CN206921783U - 一种用于测试非导电样品表面形貌的电镜平台 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于测试非导电样品表面形貌的电镜平台，包括测试平台和设置于所述测试平台底部的底座，所述测试平台和所述底座之间设置有弹性件，所述测试平台上倒扣设置有底部开口的筒形的蒙盖，所述蒙盖的侧壁与所述底座可拆卸连接，所述测试平台的顶面和所述蒙盖的内部顶面中的一个设置有用于放置样品的样品放置结构，所述蒙盖的顶面开设有样品观察口，所述样品观察口对应并连通所述样品放置结构。该用于测试非导电样品表面形貌的电镜平台，测试时无需导电胶固定样品，能够极大改善图片质量、解决“黑纹”和“漂移”的问题，避免损坏样品。

Description

一种用于测试非导电样品表面形貌的电镜平台

技术领域

本实用新型涉及非导电样品测试设备技术领域，尤其涉及一种用于测试非导电样品表面形貌的电镜平台。

背景技术

现有技术中，扫描电镜是一种样品制备简单、分辨高、综合分析能力强的测试分析设备，已广泛应用于各类材料的表面和截面微观分析。在做一些测试时，固定样品通常使用导电胶，但是众所周知，不管是导电胶带还是导电胶水，使用的均是有机物质中间掺导电颗粒制成，所以导电性能不是很好，这导致在测试半导体，如硅，这种类型的样品时经常出现“黑纹”“污染”“漂移”等现象，这些现象极大的降低了图片质量。另外，采用导电胶粘在平台上，在测试后取下样品时，难免会损坏样品。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种用于测试非导电样品表面形貌的电镜平台，测试时无需导电胶固定样品，能够极大改善图片质量、解决“黑纹”和“漂移”的问题，避免损坏样品。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种用于测试非导电样品表面形貌的电镜平台，包括测试平台和设置于所述测试平台底部的底座，所述测试平台和所述底座之间设置有弹性件，所述测试平台上倒扣设置有底部开口的筒形的蒙盖，所述蒙盖的侧壁与所述底座可拆卸连接，所述测试平台的顶面和所述蒙盖的内部顶面中的一个设置有用于放置样品的样品放置结构，所述蒙盖的顶面开设有样品观察口，所述样品观察口对应并连通所述样品放置结构。

作为一种优选方式，所述测试平台、所述底座及所述弹性件均可导电。

作为一种优选方式，所述蒙盖可导电，所述蒙盖的内侧的径向尺寸与所述底座的外侧的径向尺寸相适应。

作为一种优选方式，所述样品放置结构为设置于所述测试平台的顶面且外形与样品相适应的平台凹槽，所述平台凹槽的径向尺寸大于样品的径向尺寸，所述平台凹槽的深度小于样品的厚度。

作为一种优选方式，所述样品观察口的径向尺寸小于样品的径向尺寸，所述样品观察口的中心与所述平台凹槽的中心对齐。

作为一种优选方式，所述样品放置结构为设置于所述蒙盖的内部顶面且外形与样品相适应的蒙盖凹槽，所述蒙盖凹槽的径向尺寸大于样品的径向尺寸，所述蒙盖凹槽的深度小于样品的厚度。

作为一种优选方式，所述样品观察口的径向尺寸小于样品的径向尺寸，所述样品观察口的中心与所述蒙盖凹槽的中心对齐。

作为一种优选方式，所述样品放置结构为设置于所述测试平台的顶面且外形与样品相适应的平台凹槽和设置于所述蒙盖的内部顶面且外形与样品相适应的蒙盖凹槽，所述平台凹槽的径向尺寸、所述蒙盖凹槽的径向尺寸均大于样品的径向尺寸，所述平台凹槽的深度、所述蒙盖凹槽的深度均小于样品的厚度的一半。

作为一种优选方式，所述样品观察口的径向尺寸小于样品的径向尺寸，所述样品观察口的中心与所述平台凹槽的中心、所述蒙盖凹槽的中心对齐。

作为一种优选方式，所述蒙盖的侧部开设有蒙盖连接孔，所述底座的侧部开设有底座连接孔，卡槽栓依次穿过所述蒙盖连接孔、所述底座连接孔中，以实现所述蒙盖与所述底座的连接。

本实用新型的用于测试非导电样品表面形貌的电镜平台，其将样品放置在测试平台或蒙盖上的样品放置结构处，并夹持于测试平台和蒙盖之间，并在观察口处观察样品表面形貌，利用弹性件很好地实现弹性缓冲，从而在蒙盖与底座连接时，蒙盖给予样品挤压力，该挤压力在弹性件的作用下成为柔性挤压，能够避免损坏样品，这种固定方式很好地解决了现有技术中采用导电胶固定样品的缺陷，在测试时无需导电胶固定样品，使得样品固定稳定，能够极大改善图片质量、解决“黑纹”和“漂移”的问题。

附图说明

图1是本实用新型提供的电镜平台的剖面结构示意图；

图2是本实用新型提供的电镜平台在移除蒙盖和卡槽栓后的结构示意图；

图3是本实用新型提供的测试平台的结构示意图；

图4是本实用新型提供的蒙盖的立体结构示意图；

图5是本实用新型提供的蒙盖的俯视结构示意图。

图中：100-样品；

1-测试平台；11-平台凹槽；2-底座；21-底座连接孔；3-弹性件；4-蒙盖；41-样品观察口；42-蒙盖连接孔；5-卡槽栓。

具体实施方式

下面结合附图1-5并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。

如图1至图5所示，一种用于测试非导电样品表面形貌的电镜平台，包括测试平台1和设置于所述测试平台1底部的底座2，所述测试平台1和所述底座2之间设置有弹性件3，所述测试平台1上倒扣设置有底部开口的筒形的蒙盖4，所述蒙盖4的侧壁与所述底座2可拆卸连接，所述测试平台1的顶面和所述蒙盖4的内部顶面中的一个设置有用于放置样品100的样品放置结构，所述蒙盖4的顶面开设有样品观察口41，所述样品观察口41对应并连通所述样品放置结构。

具体地，所述蒙盖4的侧部开设有蒙盖连接孔42，所述底座2的侧部开设有底座连接孔21，卡槽栓5依次穿过所述蒙盖连接孔42、所述底座连接孔21中，以实现所述蒙盖4与所述底座2的连接。该卡槽栓5为T型结构，利用竖直部分插入所述蒙盖连接孔42、所述底座连接孔21中，横向部分卡于所述蒙盖连接孔42的外侧，从而在径向上固定蒙盖和底座，需要拆卸时，通过横向部分拉出即可。

优选的，在本实施例中，所述测试平台1、所述底座2及所述弹性件3均可导电。因此，当样品100放置在样品放置结构处时，受到样品放置结构的限制，不会跑偏；同时，其能够实现样品100的底面与测试平台接触，极大地提高了接触面积，更好地提升导电性能。

进一步地，在蒙盖4与底座2连接后，由于受到蒙盖4的挤压力，使得弹性件被压缩，这时弹性件本身的导电性能提升，进而保证弹性件与测试平台1和底座2之间的导电性能。优选的，弹性件3为弹簧。

更进一步地，所述蒙盖4可导电，所述蒙盖4的内侧的径向尺寸与所述底座2的外侧的径向尺寸相适应。这时，通过各个方向的可导电性，更有利于保证导电性能。

作为一种优选方式，所述样品放置结构为设置于所述测试平台1的顶面且外形与样品100相适应的平台凹槽11，所述平台凹槽11的径向尺寸大于样品100的径向尺寸，所述平台凹槽11的深度小于样品100的厚度。所述样品观察口41的径向尺寸小于样品100的径向尺寸，所述样品观察口41的中心与所述平台凹槽11的中心对齐。这时，样品位于平台凹槽11中，且样品100的边缘被压于蒙盖4的观察口的边缘之下，因而样品不仅受到径向的限位，在竖向方向上也受到蒙盖4的限制，避免从观察口掉出。这种情况下，直接把样品100放置在平台凹槽11中，然后将蒙盖4倒扣于测试平台1上，通过挤压，使弹性件压缩，再将蒙盖4与底座2固定，这时，样品100就被放置于蒙盖与测试平台之间。

在本实施例中，所述平台凹槽11的深度为100-150μm。例如，平台凹槽11的深度可以为100μm、102μm、105μm、108μm、110μm、113μm、116μm、117μm、120μm、124μm、128μm、130μm、131μm、132μm、135μm、138μm、139μm、140μm、142μm、145μm、147μm、148μm、149μm或150μm。

作为另一种优选方式，所述样品放置结构为设置于所述蒙盖4的内部顶面且外形与样品100相适应的蒙盖凹槽，所述蒙盖凹槽的径向尺寸大于样品100的径向尺寸，所述蒙盖凹槽的深度小于样品100的厚度。所述样品观察口41的径向尺寸小于样品100的径向尺寸，所述样品观察口41的中心与所述蒙盖凹槽的中心对齐。这时，样品位于蒙盖凹槽中，且样品100的边缘被压于蒙盖4的观察口的边缘之下，因而样品不仅受到径向的限位，在竖向方向上也受到蒙盖4的限制，避免从观察口掉出。这种情况下，先把蒙盖4的底部开口朝上设置，使蒙盖凹槽朝上，将样品100放置于蒙盖凹槽中后，将测试平台倒立于蒙盖4中，通过挤压，使得弹性件3压缩，再将蒙盖4与底座2固定连接，然后将整个装置颠倒使其竖直朝上设置，这时，样品100就被放置于蒙盖与测试平台之间。

在本实施例中，所述蒙盖凹槽的深度为100-150μm。例如，蒙盖凹槽的深度可以为100μm、102μm、104μm、108μm、110μm、113μm、116μm、117μm、120μm、124μm、128μm、130μm、131μm、132μm、135μm、138μm、139μm、140μm、142μm、145μm、147μm、148μm、149μm或150μm。

作为再一种优选方式，所述样品放置结构为设置于所述测试平台1的顶面且外形与样品100相适应的平台凹槽11和设置于所述蒙盖4的内部顶面且外形与样品100相适应的蒙盖凹槽，所述平台凹槽11的径向尺寸、所述蒙盖凹槽的径向尺寸均大于样品100的径向尺寸，所述平台凹槽11的深度、所述蒙盖凹槽的深度均小于样品100的厚度的一半。所述样品观察口41的径向尺寸小于样品100的径向尺寸，所述样品观察口41的中心与所述平台凹槽11的中心、所述蒙盖凹槽的中心对齐。这时，样品位于平台凹槽11和蒙盖凹槽中，且样品100的边缘被压于蒙盖4的观察口的边缘之下，因而样品不仅受到径向的限位，在竖向方向上也受到蒙盖4的限制，避免从观察口掉出。这种情况下，直接把样品100放置在平台凹槽11中，然后将蒙盖4倒扣于测试平台1上，使得样品100的上部位于蒙盖凹槽中，通过挤压，使弹性件压缩，再将蒙盖4与底座2固定，这时，样品100就被放置于蒙盖与测试平台之间。

在本实施例中，所述平台凹槽11的深度和所述蒙盖凹槽的深度为50-75μm。例如，平台凹槽11和蒙盖凹槽的深度可以为50μm、51μm、52μm、53μm、54μm、55μm、56μm、57μm、58μm、59μm、60μm、61μm、62μm、63μm、64μm、65μm、66μm、67m、68μm、69μm、70μm、71μm、72μm、73μm、74μm或150μm。

在上述结构的基础上，由于平台凹槽11的深度和蒙盖凹槽的深度均小于样品100的厚度，由此可以看出，当样品100夹持于蒙盖4和测试平台1之间时，样品100的顶面与蒙盖4充分接触，样品100的底面与测试平台1充分接触，这样不仅保证了各个方向的接触面积，而且极大提高了导电性。

需要说明的是，本实施例中，径向尺寸是指从某个部件(如样品)的中心位置水平向外侧边缘的方向，其与部件(如样品)的厚度方向垂直设置。

综上所述，本实用新型的电镜平台，具有如下优势：

1、在使用时，无需导电胶水或胶带，减少了接触电阻，改善了图片质量；

2、无需使用导电胶带或导电胶水，减少了成本；

3、其属于非破坏性测试，测试后样品保持完整，有利于多次测试。

以上结合具体实施例描述了本实用新型的技术原理。这些描述只是为了解释本实用新型的原理，而不能以任何方式解释为对本实用新型保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本实用新型的其它具体实施方式，这些方式都将落入本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于测试非导电样品表面形貌的电镜平台，其特征在于，包括测试平台(1)和设置于所述测试平台(1)底部的底座(2)，所述测试平台(1)和所述底座(2)之间设置有弹性件(3)，所述测试平台(1)上倒扣设置有底部开口的筒形的蒙盖(4)，所述蒙盖(4)的侧壁与所述底座(2)可拆卸连接，所述测试平台(1)的顶面和所述蒙盖(4)的内部顶面中的一个设置有用于放置样品(100)的样品放置结构，所述蒙盖(4)的顶面开设有样品观察口(41)，所述样品观察口(41)对应并连通所述样品放置结构。

2.根据权利要求1所述的电镜平台，其特征在于，所述测试平台(1)、所述底座(2)及所述弹性件(3)均可导电。

3.根据权利要求2所述的电镜平台，其特征在于，所述蒙盖(4)可导电，所述蒙盖(4)的内侧的径向尺寸与所述底座(2)的外侧的径向尺寸相适应。

4.根据权利要求1所述的电镜平台，其特征在于，所述样品放置结构为设置于所述测试平台(1)的顶面且外形与样品(100)相适应的平台凹槽(11)，所述平台凹槽(11)的径向尺寸大于样品(100)的径向尺寸，所述平台凹槽(11)的深度小于样品(100)的厚度。

5.根据权利要求4所述的电镜平台，其特征在于，所述样品观察口(41)的径向尺寸小于样品(100)的径向尺寸，所述样品观察口(41)的中心与所述平台凹槽(11)的中心对齐。

6.根据权利要求1所述的电镜平台，其特征在于，所述样品放置结构为设置于所述蒙盖(4)的内部顶面且外形与样品(100)相适应的蒙盖凹槽，所述蒙盖凹槽的径向尺寸大于样品(100)的径向尺寸，所述蒙盖凹槽的深度小于样品(100)的厚度。

7.根据权利要求6所述的电镜平台，其特征在于，所述样品观察口(41)的径向尺寸小于样品(100)的径向尺寸，所述样品观察口(41)的中心与所述蒙盖凹槽的中心对齐。

8.根据权利要求1所述的电镜平台，其特征在于，所述样品放置结构为设置于所述测试平台(1)的顶面且外形与样品(100)相适应的平台凹槽(11)和设置于所述蒙盖(4)的内部顶面且外形与样品(100)相适应的蒙盖凹槽，所述平台凹槽(11)的径向尺寸、所述蒙盖凹槽的径向尺寸均大于样品(100)的径向尺寸，所述平台凹槽(11)的深度、所述蒙盖凹槽的深度均小于样品(100)的厚度的一半。

9.根据权利要求8所述的电镜平台，其特征在于，所述样品观察口(41)的径向尺寸小于样品(100)的径向尺寸，所述样品观察口(41)的中心与所述平台凹槽(11)的中心、所述蒙盖凹槽的中心对齐。

10.根据权利要求1-9任一项所述的电镜平台，其特征在于，所述蒙盖(4)的侧部开设有蒙盖连接孔(42)，所述底座(2)的侧部开设有底座连接孔(21)，卡槽栓(5)依次穿过所述蒙盖连接孔(42)、所述底座连接孔(21)中，以实现所述蒙盖(4)与所述底座(2)的连接。