CN206444594U - 一种温控反应釜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种温控反应釜,包括有釜体,所述釜体内部设置有第一温度传感器,所述釜体表面设置有冷却腔,所述冷却腔上分别设置有进水口和出水口,所述进水口的管道上连有制冷装置,所述制冷装置包括有单片机,所述单片机与第一温度传感器连接,所述釜体的外部设置有第二温度传感器,所述第二温度传感器与单片机连接;所述釜体顶部设置有一个以上的通孔,所述通孔上设置有记忆金属片,所述记忆金属片的一侧与通孔的边缘连接;该温控反应釜当内部温度过高时,其能够及时进行降温。
Description
技术领域
本实用新型涉及反应釜技术领域,尤其涉及一种温控反应釜。
背景技术
反应釜的广义理解即有物理或化学反应的不锈钢容器,根据不同的工艺条件需求进行容器的结构设计与参数配置,设计条件、过程、检验及制造、验收需依据相关技术标准,以实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配反应功能。压力容器必须遵循GB150{钢制压力容器}的标准,常压容器必须遵循NB/T47003.1-2009{钢制焊接常压容器}的标准。随之反应过程中的压力要求对容器的设计要求也不尽相同。生产必须严格按照相应的标准加工、检测并试运行。不锈钢反应釜根据不同的生产工艺、操作条件等不尽相同,反应釜的设计结构及参数不同,即反应釜的结构样式不同,属于非标的容器设备。
现有的反应釜在工作的过程中,会出现釜体内部温度过高的情况,其主要通过定时打开反应釜来进行散热,但是大部分情况下不能及时对釜体内部进行降温,影响物料的反应。
实用新型内容
鉴于上述技术问题,本实用新型的目的在于提供一种温控反应釜,当反应釜内部温度过高时,其能够及时进行降温。
本实用新型提供一种温控反应釜,包括有釜体,所述釜体内部设置有第一温度传感器,所述釜体表面设置有冷却腔,所述冷却腔上分别设置有进水口和出水口,所述进水口的管道上连有制冷装置,所述制冷装置包括有单片机,所述单片机与第一温度传感器连接,所述釜体的外部设置有第二温度传感器,所述第二温度传感器与单片机连接;所述釜体顶部设置有一个以上的通孔,所述通孔上设置有记忆金属片,所述记忆金属片的一侧与通孔的边缘连接。
作为优选,所述记忆金属片的一侧与通孔的边缘为焊接,使得记忆金属片的一侧固定在通孔的边缘上。
作为优选,所述釜体底部设置有进气管,所述进气管上安装有加热装置,所述加热装置与单片机连接,当釜体内部的温度过低时,可以通入经过加热的气体,从而提高釜体内部的温度。
作为优选,所述进气管与釜体交接处设置有密封圈,防止物料从进气管与釜体交接处的细缝中流出。
作为优选,所述进水口和出水口之间采用散热盘管连接,可以将升温了的水进行冷却再通到制冷装置,提高制冷的效率。
作为优选,所述散热盘管采用不锈钢材料制成,防止散热盘管出现生锈的现象。
作为优选,所述进水口处设置有调节阀,用于调节冷却水的水流速度。
工作原理:反应釜在工作期间,第一温度传感器检测出釜体的内部温度,第二温度传感器检测出釜体外部环境的温度,再将信息发送到单片机,单片机对信息进行处理,再发出信号到制冷装置,控制制冷装置制成温度适当的冷却水。
第二温度传感器的设置是考虑外部环境温度会对冷却水的温度造成影响,当外部环境温度过低时,可以适当提高冷却水的温度,当外部环境温度过高时,可以适当降低冷却水的温度,从而使得釜体内部在一定时间内降至合适的温度。
本实用新型与现有技术相比,其优点在于:该温控反应釜通过在釜体内部设置有第一温度传感器,在釜体外部设置有第二温度传感器,通过检测釜体的内部温度和外部环境温度,再将信号发送到单片机进行处理,单片机再控制制冷装置制出温度适合的冷却水对釜体进行冷却,防止釜体内部温度过高影响物料的反应;另外,当釜体内部温度过高时,记忆金属片会发生形状变化,使得通孔被打开,对釜体内部起到散热的效果。
附图说明
下面参照附图示例说明本实用新型温控反应釜的基本构造,其中:
图1为本实用新型温控反应釜的结构示意图。
图2为本实用新型记忆金属片关闭通孔的示意图。
图3为本实用新型记忆金属片打开通孔的示意图。
图4为本实用新型温控反应釜的电路连接框图。
具体实施方式
为清楚说明起见,下面参照附图以示例的方式对温控反应釜加以说明。应当理解,本实用新型并不受其限制。
实施例1
如图1-4所示,一种温控反应釜,包括有釜体1,所述釜体1内部设置有第一温度传感器2,所述釜体1表面设置有冷却腔3,所述冷却腔3上分别设置有进水口4和出水口5,所述进水口4的管道上连有制冷装置6,所述制冷装置6包括有单片机,所述单片机与第一温度传感器2连接,所述釜体1的外部设置有第二温度传感器8,所述第二温度传感器8与单片机连接;所述釜体1顶部设置有6个通孔9,所述通孔9上设置有记忆金属片7,所述记忆金属片7的一侧与通孔9的边缘连接。
单片机的型号为STC12C5204AD。
工作原理:反应釜在工作期间,第一温度传感器2检测出釜体1的内部温度,第二温度传感器8检测出釜体1外部环境的温度,再将信息发送到单片机,单片机对信息进行处理,再发出信号到制冷装置6,控制制冷装置6制成温度适当的冷却水。
本实施例的有益效果为:该温控反应釜通过在釜体内部设置有第一温度传感器,在釜体外部设置有第二温度传感器,通过检测釜体的内部温度和外部环境温度,再将信号发送到单片机进行处理,单片机再控制制冷装置制出温度适合的冷却水对釜体进行冷却,防止釜体内部温度过高影响物料的反应;另外,当釜体内部温度过高时,记忆金属片会发生形状变化,使得通孔被打开,对釜体内部起到散热的效果。
实施例2
如图1-4所示,一种温控反应釜,包括有釜体1,所述釜体1内部设置有第一温度传感器2,所述釜体1表面设置有冷却腔3,所述冷却腔3上分别设置有进水口4和出水口5,所述进水口4的管道上连有制冷装置6,所述制冷装置6包括有单片机,所述单片机与第一温度传感器2连接,所述釜体1的外部设置有第二温度传感器8,所述第二温度传感器8与单片机连接;所述釜体1顶部设置有6个通孔9,所述通孔9上设置有记忆金属片7,所述记忆金属片7的一侧与通孔9的边缘连接。
单片机的型号为STC12C5204AD。
所述记忆金属片7的一侧与通孔9的边缘为焊接,使得记忆金属片7的一侧固定在通孔9的边缘上。
所述釜体1底部设置有进气管10,所述进气管10上安装有加热装置11,所述加热装置11与单片机连接,当釜体1内部的温度过低时,可以通入经过加热的气体,从而提高釜体1内部的温度。
所述进气管10与釜体1交接处设置有密封圈(未图示),防止物料从进气管10与釜体1交接处的细缝中流出。
所述进水口4和出水口5之间采用散热盘管12连接,可以将升温了的水进行冷却再通到制冷装置6,提高制冷的效率。
所述散热盘管12采用不锈钢材料制成,防止散热盘管12出现生锈的现象。
所述进水口4处设置有调节阀13,用于调节冷却水的水流速度。
工作原理:反应釜在工作期间,第一温度传感器2检测出釜体1的内部温度,第二温度传感器8检测出釜体1外部环境的温度,再将信息发送到单片机,单片机对信息进行处理,再发出信号到制冷装置6,控制制冷装置6制成温度适当的冷却水。
本实施例的有益效果为:该温控反应釜通过在釜体内部设置有第一温度传感器,在釜体外部设置有第二温度传感器,通过检测釜体的内部温度和外部环境温度,再将信号发送到单片机进行处理,单片机再控制制冷装置制出温度适合的冷却水对釜体进行冷却,防止釜体内部温度过高影响物料的反应;另外,当釜体内部温度过高时,记忆金属片会发生形状变化,使得通孔被打开,对釜体内部起到散热的效果。
上面参照附图清楚说明了本实用新型的优选实施例,但是,应当理解,本实用新型并不受其限制。对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的权利要求范围之内。
Claims (7)
1.一种温控反应釜,包括有釜体,所述釜体内部设置有第一温度传感器,所述釜体表面设置有冷却腔,所述冷却腔上分别设置有进水口和出水口,所述进水口的管道上连有制冷装置,所述制冷装置包括有单片机,所述单片机与第一温度传感器连接,其特征在于,
所述釜体的外部设置有第二温度传感器,所述第二温度传感器与单片机连接;
所述釜体顶部设置有一个以上的通孔,所述通孔上设置有记忆金属片,所述记忆金属片的一侧与通孔的边缘连接。
2.根据权利要求1所述的温控反应釜,其特征在于,所述记忆金属片的一侧与通孔的边缘为焊接。
3.根据权利要求1所述的温控反应釜,其特征在于,所述釜体底部设置有进气管,所述进气管上安装有加热装置,所述加热装置与单片机连接。
4.根据权利要求3所述的温控反应釜,其特征在于,所述进气管与釜体交接处设置有密封圈。
5.根据权利要求1所述的温控反应釜,其特征在于,所述进水口和出水口之间采用散热盘管连接。
6.根据权利要求5所述的温控反应釜,其特征在于,所述散热盘管采用不锈钢材料制成。
7.根据权利要求1所述的温控反应釜,其特征在于,所述进水口处设置有调节阀。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
CN201720068126.1U CN206444594U (zh) | 2017-01-20 | 2017-01-20 | 一种温控反应釜 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109213232A (zh) * | 2018-11-15 | 2019-01-15 | 上海量能生物科技有限公司 | 具备温度控制功能的高压反应釜系统 |
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2017
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