CN206902234U - 一种基于lpcvd预热腔的加热装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种基于LPCVD预热腔的加热装置，加热装置设置在预热腔内，用于加热玻璃基板，加热装置包括：温度采集器、加热模块及与加热模块连接的控制器，其中，温度采集器，与控制器连接，用于采集加热模块的温度，加热模块包括若干横向控温区和若干纵向控温区，各横向控温区和各纵向控温区分别设置有碳中波红外灯管；各横向控温区的各碳中波红外灯管与预热腔的开口处的横截面垂直；各纵向控温区的各碳中波红外灯管与预热腔的开口处的横截面平行；且与玻璃基板的翘曲部位置对应的纵向控温区的碳中波红外灯管的形状与翘曲部的翘曲度匹配。本实用新型提供的加热装置，能够给存在翘曲部的玻璃基板均匀加热。
Description
技术领域
本实用新型涉及LPCVD预热领域，特别是涉及一种基于LPCVD预热腔的加热装置。
背景技术
随着环境污染引起的温室效应问题日益严重，人们也越来越认识到环境保护的重要性，同时人们对能源的需求也在逐年递增，能源危机也在日益临近，使用清洁能源已被各国政府和组织提上了议事日程。现在各国都在大力发展清洁能源，光伏应用作为新能源应用的一个重要组成部分，正逐渐被人们所重视，这就为光伏应用提供了非常广阔的市场前景和机遇。
目前光伏产业的发展，关键取决于如何降低太阳能电池的生产成本。铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳电池具有生产成本低、污染小、不衰退、弱光性能好等特点，光电转换效率居各种薄膜太阳能电池之首，接近晶体硅太阳能电池，而成本则是晶体硅太阳能电池的三分之一，被国际上称为“下一时代非常有前途的新型薄膜太阳能电池”。此外，该电池具有柔和、均匀的黑色外观，是对外观有较高要求场所的理想选择，如大型建筑物的玻璃幕墙等，在现代化高层建筑等领域有很大市场。
玻璃基板在镀完CIGS膜层后会产生一定程度的翘曲变形，但是现有的LPCVD加热设备中，红外加热所采用是普通直形灯管，会使基板翘曲部分与其他部分温差加大，从而影响玻璃基板温度的均匀性，甚至在加热升温过快时导致基板碎裂。因此，如何提供一种LPCVD加热装置，能够给存在翘曲部的玻璃基板均匀加热，成为本领域技术人员亟需解决的技术问题。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种基于LPCVD预热腔的加热装置，能够给存在翘曲部的玻璃基板均匀加热。
为实现上述目的，本实用新型提供了如下方案：
一种基于LPCVD预热腔的加热装置，所述加热装置设置在预热腔内，用于加热玻璃基板，所述加热装置包括：温度采集器、加热模块及与所述加热模块连接的控制器，其中，
所述温度采集器，与所述控制器连接，用于采集所述加热模块的温度；
所述加热模块包括若干横向控温区和若干纵向控温区，各所述横向控温区和各所述纵向控温区分别设置有碳中波红外灯管；
各所述横向控温区的各所述碳中波红外灯管与所述预热腔的开口处的横截面垂直；
各所述纵向控温区的各所述碳中波红外灯管与所述预热腔的开口处的横截面平行；且与所述玻璃基板的翘曲部位置对应的纵向控温区的碳中波红外灯管的形状与所述翘曲部的翘曲度匹配。
可选的，所述与所述玻璃基板的翘曲部位置对应的纵向控温区的碳中波红外灯管的形状为弧形。
可选的，所述横向控温区的数量为两个。
可选的，各所述纵向控温区中，分别与首端的纵向控温区和尾端的纵向控温区相邻的纵向控温区的碳中波红外灯管的形状为弧形。
可选的，所述纵向控温区的数量为六个。
可选的，所述温度采集器为温度传感器。
根据本实用新型提供的具体实施例，本实用新型公开了以下技术效果：
本实用新型将与玻璃基板的翘曲部位置对应的纵向控温区的碳中波红外灯管，设置为与翘曲部的翘曲度匹配的形状，能够给存在翘曲部的玻璃基板均匀加热。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本实用新型实施例1控温区分布图；
图2为本实用新型实施例1弧形灯管侧视图；
图3为本实用新型实施例1玻璃基板翘曲形态图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型的目的是提供一种基于LPCVD预热腔的加热装置，能够给存在翘曲部的玻璃基板均匀加热。
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
实施例1：
基于LPCVD预热腔的加热装置包括温度采集器、加热模块及与加热模块连接的控制器，其中，
温度采集器，与控制器连接，用于采集加热模块的温度；
加热模块包括若干横向控温区和若干纵向控温区，各横向控温区和各纵向控温区分别设置有碳中波红外灯管；
各横向控温区的各碳中波红外灯管与预热腔的开口处的横截面垂直；
各纵向控温区的各碳中波红外灯管与预热腔的开口处的横截面平行；且与玻璃基板的翘曲部位置对应的纵向控温区的碳中波红外灯管的形状与翘曲部的翘曲度匹配。
可选地，与玻璃基板的翘曲部位置对应的纵向控温区的碳中波红外灯管的形状为弧形；温度采集器为温度传感器。
如图1所示，针对CIGS太阳能电池使用近似方形的大尺寸基片，预热腔室也相应变大，周围环境对加热温度的影响变得进一步复杂的问题，本实施例的加热模块设置有8个控温区，其中第一控温区1、第二控温区2、第三控温区3、第四控温区4、第五控温区5和第六控温区6为纵向控温区，第七控温区7和第八控温区8为横向控温区，每个控温区包括一根或多根碳中波红外灯管。其中六个纵向控温区分布在加热腔的中心位置，两个横向控温区分别与玻璃基板的传输方向平行，且设置在玻璃基板的两侧。位于中心的六个纵向控温区中，第二控温区2和第五控温区5采用适应玻璃基板翘曲度的弧形灯管。弧形灯管的截面如图2所示，玻璃基板的翘曲形态如图3所示。
本实施例中的控制器与温度传感器连接，温度传感器可为热电偶或红外传感器。控制器根据温度传感器采集的当前温度值及实际设定的温度值，即工艺需要值进行差值计算，并利用控制算法，如PID算法来生成控制值，控制器中的可控硅等加热功率调节装置根据控制值调节加热模块的功率，从而实现对温度的闭环控制。
本实施例主要针对铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池生产线中对镀完CIGS薄膜的大尺寸玻璃基板进行工艺前的预加热，加热装置结构相对简单，通过采用碳中波灯管加热，加热效果得到提高。玻璃基板被两边的滚轮支撑半悬空在预热腔的腔室中，加热过程中玻璃基板不动。为了有效改善玻璃基板的加热效果，也可使玻璃基板进行小幅度的前后往复移动。同时，位于中心的六个纵向控温区中有两个控温区采用适应玻璃基板翘曲度的弧形灯管，其他控温区采用普通直型灯管。该加热装置专门适用于带有CIGS薄膜并有一定翘曲的大尺寸玻璃基板，设置有八个控温区，且形状与翘曲部的翘曲度匹配的异形碳中波红外灯管，加热效果好，能够使玻璃基板预热控温过程的温度更加均匀，控温准确，加热迅速，成品率高，且易于维护。
本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处。综上所述，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。
Claims (6)
1.一种基于LPCVD预热腔的加热装置，所述加热装置设置在预热腔内，用于加热玻璃基板，其特征在于，所述加热装置包括：温度采集器、加热模块及与所述加热模块连接的控制器，其中，
所述温度采集器，与所述控制器连接，用于采集所述加热模块的温度；
所述加热模块包括若干横向控温区和若干纵向控温区，各所述横向控温区和各所述纵向控温区分别设置有碳中波红外灯管；
各所述横向控温区的各所述碳中波红外灯管与所述预热腔的开口处的横截面垂直；
各所述纵向控温区的各所述碳中波红外灯管与所述预热腔的开口处的横截面平行；且与所述玻璃基板的翘曲部位置对应的纵向控温区的碳中波红外灯管的形状与所述翘曲部的翘曲度匹配。
2.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述与所述玻璃基板的翘曲部位置对应的纵向控温区的碳中波红外灯管的形状为弧形。
3.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述横向控温区的数量为两个。
4.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，各所述纵向控温区中，分别与首端的纵向控温区和尾端的纵向控温区相邻的纵向控温区的碳中波红外灯管的形状为弧形。
5.根据权利要求4所述的加热装置，其特征在于，所述纵向控温区的数量为六个。
6.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述温度采集器为温度传感器。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018196753A1 (zh) * | 2017-04-24 | 2018-11-01 | 君泰创新（北京）科技有限公司 | 一种基于lpcvd预热腔的加热装置 |
| CN110872688A (zh) * | 2018-08-29 | 2020-03-10 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 一种加热装置、镀膜设备、温度控制方法及系统 |
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