CN206751960U - 一种用于电镀的遮蔽结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及精密加工技术领域，尤其涉及一种用于电镀的遮蔽结构。其包括至少两片搭接于电镀槽宽度方向的承载片、用于阻挡金属离子流快速流向端子的遮蔽板以及用于将遮蔽板与承载片连接的连接件，所述连接件的一端与遮蔽板连接，连接件的另一端与承载片之间设有用于调节承载片与遮蔽板之间距离的调节结构。本实用新型通过设置遮蔽板靠近端子料带，调整阳离子流的流向和速度，使得端子的电镀层厚度均匀。
Description
技术领域
本实用新型涉及精密加工技术领域，尤其涉及一种用于电镀的遮蔽结构。
背景技术
现有端子在进行电镀时，由端子料带携带进入到电镀槽中，电镀槽的两侧装置有连接于阳极的电镀金属；端子料带穿过电镀槽并与阴极连接；在电镀时，电镀金属被电离成金属离子，并形成多道离子流进入电镀槽中并附着于端子料带的端子上，在理想状态下，金属离子均匀的附着于端子，形成均匀厚度的电镀层；然而端子形状使得其尖端或边缘处的电荷密度较大，即所谓的尖端效益，金属离子流集中流向尖端；造成电镀层的厚度不均匀。
发明内容
本实用新型的目的在于针对现有技术的不足提供一种用于电镀的遮蔽结构，该遮蔽结构改变金属离子流的流向，使得端子的电镀层厚度变得较为均匀。
为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：
一种用于电镀的遮蔽结构，包括至少两片搭接于电镀槽宽度方向的承载片、用于阻挡金属离子流快速流向端子的遮蔽板以及用于将遮蔽板与承载片连接的连接件，所述连接件的一端与遮蔽板连接，连接件的另一端与承载片之间设有用于调节承载片与遮蔽板之间距离的调节结构。
进一步地，调节结构包括设置在承载片上的穿孔，连接件的一端穿过穿孔并螺纹连接有螺母。
进一步地，所述遮蔽板的上端设有平板，平板设有通孔，连接件的上端穿过通孔，连接件的下端设有抵接部并与平板相抵，连接件还设有用于限制平板移动的限位件。
进一步地，连接件的上端设有垫板，垫板位于螺母与承载片之间。
进一步地，所述遮蔽板设有间隔设置的缝隙，缝隙的宽度从上之下逐渐增大。
进一步地，所述穿孔沿着电镀槽的宽度方向延伸形成穿槽。
优选地，承载片的两侧分别设有限位板。
本实用新型的有益效果：本实用新型通过设置遮蔽板靠近端子料带，调整阳离子流的流向和速度，使得端子的电镀层厚度均匀。
附图说明
图1为本实施例工作时的一种俯视示意图。
图2为本实施例的一种结构示意图。
图3为图2的一种左视示意图。
附图标记包括：
1——遮蔽板；11——缝隙；12——平板；2——电镀槽；3——承载片；31——限位板；4——端子料带；5——垫板；6——螺栓；7——螺杆；8——限位件；71——抵接部。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型进行详细的描述。如图1至图3所示。
实施例：一种用于电镀的遮蔽结构，包括至少两片搭接于电镀槽2宽度方向的承载片3、用于阻挡金属离子流快速流向端子的遮蔽板1以及用于将遮蔽板1与承载片3连接的连接件，所述连接件的一端与遮蔽板1连接，连接件的另一端与承载片3之间设有用于调节承载片3与遮蔽板1之间距离的调节结构。
本技术方案在实施时，通过先将遮蔽板1放置于电镀槽2中，然后将承载片3搭接于电镀槽2上，当然也可以固定。观察端子周边的电镀速度，如果电镀速度有差异，则调节遮蔽板1伸入电镀槽2中电镀液的深度，影响金属离子流的速度；以使得端子表面的电镀层均匀。
进一步地，调节结构包括设置在承载片3上的穿孔，连接件的一端穿过穿孔并螺纹连接有螺母。
在调节时，通过旋转螺母调整连接件伸出承载片3的长度，进而调节连接件位于承载片3下方的长度，达到调节遮蔽板1的深度。连接件可以为螺杆7或螺栓6，在与遮蔽板1连接时，与遮蔽板1活动连接，连接件可相对遮蔽板1旋转。
进一步地，所述遮蔽板1的上端设有平板12，平板12设有通孔，连接件的上端穿过通孔，连接件的下端设有抵接部71并与平板12相抵，连接件还设有用于限制平板12移动的限位件8。
在设计时，遮蔽板1可以采用L形、T形；在平板12上设置通孔，连接件抵接部71与平板12相抵，抵接部71可以是T形头，也可以是螺母；限位件8可以是螺母、也可以是其他结构：连接件的侧面设有卡接孔，限位件8插入卡接孔。设置限位件8后，可避免遮蔽板1在连接件上上下晃动，减少上下晃动程度。
进一步地，连接件的上端设有垫板5，垫板5位于螺母与承载片3之间。
在具体设置时，垫板5设有与连接件相配合的贯穿孔，连接件的上端穿过垫板5与螺母连接，在调节螺母时，螺母不会触碰到承载片3，操作稳定。
进一步地，所述遮蔽板1设有间隔设置的缝隙11，缝隙11的宽度从上之下逐渐增大。
设置缝隙11后，便于离子流的经过，避免阻挡过大，影响电镀速度；其次缝隙11宽度的变化随着遮蔽板1的深入电解液变化，可以调节阳离子流的速度。
进一步地，所述穿孔沿着电镀槽2的宽度方向延伸形成穿槽。
穿槽可以调整遮蔽板1在电镀槽2宽度方向的距离，即调整与端子料带4之间的距离，有利于调整阳离子流的流速。
优选地，承载片3的两侧分别设有限位板31。
限位板31可以防止承载片3因为外界触碰滑落；优选地，限位板31分别位于电镀槽2的内侧且紧靠电镀槽2的侧壁。
以上内容仅为本实用新型的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。
Claims (6)
1.一种用于电镀的遮蔽结构，其特征在于：包括至少两片搭接于电镀槽宽度方向的承载片、用于阻挡金属离子流快速流向端子的遮蔽板以及用于将遮蔽板与承载片连接的连接件，所述连接件的一端与遮蔽板连接，连接件的另一端与承载片之间设有用于调节承载片与遮蔽板之间距离的调节结构。
2.根据要求1所述的一种用于电镀的遮蔽结构，其特征在于：调节结构包括设置在承载片上的穿孔，连接件的一端穿过穿孔并螺纹连接有螺母。
3.根据要求2所述的一种用于电镀的遮蔽结构，其特征在于：所述遮蔽板的上端设有平板，平板设有通孔，连接件的上端穿过通孔，连接件的下端设有抵接部并与平板相抵，连接件还设有用于限制平板移动的限位件。
4.根据要求3所述的一种用于电镀的遮蔽结构，其特征在于：连接件的上端设有垫板，垫板位于螺母与承载片之间。
5.根据要求4所述的一种用于电镀的遮蔽结构，其特征在于：所述遮蔽板设有间隔设置的缝隙，缝隙的宽度从上之下逐渐增大。
6.根据要求1所述的一种用于电镀的遮蔽结构，其特征在于：承载片的两侧分别设有限位板。
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| CN201720579731.5U CN206751960U (zh) | 2017-05-23 | 2017-05-23 | 一种用于电镀的遮蔽结构 |
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| CN201720579731.5U CN206751960U (zh) | 2017-05-23 | 2017-05-23 | 一种用于电镀的遮蔽结构 |
Publications (1)
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| CN201720579731.5U Active CN206751960U (zh) | 2017-05-23 | 2017-05-23 | 一种用于电镀的遮蔽结构 |
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| CN (1) | CN206751960U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114737240A (zh) * | 2022-04-27 | 2022-07-12 | 潍坊裕元电子有限公司 | 一种可调节导电轮结构 |
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2017
- 2017-05-23 CN CN201720579731.5U patent/CN206751960U/zh active Active
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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