CN206997245U - 一种基板清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及显示设备技术领域，公开了一种基板清洗装置，该基板清洗装置包括：基台，基台设有用于承载基板的承载面；可相对于基台沿与承载面平行的方向移动的清洗头，清洗头具有至少一个正压腔室和至少一个负压腔室，正压腔室的开口朝向承载面以向放置于承载面的基板喷射清洁气体；负压腔室的开口朝向承载面以吸取进行清洁后的气体；连接正压腔室和负压腔室的管路组件，管路组件上设有风机和过滤组件。上述基板清洗装置，能够有效的将基板上由于测量及检测造成的异物去除，使得基板表面的洁净度得到提高，从而有效地减少产品的次品率，提高生产效率。

Description

一种基板清洗装置

技术领域

本实用新型涉及显示设备技术领域，特别涉及一种基板清洗装置。

背景技术

在液晶显示装置中，为了得到均匀的亮度和高的对比度,而必须使液晶板内的液晶分子按一定方向排列。在这个液晶显示装置的液晶盒制造技术中，PI(Polyimide，聚酰亚胺)膜是由取向膜印刷机通过转印版将取向膜印刷在TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)和彩色滤光片基板上，然后固化成膜的。

假如在PI膜固化成膜、检测及测量完成后，没有及时的将积累的灰尘或异物清洁，后续生产出的产品将会在盒内产生异物，并且造成损失。因此，每次清洁时人员通过蘸有乙醇的无尘布，针对有异物的位置进行清洁，并通过肉眼观测来判断是否擦干净。

总之，该检测以及清洁方式存在诸多不足之处：1、清洁设备时，内部空间比较小，人员操作比较麻烦并且清洁效果不佳；2.基板进入设备进行检测因为时间比较长，避免不了产生异物，现有设备无法解决并且人员难以发现；3.内部设备两侧没有静电消除器，检测过程中会产生静电；4.每次进入设备的基板一定会产生异物(在现场无法解决)，只有到检测端进行检测时才会发现并做出调查，在此期间生产的大量的产品极有可能不良；5.人员在宏观和微观检测时设备震动比较大会产生异物。

实用新型内容

本实用新型提供了一种基板清洗装置，该基板清洗装置可对基板表面的灰尘以及异物进行清洁，从而提高成品的合格率，提高生产效率。

为达到上述目的，本实用新型提供以下技术方案：

一种基板清洗装置，包括：

基台，所述基台设有用于承载基板的承载面；

可相对于所述基台沿与所述承载面平行的方向移动的清洗头，所述清洗头具有至少一个正压腔室和至少一个负压腔室，所述正压腔室的开口朝向所述承载面以向放置于所述承载面的基板喷射清洁气体；所述负压腔室的开口朝向所述承载面以吸取进行清洁后的气体；

连接所述正压腔室和负压腔室的管路组件，所述管路组件上设有风机和过滤组件。

本实用新型提供一种基板清洗装置，上述基板清洗装置包括基台和可相对于基台、沿与基台的承载面平行的方向移动的清洗头。由于连接正压腔室与负压腔室的管路组件上设有风机，当基板置于基台的承载面，风机开启后，正压腔室向放置于承载面的基板喷射清洁气体，负压腔室吸取清洗头与基板背离基台承载面一侧空间内的进行清洁后的气体，该气体以及基板上的部分灰尘以及异物在强吸力的作用下进入负压腔室，并依次流经负压腔室出风口、风机进风口、风机出风口、正压腔室进风口进入正压腔室，并再次经正压腔室的开口排出。在该过程中位于正压腔室与负压腔室之间的过滤组件对负压腔室吸入的气体携带的灰尘以及异物进行过滤，去除基板背离基台一侧表面附着的灰尘及异物，提高清洗效率。上述基板清洗装置，能够有效的将基板上由于测量及检测造成的异物去除，使得基板表面的洁净度得到提高，从而有效地减少产品的次品率，提高生产效率。

因此，上述基板清洗装置可对基板表面的灰尘以及异物进行清洁，从而提高成品的合格率，提高生产效率。

进一步地，所述正压腔室的开口处设置有超声波发生器。

进一步地，所述过滤组件包括设置于所述负压腔室与所述风机的进风口之间的预过滤器和设置于所述风机的出风口与所述正压腔室之间的高效过滤器。

进一步地，沿所述清洗头的行进方向，每一个所述正压腔室的前后均设置有一个负压腔室。

进一步地，所述清洗头包括一个清洗头本体，所述清洗头本体内设有沿与所述清洗头行进方向垂直、且与所述承载面平行的方向排列的多个正压腔，所述清洗头本体内设置有第一管路、与所述第一管路连通且与所述正压腔室一一对应的第一支管路，且所述第一管路与所述风机的出风口连接，且每一个所述正压腔室与所述第一管路之间通过对应的第一支管路连接。

进一步地，所述管路组件中处于所述风机与所述清洗头之间的部位包括与所述正压腔室一一对应的管路，每一个所述正压腔室之间通过对应的管路连接。

进一步地，所述基板清洗装置还包括设置于所述基台的承载面一侧的防静电装置。

进一步地，所述基板清洗装置还包括用于控制所述清洗头动作的控制单元，所述控制单元控制所述清洗头动作。

进一步地，所述控制单元包括设置于所述基台的承载面一侧、且用于检测所述承载面上承载的基板表面的洁净程度的显微镜机组。

进一步地，所述控制单元还包括设置于所述基台的承载面一侧的原点传感器，所述原点传感器用于确定所述基板清洗装置的起始位置。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的基板清洗装置结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的基板清洗装置的清洗原理示意图

图3本实用新型实施例提供的基板清洗装置循环主视图；

图4为本实用新型实施例提供的基板清洗装置中清洗头结构示意图。

图标：1-基台；2-清洗头；21-正压腔室；22-负压腔室；23-超声波发生器；3-风机；4-防静电装置；5-传动链；6-升降顶针；7-对位顶针；8-显微镜机组；9-原点传感器。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参考图1，本实用新型提供一种基板清洗装置，包括：

基台1，基台1设有用于承载基板的承载面；

可相对于基台1沿与承载面平行的方向移动的清洗头2，清洗头2具有至少一个正压腔室21和至少一个负压腔室22，正压腔室21的开口朝向承载面以向放置于承载面的基板喷射清洁气体；负压腔室22的开口朝向承载面以吸取进行清洁后的气体；

连接正压腔室21和负压腔室22的管路组件，管路组件上设有风机3和过滤组件。

本实用新型提供一种基板清洗装置，上述基板清洗装置包括基台1和可相对于基台1、沿与基台1的承载面平行的方向移动的清洗头2。由于连接正压腔室21与负压腔室22的管路组件上设有风机3，当基板置于基台1的承载面，风机3开启后，正压腔室21向放置于承载面的基板喷射清洁气体，负压腔室22吸取清洗头2与基板背离基台1承载面一侧空间内的进行清洁后的气体，该气体以及基板上的部分灰尘以及异物在强吸力的作用下进入负压腔室22，并依次流经负压腔室22出风口、风机3进风口、风机3出风口、正压腔室21进风口进入正压腔室21，并再次经正压腔室21的开口排出。在该过程中位于正压腔室21与负压腔室22之间的过滤组件对负压腔室22吸入的气体携带的灰尘以及异物进行过滤，去除基板背离基台1一侧表面附着的灰尘及异物，提高清洗效率。上述基板清洗装置，能够有效的将基板上由于测量及检测造成的异物去除，使得基板表面的洁净度得到提高，从而有效地减少产品的次品率，提高生产效率。

因此，上述基板清洗装置可对基板表面的灰尘以及异物进行清洁，从而提高成品的合格率，提高生产效率。

在上述技术方案的基础上，作为一种优选实施方式，正压腔室21的开口处设置有超声波发生器23。

需要说明的是，负压腔室22吸取基板清洗装置与基板背离基台1一侧空间内的清洁后的气体，该处气体以及基板上的部分灰尘以及异物在强吸力的作用下进入负压腔室22，并依次流经负压强势出风口、风机3进风口、风机3出风口、正压腔室21进风口进入正压腔室21，并再次经正压腔室21的出口排出。在该过程中位于正压腔室21内部的超声波发生器23产生超声波，由于超声波发生器23具有扫频功能，则通过在清洗过程中超声波频率在合理的范围内往复扫动，可带动从正压腔室21的出口排出的清洁气体形成细微回流，从而使基板背离基台1一侧表面附着的异物在被超声剥离的同时迅速带离工件表面，提高清洗效率。

在上述技术方案的基础上，过滤组件包括设置于负压腔室22与风机3的进风口之间的预过滤器和设置于风机3的出风口与正压腔室21之间的高效过滤器。

需要说明的是，请参考图2，负压腔室22的开口吸取的清洁后的气体携带灰尘以及异物，该气体通过负压腔室22与风机3进风口之间的预过滤器时，气体携带的灰尘和异物被预过滤器过滤，预过滤器实现对气体的初次过滤，减少气体中所携带的灰尘以及异物含量，从而使得从风机3的出风口输出的气体相对洁净。

之后，在正压腔室21与风机3之间设置的高效过滤器使得经预过滤器进行初次过滤的气体在进入正压腔室21前被高效过滤器再次过滤，高效过滤器进一步提升气体的清洁程度，从而使得经正压腔室21出风口排出的用于清洁基板表面的气体保持较高的清洁程度。

具体地，该结构使得整个气体循环过程中，异物与灰尘始终处于被预过滤器以及高效过滤器过滤排除的状态。该实施方式可加快本实用新型提供的基板清洗装置的清洁速度。

需要说明的是，优选的，高效过滤器置于正压腔室21的内部。

在上述技术方案的基础上，请参考图3，沿清洗头2的行进方向，每一个正压腔室21的前后均设置有一个负压腔室22。

需要说明的是，在清洗头2行进过程中，正压腔室21喷出洁净的气体清洁基板，基板表面的异物以及灰尘被吸入负压腔室22内部。沿清洗头2的行进方向，正压腔室21的前后均设置一个负压腔室22的结构，使得正压腔室21吹出的清洁基板表面后的携带灰尘以及异物的气体尽可能的被负压腔室22吸入，可加快基板清洗装置对基板的清洗速度。

需要说明的是，正压腔室21与风机3之间管路连接的结构形式存在多种可能，具体至少为以下几种结构中的一种:

结构一：请参考图4，清洗头2包括一个清洗头2本体，清洗头2本体内设有沿与清洗头2行进方向垂直、且与承载面平行的方向排列的多个正压腔，清洗头2本体内设置有第一管路、与第一管路连通且与正压腔室21一一对应的第一支管路，且第一管路与风机3的出风口连接，且每一个正压腔室21与第一管路之间通过对应的第一支管路连接。

需要说明的是，结构一中技术方案采用第一管路与风机3的出风口连接的形式，使得风机3的出风口输出的风全部进入第一管路，第一管路通过与其连通的多根第一支管路将管路内部的风进一步输出至与每根第一支管路一一对应连接的正压腔室21内，从而实现管路内部气体的分流。

上述结构减少了对管路的需求，从而减少了管路所占空间，使得整个装置的结构更加紧凑，便于整个装置的小型化设置。

结构二：管路组件中处于风机3与清洗头2之间的部位包括与正压腔室21一一对应的管路，每一个正压腔室21之间通过对应的管路连接。

具体地，结构二中技术方案将风机3与每一个正压腔室21之间通过管路连接，即风机3的出风口输出的风在风机3的出风口处被分流至每根管路，每根管路将风输送至与其一一对应的正压腔室21内。

需要说明的是，结构二中技术方案使得风机3的出风口输出至每根管路的风量均匀，即进入每个正压腔室21内的风量均匀，利于多个正压腔室21出风口输出的风量大小及力度相近，使得本实用新型提供的基板清洗装置在清洗基板表面的灰尘以及异物时，整个清洗头2内的至少一个正压腔室21出风口喷出的气体对基板各处的清洗力度相同，从而使得清洗头2在行进过程中均匀地清洁基板表面。

在上述技术方案的基础上，请继续参考图1，本实用新型提供的基板清洗装置还包括设置于基台1的承载面一侧的防静电装置4。

在上述技术方案的基础上，请继续参考图1，本实用新型提供的基板清洗装置还包括设在基台1表面相对设置的传动装置，清洗头2通过传动装置沿基台1的延伸方向动作。

需要说明的是，清洗头2通过传动装置在基台1上移动、清洗基板表面。

优选的，传动装置为传动链5。请继续参考图1，本实用新型提供的基板清洗装置中的清洗头2通过传动链5沿基台1的延伸方向动作，实现对基台1表面基板的清洁。

需要说明的是，请继续参考图1，上述基台1上设置有用于支撑基板的升降顶针6和用于校准基板放置位置的对位顶针7。

在上述技术方案的基础上，作为一种优选实施方式，基板清洗装置还包括用于控制清洗头2动作的控制单元，控制单元控制清洗头2动作。

当基板置于基台1上，控制单元检测基板背离基台1一侧表面清洁程度，当基板背离基台1一侧表面存在灰尘或者异物，控制单元开启驱动装置，驱动装置驱动清洗头2。

上述基板清洗装置采用控制单元控制清洗头2，使得整个装置对基板表面的检测与清洁工作连接紧密，提高了工序的连续性，可以提高生产效率。

在上述技术方案的基础上，请继续参考图1，控制单元包括设置于基台1的承载面一侧、且用于检测承载面上承载的基板表面的洁净程度的显微镜机组8。

在上述技术方案的基础上，请继续参考图1，本实用新型提供的控制单元还包括设置于基台1的承载面一侧的原点传感器9，原点传感器9用于确定基板清洗装置的起始位置。

需要说明的是，控制单元还包括用于控制清洗头2的编程程序。

上述基板清洗装置在使用时的具体操作如下：

a.首先在正常测量及检测完基板时，设备通过编程程序使清洗头2在起始位置开始准备运行。

b.通过驱动装置驱使清洗头2由初始端移动到基板的另一端，同时清洗头2进行清洁基板操作，使得基板上的异物与灰尘得到清除；同时在清洁过程的上方及基台1边缘安置有防静电装置4使基板表面的静电得以消除。

c.设备清洗头2运行到达基板的另一端时再返回重复刚才的动作，最终回到起始位置。

d.退出编程程序，设备清洁完成，基板正常排出。

显然，本领域的技术人员可以对本实用新型实施例进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种基板清洗装置，其特征在于，包括：

基台，所述基台设有用于承载基板的承载面；

可相对于所述基台沿与所述承载面平行的方向移动的清洗头，所述清洗头具有至少一个正压腔室和至少一个负压腔室，所述正压腔室的开口朝向所述承载面以向放置于所述承载面的基板喷射清洁气体；所述负压腔室的开口朝向所述承载面以吸取进行清洁后的气体；

连接所述正压腔室和负压腔室的管路组件，所述管路组件上设有风机和过滤组件。

2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述正压腔室的开口处设置有超声波发生器。

3.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述过滤组件包括设置于所述负压腔室与所述风机的进风口之间的预过滤器和设置于所述风机的出风口与所述正压腔室之间的高效过滤器。

4.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，沿所述清洗头的行进方向，每一个所述正压腔室的前后均设置有一个负压腔室。

5.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述清洗头包括一个清洗头本体，所述清洗头本体内设有沿与所述清洗头行进方向垂直、且与所述承载面平行的方向排列的多个正压腔，所述清洗头本体内设置有第一管路、与所述第一管路连通且与所述正压腔室一一对应的第一支管路，且所述第一管路与所述风机的出风口连接，且每一个所述正压腔室与所述第一管路之间通过对应的第一支管路连接。

6.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，所述管路组件中处于所述风机与所述清洗头之间的部位包括与所述正压腔室一一对应的管路，每一个所述正压腔室之间通过对应的管路连接。

7.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，还包括设置于所述基台的承载面一侧的防静电装置。

8.根据权利要求1-7任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，还包括用于控制所述清洗头动作的控制单元，所述控制单元控制所述清洗头动作。

9.根据权利要求8所述的基板清洗装置，其特征在于，所述控制单元包括设置于所述基台的承载面一侧、且用于检测所述承载面上承载的基板表面的洁净程度的显微镜机组。

10.根据权利要求8所述的基板清洗装置，其特征在于，所述控制单元还包括设置于所述基台的承载面一侧的原点传感器，所述原点传感器用于确定所述基板清洗装置的起始位置。