CN206432234U - 等离子体刻蚀机反应腔的内衬及等离子体刻蚀机反应腔 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种等离子体刻蚀机反应腔的内衬和具有其的等离子体刻蚀机反应腔。等离子体刻蚀机反应腔的内衬以可拆卸的方式固定于所述等离子体刻蚀机反应腔的内壁，包括与等离子体刻蚀机反应腔的内壁相贴合的柱形侧壁，所述柱形侧壁设有与等离子体刻蚀机反应腔基片进出口位置对应的开口、以及与等离子体刻蚀机反应腔的抽气孔位置对应的匀流通路。本实用新型可以在保护反应腔体内壁不受污染的同时，大幅度的提高反应腔获得高真空度的速率，提高刻蚀效率。

Description

等离子体刻蚀机反应腔的内衬及等离子体刻蚀机反应腔

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，具体涉及等离子体刻蚀机领域,尤其涉及一种等离子体刻蚀机反应腔的内衬。

背景技术

微电子机械系统(MEMS)是近年来发展起来的高新技术，它采用先进的半导体工艺技术，把微机械结构与电路集成在一起，具有信息采集、处理与执行的功能，以及体积小、重量轻、功耗低的优点。MEMS加工工艺是MEMS的技术重点，包括表面微机械加工工艺和体微机械加工工艺。刻蚀技术是体加工的重要部分，通常刻蚀技术分为湿法刻蚀和干法刻蚀两种。与湿法刻蚀相比，干法刻蚀的优点是控制精度高、大面积刻蚀均匀性好、污染少、各向异性好等，其工作原理是当给反应室外线圈加压时，反应室内产生交变的电磁场，当电场达到一定程度时，气体产生放电现象，进入等离子态，等离子体将刻蚀气体电离并形成带电离子、分子及反应性很强的原子团，它们通过反应室内电极提供的偏压，获得能量，垂直扩散到刻蚀薄膜表面，与刻蚀薄膜的表面原子反应生成具有挥发性的反应产物，并被真空设备抽离反应腔。

等离子体刻蚀机在进行刻蚀工艺的时候使用多种反应气体，会对反应腔体内部造成污染，最终造成设备的破坏。使用内衬结构可以有效的保护腔体内部不被污染与破坏，可随意拆卸之后进行清洗。

但是，若内衬的结构设计不合理则会造成刻蚀机在刻蚀工艺进行之前真空度达不到要求或者是抽真空速度过慢，影响刻蚀效率。为了保证刻蚀效率，加快腔室获得真空度的速度，需对内衬的结构进行合理设计。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型公开一种等离子体刻蚀机反应腔的内衬，以可拆卸的方式固定于所述等离子体刻蚀机反应腔的内壁，包括与等离子体刻蚀机反应腔的内壁相贴合的柱形侧壁，所述柱形侧壁设有与等离子体刻蚀机反应腔基片进出口位置对应的开口、以及与等离子体刻蚀机反应腔的抽气孔位置对应的匀流通路。

优选为，所述柱形侧壁的顶部设有凸缘，以配合安装于等离子体刻蚀机反应腔的上表面台阶处。

优选为，所述凸缘和所述等离子体刻蚀机反应腔的上表面台阶处对应设置有定位销孔。

优选为，所述柱形侧壁设置有与等离子体刻蚀机反应腔观察窗位置对应的观察孔。

优选为，所述柱形侧壁为铝合金材质。

优选为，所述匀流通路包括多个均匀分布的通孔。

优选为，所述通孔的横截面为圆形、椭圆形或多边形。

优选为，所述匀流通路包括抽气栅格结构。

优选为，所述抽气栅格结构为均匀分布的向所述柱形侧壁顶部和底部延伸的长槽。

本实用新型还公开一种等离子体刻蚀机反应腔，设有基片进出口、抽气孔，以可拆卸的方式安装有任一所述的等离子体刻蚀机反应腔的内衬。

本实用新型可以在保护反应腔体内壁不受污染的同时，大幅度的提高反应腔获得高真空度的速率，提高刻蚀效率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型等离子体刻蚀机反应腔的内衬的立体示意图。

图2～图4是本实用新型等离子体刻蚀机反应腔的内衬不同角度的示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“水平”“垂直”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

图1是本实用新型等离子体刻蚀机反应腔的内衬的立体示意图。图2～4 图是本实用新型等离子体刻蚀机反应腔的内衬不同角度的示意图。如图1所示，等离子体刻蚀机反应腔的内衬包括与等离子体刻蚀机反应腔的内壁相贴合的柱形侧壁1。柱形侧壁1可以为铝合金、不锈钢等材质。柱形侧壁1设有与等离子体刻蚀机反应腔基片进出口位置对应的开口11、以及与等离子体刻蚀机反应腔的抽气孔位置对应的匀流通路12，在保护腔室内壁同时加快抽气速率。

在本实施方式中，开口11的形状呈矩形，且沿水平方向延伸的长度大于沿垂直方向延伸的长度，四边角通过圆弧过渡，如图1、图4所示。但是本发明不限定于此，开口11形状、尺寸等根据等离子体刻蚀机反应腔的大小、基片进出口的形状、尺寸等的不同而不同。优选与等离子体刻蚀机反应腔上所设的基片进出口形状大小、一致，方便基片进出反应腔室。

匀流通路12的大小、密度、分布范围、结构等也根据等离子体刻蚀机反应腔的大小、抽气孔的大小、位置形状等的不同而不同。在本实施方式中，匀流通路12设计为均匀分布的向侧壁顶部和底部延伸的长槽型抽气栅格结构，如图1、图2所示。但是本实用新型不限定于此，也可以是其他形状的抽气栅格结构，例如可以是平行于侧壁上下边缘向左右延伸的长槽结构，还可以是矩形网格状结构等。长槽、网格等的尺寸、间距、分布范围等可根据具体情况进行设定。另外，匀流通路12还可以设计为包括均匀分布的通孔。根据反应腔室的结构的不同和工艺要求的不同，通孔的横向截面可以为圆形、椭圆形或多边形，或其它需要的形状。通孔在轴向上可以为直孔、台阶孔、锥孔等任意需要的结构。通孔的形状可以相同，也可以不同等，也就是说，只要匀流通路的设计能够达到匀流的效果即可。

在柱形侧壁上1设置有与等离子体刻蚀机反应腔观察窗位置对应的观察孔 13，如图1、图2所示，从而便于从等离子体刻蚀机反应腔的观察窗外观察腔体的内部状况。

等离子体刻蚀机反应腔的内衬以可拆卸的方式固定于所述等离子体刻蚀机反应腔的内壁。固定的方式有多种，例如，可以通过多个螺钉将等离子体刻蚀机反应腔的内衬与反应腔进行固定。也可以将固定件设置为悬挂型结构如挂钩，在柱形侧壁设置与等离子体刻蚀机反应腔内壁设置的固定件位置对应的多个固定用通孔，挂钩插入固定用通孔中从而将离子体刻蚀机反应腔的内衬固定在反应腔内壁，拆卸离子体刻蚀机反应腔的内衬时，将通孔从挂钩上退出即可。优选为，多个固定用通孔均匀分布在离子体刻蚀机反应腔的内衬的侧壁上。例如，沿圆周均匀分布4组固定用通孔，每组包括分别位于离子体刻蚀机反应腔的内衬上部、下部位置的两个固定用通孔，这样能够均匀分布离子体刻蚀机反应腔的内衬的重量，使固定更加稳固。但是本实用新型不限定于此，在一些实施例中，还可以在离子体刻蚀机反应腔的内衬的柱型侧壁上设置与反应腔内壁相互配合的搭扣，通过两者相互咬合来进行固定。总之，固定的方式可以根据离子体刻蚀机反应腔室的具体结构而不同，只要是可拆卸的方式即可。

优选地，如图1～4所示，柱形侧壁1的顶部设有凸缘14，以配合安装于等离子体刻蚀机反应腔的上表面台阶处，两者接触，保证接地效果。优选地，凸缘14和等离子体刻蚀机反应腔的上表面台阶处对应设置有定位销孔，通过定位销进行固定，以保证内衬位于准确的位置。进一步优选地，定位销孔均匀分布在凸缘上，例如是均匀分布在圆周的四分点上的四个定位销孔，以增强稳定性。

本实用新型还提供一种等离子体刻蚀机反应腔，设有基片进出口、抽气孔，以可拆卸的方式安装有上述任一实施方式的等离子体刻蚀机反应腔的内衬。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种等离子体刻蚀机反应腔的内衬，以可拆卸的方式固定于所述等离子体刻蚀机反应腔的内壁，其特征在于，

包括与等离子体刻蚀机反应腔的内壁相贴合的柱形侧壁，所述柱形侧壁设有与等离子体刻蚀机反应腔基片进出口位置对应的开口、以及与等离子体刻蚀机反应腔的抽气孔位置对应的匀流通路。

2.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机反应腔的内衬，其特征在于，

所述柱形侧壁的顶部设有凸缘，以配合安装于等离子体刻蚀机反应腔的上表面台阶处。

3.根据权利要求2所述的等离子体刻蚀机反应腔的内衬，其特征在于，

所述凸缘和所述等离子体刻蚀机反应腔的上表面台阶处对应设置有定位销孔。

4.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机反应腔的内衬，其特征在于，

所述柱形侧壁设置有与等离子体刻蚀机反应腔观察窗位置对应的观察孔。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的等离子体刻蚀机反应腔的内衬，其特征在于，

所述柱形侧壁为铝合金材质。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的等离子体刻蚀机反应腔的内衬，其特征在于，

所述匀流通路包括多个均匀分布的通孔。

7.根据权利要求6所述的等离子体刻蚀机反应腔的内衬，其特征在于，

所述通孔的横截面为圆形、椭圆形或多边形。

8.根据权利要求1～4中任一项所述等离子体刻蚀机反应腔的内衬，其特征在于，

所述匀流通路包括抽气栅格结构。

9.根据权利要求8所述的等离子体刻蚀机反应腔的内衬，其特征在于，

所述抽气栅格结构为均匀分布的向所述柱形侧壁顶部和底部延伸的长槽。

10.一种等离子体刻蚀机反应腔，设有基片进出口、抽气孔，其特征在于，

以可拆卸的方式安装有权利要求1～9中任一项所述的等离子体刻蚀机反应腔的内衬。