CN206601102U - 一种基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，包括光束整形系统、干涉系统和成像系统；所述光束整形系统位于光源光路上，用于放大光束，且产生平行光束；所述干涉系统包括第一全反镜、第二全反镜、BS镜和双Dove镜，所述双Dove镜包括第一Dove镜和第二Dove镜，所述第二Dove镜底面与第一Dove镜底面相向胶合，且底面镀半透半反膜；所述显微物镜位于所述双Dove镜上方，用于放大接收到的所述参考光和物光；所述CCD集成在显微物镜上，用于记录和分析参考光和物光的像。本实用新型通过采用Dove镜分别对样品光与参考光进行分光和合光，结构简单、稳定，易于操作。

Description

一种基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统

技术领域

本实用新型涉及干涉相位显微成像技术领域，特别涉及一种基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统。

背景技术

众多的生物样品，如活细胞，大部分是光学透明的，称为相位物体。光干涉现象由于可以用强度分布的形式表现其相位分布，所以在许多高精度检测计量和相位体的检测计量技术中有着重要的应用意义。此外，光干涉相位显微成像技术是一种无需任何造影剂和无任何侵害的光显微技术，对透明体如生物细胞可进行无损成像，因此有着极其重要的应用研究价值。

定量相位显微成像技术是依据相位成像原理而发展起来的，能够定量表示由样品产生的空间相位变化，在显微领域内成为一类重要的光学测量技术。干涉相位显微技术主要有离轴和同轴两大类。对于同轴干涉而言，一般会结合时域相移技术获取多幅干涉图而实现相位成像，如Yamaguchi等首次将相移术引入到同轴式数字全息中，阐述了常用的四步相移数字全息显微成像的基本原理，并进行了实验验证【Phase-shifting digitalholography[J].Opt.Lett.,1997,22(16):1268-1270.】。随后，许多其他的相移数字全息相位显微技术被相继报道。如Awatsuji等于2004年与2006年分别提出了平行准四步【Parallel quasi-phase-shifting digital holography[J].Appl.Phys.Lett.,2004,85(6):1069-1071】和三步相移【Parallel three-step phase-shifting digitalholography[J].Appl.Opt.,2006,45(13):2995-3002】全息技术，利用在同一时间采集到的多幅全息图对三维物体进行了实时测量。而对于离轴干涉，因为其具有单次拍摄特性，故可以很好地用于相位物体快现象的研究，如我国徐媛媛的微分离轴方法【A new method ofphase derivative extracting for off-axis quantitative phase imaging,OpticsCommunications,2013,305:13-16.】在离轴干涉下应用微分方法可以得到相位分布和相位体厚度分布。又如美国Kim等在马赫-曾德尔干涉仪中的样品臂与参考臂上加入了相同的物镜【High-resolution quantitative phase-contrast microscopy by digitalholography[J].Opt.Express,2005,13(22):8693-8698】，且利用角谱算法快速地再现了卵巢癌细胞的信息，清晰地呈现了该细胞内以及细胞核内的细胞器。普通显微镜光学显微技术是基于光透过观测物体时发生振幅(亮度)和波长(颜色)的变化来实现的，然而，大部分生物细胞具有无色透明的特性，使得普通光学显微技术失去作用，无法对细胞进行清晰成像以及微观结构和动力学行为的研究，因此、干涉相位显微成像产品的开发发展迅速，如2006年瑞士Lyncee Tec SA公司基于离轴干涉首次推出了数字全息显微镜(DHM-1000)，可直接观测样品的三维形貌和相位分布。又如专利“一种白光同轴干涉相移显微镜系统和显微成像方法CN201610008623.2”利用多个透镜实现了白光同轴干涉相移显微成像，其中空间光调制器加载有一个和图像的频谱相匹配的图样用于降低低频信息的光强,以使低频信息和高频信息的光强相当，增加了图像质量，但是多透镜必然会产生光学畸变。再如专利“直立倒置显微镜CN105579881A”采用了Dove镜，其Dove镜主要用于校准由光学臂旋转引起的样品视觉表征的旋转，具有很好的稳定结构，其结构简单，它主要用于明场显微，但是不能对相位体实现显微。

发明内容

针对现有技术中存在不足，本实用新型提供了一种基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，可以通过BS镜(分光镜)和双Dove镜(道威棱镜)的对光波进行分光和合光，并使分别适用于同轴干涉和离轴干涉，其结构增强了相位成像的稳定性、精确度，并且有效抑制了光学畸变。

本实用新型是通过以下技术手段实现上述技术目的的。

一种基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，包括光束整形系统、干涉系统和成像系统；所述光束整形系统位于光源光路上，用于放大光束，且产生平行光束；所述干涉系统包括第一全反镜、第二全反镜、BS镜和双Dove镜，所述双Dove镜包括第一Dove镜和第二Dove镜，所述第二Dove镜底面与第一Dove镜底面相向胶合，且底面镀半透半反膜；所述BS镜位于所述光束整形系统产生的平行光束的光路上，将入射的平行光束反射，使反射光束与入射光束夹角为90°，第一全反镜和第二全反镜位于所述BS镜反射光光路上；所述双Dove镜位于第一全反镜和第二全反镜的反射光路上；所述第二全反镜上放置样品；所述第一全反镜反射的光束为参考光，所述第二全反镜反射的光束为物光，所述参考光和物光经过BS镜透射到双Dove镜；第一全反镜和第二全反镜将参考光和物光合并；所述成像系统包括显微物镜和CCD；所述显微物镜位于所述双Dove镜上方，用于放大接收到的所述参考光和物光；所述CCD集成在显微物镜上，用于记录和分析参考光和物光的像。

进一步，所述光束整形系统包括在光源传输方向上依次排列的激光器、第一透镜、针孔滤波器和第二透镜，针孔滤波器位于第一透镜的右焦点上，第二透镜的左焦点与第一透镜的右焦点共焦。

进一步，所述第一全反镜与第二全反镜的距离为1-2mm。

进一步，所述第一全反镜上设有角度调节器，用于调整第一全反镜与水平的夹角。

进一步，所述光束整形系统还包括滤光片，位于激光器和第一透镜之间，用于削弱光强。

本实用新型的有益效果在于：

1.本实用新型所述的基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，通过采用Dove镜分别对样品光与参考光进行分光和合光，结构简单、稳定，易于操作。

2.本实用新型所述的基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，采用典型的迈克尔逊(Michelson)干涉光路保证了本发明系统的可靠性与稳定性。

3.本实用新型所述的基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，通过旋转第一反射镜，同轴干涉与离轴干涉可自由转换。

4.本实用新型所述的基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，利用几何光学的关系，未使用较多的透镜，所以具有很好的信息保真性，显微物镜位于干涉系统之后，可减少相位噪声。

附图说明

图1为本实用新型所述的基于双Dove镜下的光学同轴干涉相位成像系统原理图。

图2为本实用新型所述的双Dove镜结构图。

图3为本实用新型所述的第一全反镜角度调节的工作原理图。

图中：

1-激光器；2-滤光片；3-第一透镜；4-针孔滤波器；5-第二透镜；6-BS镜；7-第一全反镜；8-第二全反镜；9-样品；10-双Dove镜；11-显微物镜；12-CCD；13-第一Dove镜；14-第二Dove镜。

具体实施方式

下面结合附图以及具体实施例对本实用新型作进一步的说明，但本实用新型的保护范围并不限于此。

如图1所示，一种基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，包括光束整形系统、干涉系统和成像系统；所述光束整形系统位于光源光路上，用于放大光束，且产生平行光束；所述干涉系统包括第一全反镜7、第二全反镜8、BS镜6和双Dove镜10，所述双Dove镜10包括第一Dove镜13和第二Dove镜14，所述第二Dove镜14底面与第一Dove镜13底面相向胶合，且底面镀半透半反膜；所述BS镜6位于所述光束整形系统产生的平行光束的光路上，将入射的平行光束反射，使反射光束与入射光束夹角为90°，第一全反镜7和第二全反镜8位于所述BS镜6反射光光路上；所述双Dove镜10位于第一全反镜7和第二全反镜8的反射光路上；所述第二全反镜8上放置样品9；所述第一全反镜7反射的光束为参考光，所述第二全反镜8反射的光束为物光，所述参考光和物光经过BS镜6透射到双Dove镜10；第一全反镜7和第二全反镜8将参考光和物光合并；所述成像系统包括显微物镜11和CCD 12；所述显微物镜11位于所述双Dove镜10上方，用于放大接收到的所述参考光和物光；所述CCD 12集成在显微物镜11上，用于记录和分析参考光和物光的像。

所述光束整形系统包括在光源传输方向上依次排列的包括激光器1、第一透镜3、针孔滤波器4和第二透镜5，且处于水平光轴上；针孔滤波器4位于第一透镜3的右焦点上，第二透镜5的左焦点与第一透镜3的右焦点共焦。因此所述光束整形系统可以产生放大光束，且产生平行光束。所述光束整形系统还包括滤光片2，位于激光器1和第一透镜3之间，用于削弱光强。

工作原理：

所述光束整形系统用于放大光束，且产生平行光束；平行光束经过BS镜6变成垂直光束并反射至第一全反镜7和第二全反镜8上，所述第一全反镜7反射的光束为参考光，所述第二全反镜8反射的光束为物光，所述参考光和物光经过BS镜6透射到双Dove镜10；参考光和物光同时进入双Dove镜10并在胶合底面透射和反射，透射光经第二Dove镜14的出射面折射后垂直进入显微物镜11，进入显微物镜11的物光和参考光被再次放大后在CCD上干涉，并记录下其干涉图样。通过同轴方法需要采集到两幅图像，并根据所得的两幅图像解出样品的具体相位信息，从而获得样品在轴向上的厚度信息。

图3所示，为了实现离轴干涉相位成像系统，所述第一全反镜7上设有角度调节器，用于调整第一全反镜7与水平的夹角。调节角度的范围主要由双Dove镜10的大小决定，这样可以用一套装置既可以实现离轴干涉相位成像系统又可以同轴干涉相位成像系统。所述第一全反镜7与第二全反镜8的距离为1-2mm。对于实现离轴干涉相位成像系统，则只需要采集一副图像后，对数据进行高通滤波或平均算法后其所包含的背景光则会被剔除，从而获得所需要的干涉项获得相位信息。

所述实施例为本实用新型的优选的实施方式，但本实用新型并不限于上述实施方式，在不背离本实用新型的实质内容的情况下，本领域技术人员能够做出的任何显而易见的改进、替换或变型均属于本实用新型的保护范围。

Claims (5)

1.一种基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，其特征在于，包括光束整形系统、干涉系统和成像系统；所述光束整形系统位于光源光路上，用于放大光束，且产生平行光束；

所述干涉系统包括第一全反镜(7)、第二全反镜(8)、BS镜(6)和双Dove镜(10)，所述双Dove镜(10)包括第一Dove镜(13)和第二Dove镜(14)，所述第二Dove镜(14)底面与第一Dove镜(13)底面相向胶合，且底面镀半透半反膜；所述BS镜(6)位于所述光束整形系统产生的平行光束的光路上，将入射的平行光束反射，使反射光束与入射光束夹角为90°，第一全反镜(7)和第二全反镜(8)位于所述BS镜(6)反射光光路上；所述双Dove镜(10)位于第一全反镜(7)和第二全反镜(8)的反射光路上；所述第二全反镜(8)上放置样品(9)；所述第一全反镜(7)反射的光束为参考光，所述第二全反镜(8)反射的光束为物光，所述参考光和物光经过BS镜(6)透射到双Dove镜(10)；第一全反镜(7)和第二全反镜(8)将参考光和物光合并；

所述成像系统包括显微物镜(11)和CCD(12)；所述显微物镜(11)位于所述双Dove镜(10)上方，用于放大接收到的所述参考光和物光；所述CCD(12)集成在显微物镜(11)上，用于记录和分析参考光和物光的像。

2.根据权利要求1所述的基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，其特征在于，所述光束整形系统包括在光源传输方向上依次排列的激光器(1)、第一透镜(3)、针孔滤波器(4)和第二透镜(5)，针孔滤波器(4)位于第一透镜(3)的右焦点上，第二透镜(5)的左焦点与第一透镜(3)的右焦点共焦。

3.根据权利要求1所述的基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，其特征在于，所述第一全反镜(7)与第二全反镜(8)的距离为1-2mm。

4.根据权利要求1所述的基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，其特征在于，所述第一全反镜(7)上设有角度调节器，用于调整第一全反镜(7)与水平的夹角。

5.根据权利要求2所述的基于双Dove镜下的光学同轴和离轴干涉相位成像系统，其特征在于，所述光束整形系统还包括滤光片(2)，位于激光器(1)和第一透镜(3)之间，用于削弱光强。