CN206479477U - X荧光光谱法检测组件 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种X荧光光谱法检测组件。一种X荧光光谱法检测组件包括依次层叠的支撑层、吸附层和保护层；所述支撑层与所述保护层的边缘密封连接形成容置腔，并将所述吸附层包覆在所述容置腔中；所述吸附层能够吸附测试样品。上述X荧光光谱法检测组件，支撑层和保护层连接形成封闭的容置腔，并将吸附层包覆在容置腔中，可以将吸附层与外界隔离，从而防止了外界对检测样品的污染；通过支撑层与保护层形成封闭的结构，也可以防止检测样品在测试中掉落也会对仪器造成损坏。
Description
技术领域
本实用新型涉及检测组件技术领域，特别是涉及X荧光光谱法检测组件。
背景技术
X射线荧光光谱分析是一种现代仪器分析方法，它具有分析速度快、检测范围广、结果稳定可靠等优点，因此被广泛用于各种材料的的主量测试。目前，薄膜吸附制样法是比较常用的X射线荧光光谱分析的制样方法，该方法是将样品定量滴加在可吸附样品的基材上，干燥得到检测样品。然而该方法容易造成检测样品的污染，且检测样品在测试中掉落也会对仪器造成损坏。
实用新型内容
基于此，有必要针对X射线荧光光谱分析检测样品易污染和易对仪器造成损坏的问题，提供一种X荧光光谱法检测组件。
一种X荧光光谱法检测组件，包括依次层叠的支撑层、吸附层和保护层；所述支撑层与所述保护层的边缘密封连接形成容置腔，并将所述吸附层包覆在所述容置腔中；所述吸附层能够吸附测试样品。
在其中一个实施方式中，所述保护层及所述吸附层均为片状，所述吸附层在所述保护层的正投影落入所述保护层。
在其中一个实施方式中，所述保护层及所述吸附层均为圆形片状，所述保护层的直径为30mm～32mm；所述吸附层的直径为20mm～25mm。
在其中一个实施方式中，所述支撑层为矩形片状，且所述支撑层的短边的长度大于所述保护层的直径。
在其中一个实施方式中，所述支撑层的长为70mm～80mm；所述支撑层的宽为50mm～60mm。
在其中一个实施方式中，所述保护层的厚度为0.06mm～1mm；所述吸附层的厚度为0.06mm～1mm。
在其中一个实施方式中，所述支撑层的厚度为4.0μm～6.0μm。
在其中一个实施方式中，所述保护层与所述支撑层压合连接。
在其中一个实施方式中，所述保护层及所述吸附层为滤纸或离子交换膜。
在其中一个实施方式中，所述支撑层为麦拉膜。
上述X荧光光谱法检测组件，包括依次层叠的支撑层、吸附层和保护层，支撑层和保护层连接形成封闭的容置腔，并将吸附层包覆在容置腔中，可以将吸附层与外界隔离，从而防止了外界对检测样品的污染；通过支撑层与保护层形成封闭的结构，也可以防止检测样品在测试中掉落也会对仪器造成损坏。
附图说明
图1为一实施方式的X荧光光谱法检测组件的结构示意图；
图2为图1所示的X荧光光谱法检测组件沿Ⅱ-Ⅱ线的剖面图。
具体实施方式
下面将结合具体实施方式及附图对X荧光光谱法检测组件做进一步的详细说明。
请参阅图1及图2，一实施方式的X荧光光谱法检测组件100包括支撑层110、保护层130和吸附层150。
支撑层110为片状，在图示的实施方式中，支撑层110为矩形，长为70mm～80mm，宽为50mm～60mm。当然，在其他实施方式中，支撑层110也可以是其他形状。
在其中一个实施方式中，支撑层110的厚度为4.0μm～6.0μm。
在其中一个实施方式中，支撑层110为麦拉膜(Mylar膜)。
保护层130为片状，在图示的实施方式中，保护层130为圆形片状。保护层130的直径为30mm～32mm。保护层130的厚度为0.06mm～1mm。
在其中一个实施方式中，支撑层110的短边的长度大于保护层130的直径，保护层130在支撑层110的正投影落入支撑层110中。
保护层130的边缘与支撑层110密封连接形成容置腔。在其中一个实施方式中，保护层130与支撑层110压合连接。
在其中一个实施方式中，保护层130为滤纸或离子交换膜。
吸附层150能够吸附测试样品。吸附层150收容在支撑层110和保护层130形成的容置腔中。在图示的实施方式中，吸附层150为片状。吸附层150为圆形片状，其直径为20mm～25mm。吸附层150的厚度为0.06mm～1mm。在其中一个实施方式中，吸附层150的直径小于保护层130的直径，吸附层150在保护层130的正投影落入保护层130。在其中一个实施方式中，吸附层150为滤纸或离子交换膜。
上述X荧光光谱法检测组件，包括依次层叠的支撑层、吸附层和保护层，支撑层和保护层连接形成封闭的容置腔，并将吸附层包覆在容置腔中，可以将吸附层与外界隔离，从而防止了外界对检测样品的污染；通过支撑层与保护层形成封闭的结构，也可以防止检测样品在测试中掉落也会对仪器造成损坏。
需要说明的是，保护层130还可以是正方形，将吸附层150收容在容置腔中，吸附层150与容置腔的边缘相切，更便于吸附层150的放置。
以铁氧体(铁镍铜锌)检测用X荧光光谱法检测组件为例，标准溶液及检测样品的X荧光光谱法检测组件的制备方法包括以下步骤：
准备好含有铁、镍、铜、锌的标准溶液，标准溶液中铁、镍、铜、锌成分分别在8.0～10g/L，0.8～2.4g/L，0～1.4g/L，2.2～4.1g/L。在其中一个实施方式中，标准溶液的数量为7个。
将标准溶液分别与质量分数为12％的明胶溶液和丙三醇按照1：1：1的质量比例混合，制成标准溶液。
将直径为22mm的圆形滤纸放于玻璃表面皿上，用微型移液器移取标准溶液50μL，滴于圆形滤纸上。
将吸附了标准溶液的圆形滤纸在红外烘箱中150℃烘至滤纸表面干燥。
分别按从下往上的顺序放置Mylar膜，吸附了标准溶液的圆形滤纸，直径为32mm的圆形滤纸放在压片机上。使用30Mpa的压力，保压10秒，得到标准溶液的X荧光光谱法检测组件。
在其中一个实施方式中，上述标准溶液的X荧光光谱法检测组件的数量为7个。
用同样的方法制备检测样品的X荧光光谱法检测组件。
上述X荧光光谱法检测组件用于铁氧体(铁镍铜锌)主量测试的使用方法为：
1.按照X荧光光谱仪的规定，设置选定相应型号仪器的最佳分析条件，并调节仪器至最佳工作状态，按照顺序测定7个上述吸附有标准样品的X荧光光谱法检测组件的强度，并绘制工作曲线。
2.对吸附有检测样品的X荧光光谱法检测组件进行测试，根据工作曲线，得出测试结果。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当标准样品制备方法与样品粉末制备方法一致本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种X荧光光谱法检测组件，其特征在于，包括依次层叠的支撑层、吸附层和保护层；所述支撑层与所述保护层的边缘密封连接形成容置腔，并将所述吸附层包覆在所述容置腔中；所述吸附层能够吸附测试样品。
2.根据权利要求1所述的X荧光光谱法检测组件，其特征在于，所述保护层及所述吸附层均为片状，所述吸附层在所述保护层的正投影落入所述保护层。
3.根据权利要求2所述的X荧光光谱法检测组件，其特征在于，所述保护层及所述吸附层均为圆形片状，所述保护层的直径为30mm～32mm；所述吸附层的直径为20mm～25mm。
4.根据权利要求3所述的X荧光光谱法检测组件，其特征在于，所述支撑层为矩形片状，且所述支撑层的短边的长度大于所述保护层的直径。
5.根据权利要求4所述的X荧光光谱法检测组件，其特征在于，所述支撑层的长为70mm～80mm；所述支撑层的宽为50mm～60mm。
6.根据权利要求1所述的X荧光光谱法检测组件，其特征在于，所述保护层的厚度为0.06mm～1mm；所述吸附层的厚度为0.06mm～1mm。
7.根据权利要求1所述的X荧光光谱法检测组件，其特征在于，所述支撑层的厚度为4.0μm～6.0μm。
8.根据权利要求1所述的X荧光光谱法检测组件，其特征在于，所述保护层与所述支撑层压合连接。
9.根据权利要求1所述的X荧光光谱法检测组件，其特征在于，所述保护层及所述吸附层为滤纸或离子交换膜。
10.根据权利要求1所述的X荧光光谱法检测组件，其特征在于，所述支撑层为麦拉膜。
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