CN206408121U - 一种双银低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种双银低辐射镀膜玻璃，一种双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基体、镀设在所述玻璃基体表面上的膜层，所述膜层由第一介质层、第一功能层、第一阻挡层、第二介质层、第二功能层、第二阻挡层及第三介质层自所述玻璃基体的表面向外依次层叠组成，其中，所述第一功能层的厚度与第二功能层的厚度之间的比值为1:3.6～1:6，所述第一介质层的厚度与第二介质层的厚度之间的比值为1:1.22～1:6；所述第一介质层的厚度与所述第三介质层的厚度之间的比值为1:0.8～1:3。光在经过膜层时，干涉影响降低，从而解决了不同角度观察玻璃时颜色不一致的问题，使用该玻璃制成的幕墙玻璃美观度得到提高。

Description

一种双银低辐射镀膜玻璃

技术领域

本实用新型涉及一种双银低辐射镀膜玻璃。

背景技术

低辐射玻璃又称Low-E玻璃，是通过磁控真空溅射的方法，在优质浮法玻璃表面均匀地镀上特殊的金属膜系，极大地降低了玻璃表面辐射率，玻璃辐射率能够从0.84降低到0.04～0.12，并提高了玻璃的光谱选择性。由Low-E玻璃组合而成的中空玻璃产品，可见光可有效地透过膜系和玻璃，肉眼看不见的红外线80％以上被膜系反射，特别是远红外线几乎完全被其反射回去而不透过玻璃，既保持了室内明亮，又在一定程度上减少了室内热负荷。Low-E玻璃还可以大幅度降低玻璃的紫外线透过率，防止有机物老化、织物褪色等问题。

低辐射玻璃从性能上主要分为单银Low-E、双银Low-E和三银Low-E，分别是在优质浮法玻璃表面镀上氮化硅、氧化锌、氧化锡等介质薄膜和银等功能薄膜，从而达到所需要的光学性能和视觉颜色效果。

单银Low-E产品主要有5层纳米级光学薄膜组成，其中只有一层功能层，在不同角度观察单银Low-E中空产品，由于光干涉影响不大，因而不会表现出明显的不同角度颜色不一致的问题。而双银Low-E产品是在单银Low-E产品上的性能升级，一般使用7至8层光学薄膜，为达到所需的光学性能，将膜层设计成两层功能层，并在两层功能层之间穿插介质层设计，这种设计将光的干涉路径变得十分复杂，在不同角度观察双银Low-E中空产品时，光的干涉路径又会发生转变，由于光的干涉路径转变，造成最终在不同角度观察的双银Low-E中空产品颜色不同。

现有技术中，幕墙玻璃为达到需要的节能效果，一般采用Low-E镀膜玻璃，双银Low-E镀膜产品的节能效果远远高于单银Low-E而在市场上广泛应用。但是，双银Low-E由于膜层使用层次较多、膜层较厚，不同角度观察时，由于光的干涉路径发生变化，所以不同角度会表现出不同颜色，即所谓的侧面变色。此种观察角度不同引发的颜色差异，会影响幕墙建筑的美观。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种双银低辐射镀膜玻璃，其在不同角度观察时的颜色差异小，能够大幅提高玻璃的观赏美观度。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基体、镀设在所述玻璃基体表面上的膜层，所述膜层由第一介质层、第一功能层、第一阻挡层、第二介质层、第二功能层、第二阻挡层及第三介质层自所述玻璃基体的表面向外依次层叠组成，其中，所述第一功能层的厚度与第二功能层的厚度之间的比值为1:3.6～1:6，所述第一介质层的厚度与第二介质层的厚度之间的比值为1:1.22～1:6；所述第一介质层的厚度与所述第三介质层的厚度之间的比值为1:0.8～1:3。

优选地，所述第一功能层的厚度为1nm～5nm，所述第二功能层的厚度为10nm～20nm。

进一步地，所述第一功能层、所述第二功能层均为银层。

优选地，所述第一介质层、所述第三介质层的厚度为30nm～60nm。

进一步地，所述第二介质层的厚度为50nm～80nm。

优选地，所述第一介质层、第二介质层及第三介质层均为金属氧化层或氮化硅层。

进一步地，所述第一介质层、第二介质层均为氧化锌层，所述第三介质层为氮化硅层。

优选地，所述第一阻挡层、第二阻挡层均为镍铬层，且所述第一阻挡层、第二阻挡层的厚度为1nm～5nm。

优选地，所述第一介质层、第一功能层、第一阻挡层、第二介质层、第二功能层、第二阻挡层及第三介质层依次通过磁控溅射而镀设在所述玻璃基体的表面上。

由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：本实用新型的双银低辐射镀膜玻璃，通过优化第一功能层与第二功能层之间的厚度比例，以及第一介质层与第二介质层之间的厚度比、第一介质层与第三介质层之间的厚度比值，使得光在经过膜层时，干涉影响降低，从而解决了不同角度观察玻璃时颜色不一致的问题，使用该玻璃制成的幕墙玻璃美观度得到提高。

附图说明

附图1为本实用新型的双银低辐射镀膜玻璃的结构示意图；

附图2为侧面观察玻璃时光线与玻璃的夹角示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体的实施例来对本实用新型的技术方案作进一步的阐述。

参见图1所示为本实用新型中双银低辐射镀膜玻璃的结构示意图，其由玻璃基体1和镀设在玻璃基体1表面上的膜层10组成，该膜层10由第一介质层2、第一功能层3、第一阻挡层4、第二介质层5、第二功能层6、第二阻挡层7以及第三介质层8自玻璃基体1的表面向外依次层叠组成，且上述的各层是通过磁控溅射的方式依次镀设在玻璃基体1的表面上的。

膜层10的各层中，第一功能层3与第二功能层5均为银层，第一功能层的厚度为1nm～5nm，第二功能层的厚度为10nm～20nm，且第一功能层3的厚度与第二功能层6的厚度比值控制在1:3.6～1:6之间。

膜层10的各层中，第一介质层2、第二介质层5、第三介质层8采用如氧化锌的金属氧化层或氮化硅层，其可以为单一材料形成的一层，也可以为由金属氧化层与氮化硅层组合而成的多层。在这里优选地，第一介质层2与第二介质层5均采用氧化锌层，第三介质层8则采用具有保护作用的氮化硅层。

第一介质层2、第三介质层8的优选厚度均为30nm～60nm，且第一介质层2的厚度与第三介质层8的厚度比值控制在1:0.8～1:3之间；第二介质层5的优选厚度为50nm～80nm。

该双银低辐射镀膜玻璃的各膜层中，第一阻挡层4与第二阻挡层7均为镍铬层，且第一阻挡层4与第二阻挡层7的厚度均为1nm～5nm。

通过上述设计，当从不同角度观察时，光在经过膜层10时，干涉影响降低，从而能够解决不同角度观察颜色不一致的问题，提高玻璃的观赏美观度。

以下给出具体的实施例来予以说明：

实施例1

如表1给出了本实施例中玻璃上膜层10中各层结构及厚度值，具体如下：

表1

其中，ZnOx与SiNx中的x是指正数，仅为表示其为氧化锌物质或氮化硅物质。

该膜层10中：

第一功能层3的厚度/第二功能层6的厚度＝1：5.21875；

第一介质层2的厚度/第二介质层5的厚度＝1：1.33525；

第一介质层2的厚度/第三介质层8的厚度＝1:0.91188。

根据LAB色彩模型，计算不同角度观察玻璃时的色差，便可反应出玻璃的侧面变色程度，此处以人眼最为敏感的红绿光色差进行评价，正面观察时的颜色值、侧面观察时的颜色值，以及色差数据如表1所示。其中，正面观察是指θ＝10°时的大致正面进行的观察，而侧面观察则指的是θ＝60°时的观察。

从表1中可知，侧面观察与正面观察时的Δa*仅为0.4，这相比现有技术中的双银镀膜玻璃上的Δa*值(通常大于2.5)大幅减小，也就是说，正面观察到的颜色与侧面观察到的颜色基本相同。

实施例2

如表2，该玻璃上膜层10中各层结构及厚度值如下：

表2

该膜层10中：

第一功能层3的厚度/第二功能层6的厚度＝1：3.610；

第一介质层2的厚度/第二介质层5的厚度＝1:1.48；

第一介质层2的厚度/第三介质层8的厚度＝1:1.1957。

侧面观察与正面观察时的Δa*＝0.5。

这相比现有技术中的双银镀膜玻璃上的Δa*值(通常大于2.5)也大幅减小。

实施例3

如表3，该玻璃上膜层10中各层结构及厚度值如下：

表3

该膜层10中：

第一功能层3的厚度/第二功能层6的厚度＝1：4.0735；

第一介质层2的厚度/第二介质层5的厚度＝1:1.4082；

第一介质层2的厚度/第三介质层8的厚度＝1:0.9776。

侧面观察与正面观察时的Δa*＝0.1。

这相比现有技术中的双银镀膜玻璃上的Δa*值(通常大于2.5)也大幅减小。

综上，本实用新型的双银低辐射镀膜玻璃，通过优化第一功能层3与第二功能层6之间的厚度比例，以及第一介质层2与第二介质层5之间的厚度比值、第一介质层2与第三介质层8之间的厚度比值，使得光在经过膜层10时，干涉影响降低，从而解决了不同角度观察玻璃时颜色不一致的问题，使用该玻璃制成的幕墙玻璃美观度得到提高。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基体、镀设在所述玻璃基体表面上的膜层，其特征在于：所述膜层由第一介质层、第一功能层、第一阻挡层、第二介质层、第二功能层、第二阻挡层及第三介质层自所述玻璃基体的表面向外依次层叠组成，其中，所述第一功能层的厚度与第二功能层的厚度之间的比值为1:3.6～1:6，所述第一介质层的厚度与第二介质层的厚度之间的比值为1:1.22～1:6；所述第一介质层的厚度与所述第三介质层的厚度之间的比值为1:0.8～1:3。

2.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一功能层的厚度为1nm～5nm，所述第二功能层的厚度为10 nm～20nm。

3.根据权利要求2所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一功能层、所述第二功能层均为银层。

4.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层、所述第三介质层的厚度为30 nm～60nm。

5.根据权利要求4所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二介质层的厚度为50 nm～80nm。

6.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层、第二介质层及第三介质层均为金属氧化层或氮化硅层。

7.根据权利要求6所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层、第二介质层均为氧化锌层，所述第三介质层为氮化硅层。

8.根据权利要求1所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一阻挡层、第二阻挡层均为镍铬层，且所述第一阻挡层、第二阻挡层的厚度为1 nm～5nm。

9.根据权利要求1至8任一所述的双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层、第一功能层、第一阻挡层、第二介质层、第二功能层、第二阻挡层及第三介质层依次通过磁控溅射而镀设在所述玻璃基体的表面上。