗壳体与水质传感器的反射作用下,形成环形震荡波,可以对清洗壳体与水质传感器之间的水达到较好的空化作用,破坏探头端上的杂质,使其脱落,杂质中的油污也会被乳化,从而达到较好的清洗效果。另外,超声波发生器产生的振动带动清洗壳体振动进而带动于水质传感器振动,探头端的杂质因水质传感器振动也会被清除一部分。清洗壳体面向探头端的一侧具有开口,开口的作用一方面是不影响水质传感器探头端的水流置换,另一方面不影响水质传感器的探头端的检测。能够改善目前水质传感器中接触式清洗装置无法长期使用的缺点。
一种超声波清洗系统,包括上述的超声波清洗装置,其具有较好的清洗效果。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施方式的技术方案,下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1是本实用新型实施例1提供的一种水质传感器清洗装置的结构示意图;
图2是本实用新型实施例1提供的另一种水质传感器清洗装置的结构示意图;
图3是本实用新型实施例1提供的第二壳体的结构示意图;
图4是本实用新型实施例2提供的水质传感器清洗装置的结构示意图。
图标:100-水质传感器清洗装置;110-水质传感器;111-电缆;112-探头端;113-刮刷;120-清洗壳体;121-第一壳体;122-第二壳体;122a-第一端;122b-第二端;123-开口;130-超声波发生器;200-水质传感器。
具体实施方式
为使本实用新型实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施方式中的附图,对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施方式是本实用新型一部分实施方式,而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式,都属于本实用新型保护的范围。
因此,以下对在附图中提供的本实用新型的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围,而是仅仅表示本实用新型的选定实施方式。基于本实用新型中的实施方式,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式,都属于本实用新型保护的范围。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
实施例1
本实施例提供一种水质传感器清洗装置100,请参照图1,水质传感器清洗装置100包括:水质传感器110、清洗壳体120和超声波发生器130。
水质传感器110包括位于下端的探头端112和刮刷113,探头端112一般包括光电探头,光电探头主要用于测量水质的情况,光电探头长期浸没在水下。刮刷113设置在探头端112,水质传感器110内部安装有电机(图中未示出),电机的传动轴与刮刷113传动连接,通过电机的运转可以驱动传动轴转动,进而带动刮刷113绕水质传感器110轴向转动,从而对探头端112的杂质进行清理。水质传感器110的上端引出有电缆111,该电缆111与电机电连接。
清洗壳体120环设于水质传感器110的外周,清洗壳体120包括横向设置的第一壳体121和竖向设置的第二壳体122,第一壳体121的一端与水质传感器110的外壁连接,第一壳体121的另一端与第二壳体122连接,第二壳体122与水质传感器110的外侧壁具有间隙,清洗壳体120面向探头端112的一侧具有开口123,探头端112在径向上的投影可投影于清洗壳体120。
其中,超声波发生器130与清洗壳体120面向水质传感器110的一侧面连接。另外,超声波发生器130与电缆111电连接。
通过控制超声波发生器130工作,超声波发生器130一方面会发射出超声波,另一方面会产生振动。清洗壳体120环设于水质传感器110的外周,第二壳体122与水质传感器110的外侧壁具有间隙,超声波发生器130产生的超声波在清洗壳体120与水质传感器110的反射作用下,形成环形震荡波,可以对清洗壳体120与水质传感器110之间的水作用,使得水流动产生大量的微小气泡,存在于水中的微小气泡在超声波的作用下振动,气泡在超声波纵向传播的负压区形成、生长,而在正压区,当声压达到一定值时,气泡迅速增大,然后突然闭合。并在气泡闭合时产生冲击波,在其周围产生上千个大气压,破坏探头端112上的杂质,使其脱落,杂质中的油污也会被乳化,从而达到较好的清洗效果。另外,超声波发生器130产生的振动带动清洗壳体120振动进而带动于水质传感器110振动,探头端112的杂质因水质传感器110振动也会被清除一部分。
清洗壳体120面向探头端112的一侧具有开口123,开口123的作用一方面是不影响水质传感器110的探头端112的水流置换,另一方面不影响水质传感器110的探头端112的检测。在本实施例中,开口123孔径大于或等于探头端112的外径。
请参照图1和图2,第二壳体122的最大外径大于或等于开口123的孔径。这样设置的也是为了不影响水质传感器110的探头端112的水流置换,以及不影响水质传感器110的探头端112的检测。
在本实施例中,第二壳体122为圆筒状,请参照图1和图3。在其他实施例中,第二壳体122也可以是方筒状。
第二壳体122为圆筒状时,第二壳体122的外径与水质传感器110的外径之比为1.3-1.7:1。第二壳体122的外径与水质传感器110的外径之比,也即水质传感器110与第二壳体122的间隙会影响到清洗效果。该比例情况下的水质传感器110与第二壳体122的间隙具有较好的清洗效果。优选地,第二壳体122的外径与水质传感器110的外径之比为1.4-1.6:1。
探头端112在径向上的投影可投影于清洗壳体120,第二壳体122包括第一端122a和第二端122b,第一端122a与第一壳体121连接,探头端112在径向上的在第二壳体122的投影到第二端122b的距离为H1,第二壳体122位于探头端112的下方,水质传感器110的外径为H2,H1:H2=0.3-0.8,请参照图1。
如果H1太小,即第二壳体122位于探头端112下方的距离太短,可能会影响清洗效果;如果H1太大,即第二壳体122位于探头端112下方的距离太长,则可能会影响水质传感器110的探头端112的水流置换。优选地,H1:H2=0.4-0.6。
本实施例的水质传感器清洗装置100是这样工作的,通过控制超声波发生器130工作,超声波发生器130产生的超声波在清洗壳体120与水质传感器110的反射作用下,形成环形震荡波,可以对清洗壳体120与水质传感器110之间的水达到较好的空化作用,破坏探头端112上的杂质,使其脱落,杂质中的油污也会被乳化,从而达到较好的清洗效果。超声波发生器130产生的振动带动清洗壳体120振动进而带动于水质传感器110振动,探头端112的杂质因水质传感器110振动也会被清除一部分。清洗壳体120面向探头端112的一侧具有开口123,开口123的设计一方面是不影响水质传感器110的探头端112的水流置换,另一方面不影响水质传感器110的探头端112的检测。
本实施例还提供一种水质传感器清洗系统(图中未示出),水质传感器清洗系统包括水质传感器清洗装置100和控制系统(图中未示出),控制系统与电缆111电连接。通过控制系统可控制超声波发生器130工作或停止。该水质传感器清洗系统具有清洗效果好的特点。
实施例2
本实用新型实施例所提供的水质传感器清洗装置(图中未示出),其实现原理及产生的技术效果和实施例1相同,其不同之处在于第二壳体122的形状不同为简要描述,本实施例未提及之处,可参考实施例1中相应内容。
本实施例提供一种水质传感器清洗装置(图中未示出),请参照图4,水质传感器清洗装置100包括:水质传感器110、清洗壳体120和超声波发生器130。
清洗壳体120环设于水质传感器110的外周,清洗壳体120包括横向设置的第一壳体121和竖向设置的第二壳体122,第一壳体121的一端与水质传感器110的外壁连接,第一壳体121的另一端与第二壳体122连接,第二壳体122与水质传感器110的外侧壁具有间隙,清洗壳体120面向探头端112的一侧具有开口123,探头端112在径向上的投影可投影于清洗壳体120。其中,第二壳体122的轴向有一定的弧度,例如,可以是碗状,请参照图3,也可以是空心半球壳体状请参照图4。
其中,超声波发生器130与清洗壳体120面向水质传感器110的一侧面连接。另外,超声波发生器130与电缆111电连接。该水质传感器清洗装置(图中未示出)也可以达到较好的清洗效果。
以上所述仅为本实用新型的优选实施方式而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种水质传感器清洗装置,其特征在于,包括:
水质传感器,所述水质传感器包括探头端,
清洗壳体,所述清洗壳体环设于所述水质传感器的外周,所述清洗壳体包括横向设置的第一壳体和竖向设置的第二壳体,所述第一壳体的两端分别与所述水质传感器的外壁和所述第二壳体连接,所述第二壳体与所述水质传感器的外侧壁具有间隙,所述清洗壳体面向探头端的一侧具有开口,所述探头端在径向上的投影可投影于所述清洗壳体;以及
超声波发生器,所述超声波发生器与所述清洗壳体面向所述水质传感器的一侧面连接。
2.根据权利要求1所述的水质传感器清洗装置,其特征在于,所述开口的孔径大于或等于所述探头端的外径。
3.根据权利要求1所述的水质传感器清洗装置,其特征在于,所述第二壳体的最大外径大于或等于所述开口的孔径。
4.根据权利要求1所述的水质传感器清洗装置,其特征在于,所述第二壳体为圆筒状。
5.根据权利要求4所述的水质传感器清洗装置,其特征在于,所述第二壳体的外径与所述水质传感器的外径之比为1.3-1.7:1。
6.根据权利要求5所述的水质传感器清洗装置,其特征在于,所述第二壳体的外径与所述水质传感器的外径之比为1.4-1.6:1。
7.根据权利要求1所述的水质传感器清洗装置,其特征在于,所述第二壳体为方筒状。
8.根据权利要求4或7所述的水质传感器清洗装置,其特征在于,所述第二壳体包括第一端和第二端,所述第一端与所述第一壳体连接,所述探头端在径向上的在所述第二壳体的投影到第二端的距离为H1,所述水质传感器的外径为H2,所述H1:H2=0.3-0.8。
9.根据权利要求8所述的水质传感器清洗装置,其特征在于,所述H1:H2=0.4-0.6。
10.一种水质传感器清洗系统,其特征在于,其包括权利要求1-9任一项所述的水质传感器清洗装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201720898895.4U CN207042939U (zh) | 2017-07-24 | 2017-07-24 | 一种水质传感器清洗装置及系统 |
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
CN110043709A (zh) * | 2019-04-08 | 2019-07-23 | 宣化钢铁集团有限责任公司 | 给排水用控制阀门 |
CN115156124A (zh) * | 2022-09-07 | 2022-10-11 | 苏州汉兰特激光科技有限公司 | 一种海洋光学探头自动清洗机构 |
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2017
- 2017-07-24 CN CN201720898895.4U patent/CN207042939U/zh active Active
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