CN207009480U - 一种钙钛矿薄膜后处理设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种钙钛矿薄膜后处理设备，包括溶液喷涂清洗部分和/或溶剂沉积部分，溶液喷涂清洗部分包括第一传送装置、第一密闭腔室以及溶液喷涂装置、高压气体喷嘴装置和高温干燥装置，高压气体喷嘴装置设置在溶液喷涂装置和高温干燥装置之间，第一传送装置横跨第一密闭腔室。溶剂沉积部分包括传动轴装置、第二密闭腔室以及加热装置和溶剂蒸发装置，溶剂蒸发装置靠近溶液喷涂清洗部分，传动轴装置的转动轴从上下设置的加热装置和溶剂蒸发装置之间通过。本实用新型对已制备了钙钛矿薄膜基片进行后续清洗和退火处理，对钙钛矿薄膜的缺陷进行修补处理，进一步提高钙钛矿薄膜的质量。
Description
技术领域
本实用新型属于光伏技术领域，特别涉及一种钙钛矿薄膜后处理设备。
背景技术
钙钛矿薄膜太阳能电池得到长足的发展，是因为它的核心部分钙钛矿薄膜的质量是其迅猛发展的关键所在。为了提高钙钛矿薄膜的品质（即减少薄膜内缺陷态密度、提高薄膜致密性、降低粗糙度等，最终达到提高转化效率的目的），在通过溶液沉积或真空沉积获得钙钛矿薄膜之后，现有一种普遍的做法是对其进行后处理。后处理的常见手段包括：热退火、溶剂退火、表面钝化、溶剂冲洗等。这些后处理手段尽管取得了一些效果，但是现有的设备和方法却无法满足将这些手段用到工业化生产中的需求。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于，提供一种钙钛矿薄膜后处理设备，对钙钛矿薄膜进行后处理，可以满足工业化生产的需求。
本实用新型是这样实现的，提供一种钙钛矿薄膜后处理设备，包括溶液喷涂清洗部分和/或溶剂沉积部分，所述溶液喷涂清洗部分包括可控制进出的第一密闭腔室以及设置在第一密闭腔室内的溶液喷涂装置、高压气体喷嘴装置和高温干燥装置，所述高压气体喷嘴装置设置在溶液喷涂装置和高温干燥装置之间，在所述第一密闭腔室上还设置有第一排气管道，所述溶液喷涂清洗部分还包括输送钙钛矿薄膜基片的第一传送装置，所述第一传送装置横跨所述第一密闭腔室，所述第一传送装置的传送带或传送轴设置在溶液喷涂装置、高压气体喷嘴装置和高温干燥装置的正下方；所述溶剂沉积部分包括可控制进出的第二密闭腔室以及设置在第二密闭腔室内的加热装置和溶剂蒸发装置，所述溶剂蒸发装置靠近溶液喷涂清洗部分，在所述第二密闭腔室上还设置有第二排气管道，所述溶剂沉积部分还包括横跨第二密闭腔室的传动轴装置，所述传动轴装置与第一传送装置衔接，用于传送从第一传送装置传输来的钙钛矿薄膜基片进入第二密闭腔室内，所述传动轴装置的转动轴从上下设置的加热装置和溶剂蒸发装置之间通过。
通过本实用新型的工业化的钙钛矿薄膜后处理设备，对已制备了钙钛矿薄膜的基片进行连续性生产，满足钙钛矿薄膜的基片工业化生产的需求。本实用新型的钙钛矿薄膜后处理设备可以对已制备了钙钛矿薄膜的基片进行后续清洗和退火处理，对钙钛矿薄膜的缺陷进行修补处理，进一步提高钙钛矿薄膜的质量。
与现有技术相比，本实用新型的钙钛矿薄膜后处理设备，对已制备了钙钛矿薄膜的基片进行后续清洗和退火处理，并满足钙钛矿薄膜后处理的工业化生产的需求。
附图说明
图1为本实用新型一较佳实施例的剖面示意图；
图2为使用本实用新型的钙钛矿薄膜后处理设备处理后的钙钛矿薄膜太阳能电池与没有使用本实用新型设备处理的钙钛矿薄膜太阳能电池的特性对比曲线；
图3为刚制备完的没有经过本实用新型的钙钛矿薄膜后处理设备处理的钙钛矿薄膜表面的SEM示意图；
图4为对图3的钙钛矿薄膜再经过本实用新型的钙钛矿薄膜后处理设备处理后的钙钛矿薄膜表面SEM示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
请参照图1所示，本实用新型钙钛矿薄膜后处理设备的较佳实施例，包括溶液喷涂清洗部分A和/或溶剂沉积部分B。
所述溶液喷涂清洗部分A包括输送钙钛矿薄膜基片8的第一传送装置2、可控制进出的第一密闭腔室6以及设置在第一密闭腔室6内的溶液喷涂装置3、高压气体喷嘴装置4和高温干燥装置7。所述高压气体喷嘴装置4设置在溶液喷涂装置3和高温干燥装置7之间。在所述第一密闭腔室6上还设置有第一排气管道5。所述第一传送装置2横跨所述第一密闭腔室6。所述第一传送装置2的传送带或传送轴设置在溶液喷涂装置3、高压气体喷嘴装置4和高温干燥装置7的正下方。在本实施例中，在第一密闭腔室6内设置有两套高压气体喷嘴装置4，在所述第一传送装置2的传送带或传送轴的上方和下方分别设置了高温干燥装置7。
所述溶剂沉积部分B包括传动轴装置9、可控制进出的第二密闭腔室11以及设置在第二密闭腔室11内的加热装置14和溶剂蒸发装置12，传动轴装置9横跨第二密闭腔室11，并与第一传送装置2衔接，用于传送从第一传送装置2传输来的钙钛矿薄膜基片8进入第二密闭腔室11内。所述溶剂蒸发装置12靠近溶液喷涂清洗部分A。在所述第二密闭腔室11上还设置有第二排气管道10。所述传动轴装置9的转动轴从上下设置的加热装置14和溶剂蒸发装置12之间通过。
所述溶液喷涂装置3设有喷嘴，所述喷嘴与第一传送装置2的传送带或传送轴的上下距离可调。所述溶剂蒸发装置12包括加热源和可盛放溶剂的容器。
请参照图2所示，说明了钙钛矿薄膜经过本实用新型设备的处理后，FF和Jsc都改善。请同时参照图3和图4，刚做完的钙钛矿薄膜表面有各自杂质和缺陷，如图3所示。经过后处理后，钙钛矿薄膜表面变得更加平整、更加致密，本实用新型有效地钙钛矿薄膜的缺陷进行适当地修补处理，进一步提高钙钛矿薄膜的质量，如图4所示。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种钙钛矿薄膜后处理设备，其特征在于，包括溶液喷涂清洗部分和溶剂沉积部分，所述溶液喷涂清洗部分包括可控制进出的第一密闭腔室以及设置在第一密闭腔室内的溶液喷涂装置、高压气体喷嘴装置和高温干燥装置，所述高压气体喷嘴装置设置在溶液喷涂装置和高温干燥装置之间，在所述第一密闭腔室上还设置有第一排气管道，所述溶液喷涂清洗部分还包括输送钙钛矿薄膜基片的第一传送装置，所述第一传送装置横跨所述第一密闭腔室，所述第一传送装置的传送带或传送轴设置在溶液喷涂装置、高压气体喷嘴装置和高温干燥装置的正下方；所述溶剂沉积部分包括可控制进出的第二密闭腔室以及设置在第二密闭腔室内的加热装置和溶剂蒸发装置，所述溶剂蒸发装置靠近溶液喷涂清洗部分，在所述第二密闭腔室上还设置有第二排气管道，所述溶剂沉积部分还包括横跨第二密闭腔室的传动轴装置，所述传动轴装置与第一传送装置衔接，用于传送从第一传送装置传输来的钙钛矿薄膜基片进入第二密闭腔室内，所述传动轴装置的转动轴从上下设置的加热装置和溶剂蒸发装置之间通过。
2.如权利要求1所述的钙钛矿薄膜后处理设备，其特征在于，所述溶液喷涂装置设有喷嘴，所述喷嘴与第一传送装置的传送带或传送轴的上下距离可调。
3.如权利要求1所述的钙钛矿薄膜后处理设备，其特征在于，所述溶剂蒸发装置包括加热源和可盛放溶剂的容器。
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