CN206872940U - 一种真空镀膜机用镀膜基片旋调装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种真空镀膜机用镀膜基片旋调装置，包括底座，底座的顶部上设有真空镀膜罩，底座上设有旋转座，旋转座上设有储物槽，底座的内部设有驱动电机，驱动电机的上部设有驱动轴，驱动轴的下端与驱动电机的上部连接，驱动轴的上端安装在旋转座的底部，底座的顶部设有开槽，驱动轴的上端穿过开槽；驱动电机安装在移动座上，底座的内侧部位置设有液压缸，液压缸的前部设有活塞杆，活塞杆的端部安装在驱动电机的侧部位置。本实用新型可以方便使驱动电机移动灵活性更加好，从而可以方便对镀膜基片进行移动调节，方便对镀膜基片进行灵活调节。
Description
【技术领域】
本实用新型涉及一种旋调装置，特别涉及一种真空镀膜机用镀膜基片旋调装置。
【背景技术】
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。现有的真空镀膜机不方便对镀膜基片进行旋调控制，对镀膜基片进行操控不灵活。
【实用新型内容】
本实用新型的主要目的在于提供一种可以方便使驱动电机移动灵活性更加好，从而可以方便对镀膜基片进行移动调节，方便对镀膜基片进行灵活调节的真空镀膜机用镀膜基片旋调装置。
为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：
一种真空镀膜机用镀膜基片旋调装置，包括底座，底座的内部为空腔结构，底座的顶部上设有真空镀膜罩，真空镀膜罩的内部为空腔结构，底座上设有旋转座，旋转座上设有储物槽，底座的内部设有驱动电机，驱动电机的上部设有驱动轴，驱动轴呈竖直布置，驱动轴的下端与驱动电机的上部连接，驱动轴的上端安装在旋转座的底部，底座的顶部设有开槽，驱动轴的上端穿过开槽；驱动电机安装在移动座上，移动座的底部一侧设有第一安装轴，第一安装轴的两端均设有第一移动轮，移动座的底部另一侧设有第二安装轴，第二安装轴的两端均设有第二移动轮，第二安装轴与第一安装轴呈平行布置，第一移动轮与第二移动轮均为万向轮；底座的内侧部位置设有液压缸，液压缸的前部设有活塞杆，活塞杆呈水平布置，活塞杆的端部安装在驱动电机的侧部位置。
进一步地，所述底座的内底部设有固定箱，液压缸安装在固定箱上。
进一步地，所述固定箱的内部为空腔结构。
进一步地，所述底座的内侧部位置设有限位柱，限位柱呈水平布置，限位柱的端部设有限位板，液压缸的外侧壁位置设有防撞块，防撞块设置在限位板的前方。
进一步地，所述限位柱的端部与限位板通过螺纹连接。
与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：通过底座可以方便对真空镀膜罩进行安装，通过底座可以方便对旋转座进行安装；通过移动座可以方便对驱动电机进行安装，驱动电机通过驱动轴可以控制旋转座实现转动调节，使用者可以将镀膜基片安放在旋转座上，从而可以方便对镀膜基片进行水平转动调节；液压缸可以控制活塞杆实现移动调节，从而可以方便对驱动电机进行推动，移动座通过第一移动轮与第二移动轮可以移动灵活更加好，可以方便使驱动电机移动灵活性更加好，从而可以方便对镀膜基片进行移动调节，方便对镀膜基片进行灵活调节。
【附图说明】
图1为本实用新型真空镀膜机用镀膜基片旋调装置的结构示意图。
【具体实施方式】
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。
如图1所示，一种真空镀膜机用镀膜基片旋调装置，包括底座1，底座1的内部为空腔结构，底座1的顶部上设有真空镀膜罩2，真空镀膜罩2的内部为空腔结构，底座1上设有旋转座3，旋转座3上设有储物槽4，底座1的内部设有驱动电机5，驱动电机5的上部设有驱动轴6，驱动轴6呈竖直布置，驱动轴6的下端与驱动电机5的上部连接，驱动轴6的上端安装在旋转座3的底部，底座1的顶部设有开槽，驱动轴6的上端穿过开槽；驱动电机5安装在移动座11上，移动座11的底部一侧设有第一安装轴7，第一安装轴7的两端均设有第一移动轮8，移动座11的底部另一侧设有第二安装轴9，第二安装轴9的两端均设有第二移动轮10，第二安装轴9与第一安装轴7呈平行布置，第一移动轮8与第二移动轮10均为万向轮；底座1的内侧部位置设有液压缸12，液压缸12的前部设有活塞杆13，活塞杆13呈水平布置，活塞杆13的端部安装在驱动电机5的侧部位置；底座1的内底部设有固定箱14，液压缸12安装在固定箱14上；固定箱14的内部为空腔结构；底座1的内侧部位置设有限位柱16，限位柱16呈水平布置，限位柱16的端部设有限位板17，液压缸12的外侧壁位置设有防撞块15，防撞块15设置在限位板17的前方；限位柱16的端部与限位板17通过螺纹连接。
本实用新型真空镀膜机用镀膜基片旋调装置，通过底座1可以方便对真空镀膜罩2进行安装，通过底座1可以方便对旋转座3进行安装；通过移动座11可以方便对驱动电机5进行安装，驱动电机5通过驱动轴6可以控制旋转座3实现转动调节，使用者可以将镀膜基片安放在旋转座3上，从而可以方便对镀膜基片进行水平转动调节；液压缸12可以控制活塞杆13实现移动调节，从而可以方便对驱动电机5进行推动，移动座11通过第一移动轮8与第二移动轮10可以移动灵活更加好，可以方便使驱动电机5移动灵活性更加好，从而可以方便对镀膜基片进行移动调节，方便对镀膜基片进行灵活调节。
其中，底座1的内底部设有固定箱14，液压缸12安装在固定箱14上；固定箱14的内部为空腔结构；所以通过固定箱14可以方便对液压缸12进行安装。
其中，底座1的内侧部位置设有限位柱16，限位柱16呈水平布置，限位柱16的端部设有限位板17，液压缸12的外侧壁位置设有防撞块15，防撞块15设置在限位板17的前方；限位柱16的端部与限位板17通过螺纹连接；所以限位柱16通过限位板17可以方便对防撞块15进行限位，从而可以方便对驱动电机5进行限位控制。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (5)
1.一种真空镀膜机用镀膜基片旋调装置，包括底座，其特征在于：底座的内部为空腔结构，底座的顶部上设有真空镀膜罩，真空镀膜罩的内部为空腔结构，底座上设有旋转座，旋转座上设有储物槽，底座的内部设有驱动电机，驱动电机的上部设有驱动轴，驱动轴呈竖直布置，驱动轴的下端与驱动电机的上部连接，驱动轴的上端安装在旋转座的底部，底座的顶部设有开槽，驱动轴的上端穿过开槽；驱动电机安装在移动座上，移动座的底部一侧设有第一安装轴，第一安装轴的两端均设有第一移动轮，移动座的底部另一侧设有第二安装轴，第二安装轴的两端均设有第二移动轮，第二安装轴与第一安装轴呈平行布置，第一移动轮与第二移动轮均为万向轮；底座的内侧部位置设有液压缸，液压缸的前部设有活塞杆，活塞杆呈水平布置，活塞杆的端部安装在驱动电机的侧部位置。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜机用镀膜基片旋调装置，其特征在于：底座的内底部设有固定箱，液压缸安装在固定箱上。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜机用镀膜基片旋调装置，其特征在于：固定箱的内部为空腔结构。
4.根据权利要求1所述的真空镀膜机用镀膜基片旋调装置，其特征在于：底座的内侧部位置设有限位柱，限位柱呈水平布置，限位柱的端部设有限位板，液压缸的外侧壁位置设有防撞块，防撞块设置在限位板的前方。
5.根据权利要求4所述的真空镀膜机用镀膜基片旋调装置，其特征在于：限位柱的端部与限位板通过螺纹连接。
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|---|---|---|---|---|
| CN108227108A (zh) * | 2018-02-12 | 2018-06-29 | 张天 | 光学实验用聚光镜移调装置 |
| CN109435408A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-03-08 | 张天 | 大型液晶显示屏钢化膜镀膜装置 |
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