CN204955584U - 玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃 Download PDF

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Abstract

本实用新型涉及玻璃技术领域,具体公开了一种玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板和功能膜层;所述功能膜层包括从所述玻璃基板的一表面向外依次层叠结合的第一电介质膜层、铜膜层、第一保护膜层、第二电介质膜层、银膜层、第二保护膜层和第三电介质膜层。本实用新型外观呈玫瑰金色。通过采用一铜一银替代双银膜层,降低了银膜层氧化的几率,提高产品的抗氧化性能和耐磨性,且两层保护膜层的结构,也可以有效防止银膜层在生产和使用过程中发生氧化;同时,铜替代银,也可以降低生产成本。

Description

玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃
技术领域
本实用新型涉及玻璃技术领域,尤其涉及一种玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃。
背景技术
普通单片玻璃具有阳光通过率一般,红外反射率低、隔热隔音性能差等特点,用于幕墙中,大部分阳光可以透过玻璃而进入室内,使室内物体温度升高,这些能量又会以辐射的形式通过玻璃散失,因此普通玻璃节能性能有待改善。鉴于此,具有良好透光性、保温性、隔热隔音性能的低辐射镀膜玻璃应运而生。
低辐射镀膜玻璃是由玻璃基板和镀膜层构成,该类型玻璃通过镀膜层改变玻璃的光学和热力学性能,以达到具有节能的作用。其镀膜层一般为在玻璃表面镀上特殊的金属或其他化合物。
随着经济和社会的不断飞跃发展,人们的品味也越来越高,市场对低辐射镀膜玻璃的要求也越来越高,不仅要求其具有较高的安全性、较强的实用性,更对玻璃外观颜色的多样性提出了更多要求。目前市场上出现了双银镀膜玻璃,该类型镀膜玻璃结构为在玻璃基片的一侧由内向外依次设置第一介质层、银膜层、第一阻挡层、第二阻挡层、银膜层、第二阻挡层及第三介质层。双银镀膜玻璃具有透过色呈蓝绿色的特点。但是这类型镀膜玻璃存在外观颜色单调、透过该镀膜玻璃观察景物会发生变色、且双银抗氧化性和耐磨性差等问题。
针对上述双银镀膜玻璃存在的透过该镀膜玻璃观察景物会发生变色的问题,中国专利(申请号为201010296018.2)公布了一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片,从所述玻璃基片一侧向外依次设置有第一介质层、铜膜层、第一阻挡层、第二介质层、银膜层、第二阻挡层及第三介质层,且所述第一介质层、第二介质层及第三介质层为ZnSnOx膜层或者SnOx膜层或者ZnOx膜层或者SiNx膜层;所述第一阻挡层、第二阻挡层为NiCr膜层或NiCrOx膜层。通过采用一层铜膜层的设计,获得透过色呈中性色的低辐射镀膜玻璃,透过该低辐射镀膜玻璃观察到的景物颜色不改变,且铜和银的特性使得该低辐射镀膜玻璃对远红外线的放射率获得极大提高。但是该发明提供的玻璃依旧存在玻璃外观色彩单调的问题。
实用新型内容
本实用新型实施例提供一种玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,目的在于克服现有产品不能同时克服抗氧化性能差、耐磨性能差以及外观颜色单调等问题。
为达到上述实用新型目的,本实用新型实施例采用的技术方案如下:
一种玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板和功能膜层;
所述功能膜层包括从所述玻璃基板的一表面向外依次层叠结合的第一电介质膜层、铜膜层、第一保护膜层、第二电介质膜层、银膜层、第二保护膜层和第三电介质膜层。
作为优选地,所述第一电介质膜层和第二电介质膜层分别为ZnO膜层、SnOx膜层、ZnSnOx膜层中的任一种。
作为优选地,所述第一保护膜层和第二保护膜层分别为NiCr膜层、NiCrOx膜层中的任一种。
作为优选地,所述第三电介质膜层为SiNx膜层、ZnO膜层与SiNx膜层构成的双膜层中的任一种。
作为优选地,所述ZnO膜层与SiNx膜层构成的双膜层中,所述ZnO膜层与所述SiNx膜层顺次层叠,所述ZnO膜层叠设于第二保护膜层的表面。
作为优选地,所述第一电介质膜层、第一功能膜层、第一次保护膜层、第二电介质膜层、第二功能膜层、第二保护膜层和第三电介质膜层的厚度分别为13.1~39.5nm、10.2~19.1nm、1~3.4nm、41.3~75.3nm、4.5~8.3nm、1~3.7nm和26.9~47.1nm。
作为优选地,所述玻璃基板为浮法玻璃板。
上述实施例的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃外观呈玫瑰金色。通过采用一铜一银替代双银膜层,降低了银膜层氧化的几率,提高产品的抗氧化性能和耐磨性,且两层保护膜层的结构,也可以有效防止银膜层在生产和使用过程中发生氧化;同时,铜替代银,也可以降低生产成本。
附图说明
图1本实用新型提供的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃结构示意图
图2(a)、2(b)、2(c)为本实用新型实施例1的膜层光谱曲线示意图;
图3(a)、3(b)、4(c)为本实用新型实施例2的膜层光谱曲线示意图;
图4(a)、4(b)、4(c)为本实用新型实施例3的膜层光谱曲线示意图;
图5(a)、5(b)、6(c)为本实用新型实施例4的膜层光谱曲线示意图;
图6(a)、6(b)、6(c)为本实用新型实施例5的膜层光谱曲线示意图;
图7(a)、7(b)、7(c)为本实用新型实施例6的膜层光谱曲线示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
如附图1所示。本实用新型实施例提供了一种玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,该玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板1和功能膜层2;
所述功能膜层2包括从所述玻璃基板1一表面向外依次层叠结合的第一电介质膜层21、铜膜层22、第一保护膜层23、第二电介质膜层24、银膜层25、第二保护膜层26和第三电介质膜层27。
其中,
在任一实施例中,玻璃基板1采用采用浮法玻璃板。
在任一实施例中,第一电介质膜层21均匀沉积于玻璃基板1的一表面,沉积的厚度为13.1~39.5nm。该膜层采用ZnO、SnOx、ZnSnOx三种材料中任一种进行沉积,形成叠设于玻璃基板1的ZnO膜层或SnOx膜层或ZnSnOx膜层。在一实施例中,第一电介质膜层采用ZnO或SnOx或ZnSnOx材料作为膜层,能够阻止玻璃基板中的Na+向膜层中渗透;控制膜系的光学性能和颜色;增加膜层和玻璃基板1之间的吸附力。
在任一实施例中,铜膜层22均匀沉积于第一电介质膜层21的表面;沉积的厚度为10.2~19.1nm。铜膜层22具有降低辐射率、增强保温或隔热性能、控制膜系的光学性能和颜色的作用。
在任一实施例中,第一保护膜层23均匀沉积于铜膜层22的表面,沉积的厚度为1~3.4nm。该第一保护膜层23采用NiCr、NiCrOx中的任一种材料进行沉积,形成NiCr膜层或NiCrOx膜层。在任一实施例中,第一保护膜层23采用NiCr或NiCrOx作为膜层,具有保护铜膜层22不被氧化并控制膜系的光学性能和颜色的作用。
在任一实施例中,第二电介质膜层24均匀沉积于第一保护膜层23的表面,沉积的厚度为41.3~75.3nm。该第二电介质膜层24采用ZnO、SnOx、ZnSnOx中的任一种材料进行沉积,形成ZnO膜层或SnOx膜层或ZnSnOx。在一实施例中,第二电介质膜层24采用ZnO或SnOx或ZnSnOx作为膜层,能够减少氧化,提高物理和化学性能;控制膜系的光学性能和颜色,为进一步的沉积提供吸附着力点。
在任一实施例中,银膜层25均匀沉积于第二电介质膜层24的表面,沉积的厚度为4.5~8.3nm。银膜层25具有降低红外透过、降低辐射率、增强保温或隔热性能的作用。
在任一实施例中,第二保护膜层26均匀沉积于银膜层25表面,沉积的厚度为1~3.7nm。该第二保护膜层26采用NiCr、NiCrOx中的任一种材料进行沉积,形成NiCr膜层或NiCrOx膜层。在任一实施例中,第二保护膜层26采用NiCr或NiCrOx作为膜层,可以保护银膜层25不被氧化并控制膜系的光学性能和颜色的作用。
在任一实施例中,第三电介质膜层27均匀沉积于第二保护膜层26的表面,沉积的厚度为26.9~47.1nm。该第三电介质膜层27采用SiNx材料进行沉积,形成叠设于第二保护膜层26上的第三电介质膜层27;或者先后采用ZnO、SiNx材料依次进行沉积,形成叠设于第二保护膜层26上的第三电介质层27,此时第三电介质层27由ZnO膜层和SiNx膜层构成双层结构。在任一实施例中,该第三电介质膜层27可起到保护整个膜层结构、降低氧化、提高物理和化学性能、控制膜系的光学性能和颜色的作用。
本实用新型实施例提供的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃外观呈玫瑰金色。采用一铜一银替代双银膜层作为功能层,可以有效降低银膜层氧化的几率,提高产品的抗氧化性能和耐磨性,且两层保护膜层的结构,也可以有效防止银膜层在生产和使用过程中发生氧化;同时,铜替代银,也可以降低生产成本
本实用新型实施例还提供本实用新型功能膜层2沉积的一个加工过程,具体如下所述:
首先,清洗浮法玻璃基板,将清洗后的浮法玻璃基板送入真空室,控制真空室真空度为5×10-6mbar以上;
第二,控制溅射真空度为2×10-3mbar~5×10-3mbar,在浮法玻璃基板上依次沉积如下厚度的膜层:13.1~39.5nm的第一电介质膜层21;10.2~19.1nm的铜膜层22、1~3.4nm的第一保护膜层23、41.3~75.3nm的第二电介质膜层24、4.5~8.3nm的银层25、1~3.7nm的第二保护膜层26、26.9~47.1nm的第三电介质膜层27。
其中,
第一电介质膜层21和第二电介质膜层23沉积时,均通过旋转交流阴极的锌铝靶在氩、氧氛围中溅射,锌铝靶的质量比Zn:Al=98:2,氩气与氧气的流量比为3:4;
铜膜层22沉积时,通过直流平面阴极的铜靶在氩气氛围中溅射;
第一保护膜层23和第二保护膜层26沉积时,均通过直流平面阴极镍铬靶在氩气氛围中溅射,镍铬靶的质量比Ni:Cr=80:20;
银膜层25沉积时,通过直流平面阴极的银靶在氩气氛围中溅射;
第三电介质27沉积时,通过旋转交流阴极的硅铝靶在氩、氮氛围中溅射,硅铝靶的质量比Si:Al=92:8,氩气与氮气的流量比为1:1。
本实用新型上述实施例提供的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃的加工过程,加工控制精准,能够有效保证玫瑰金色的一致性。
以下通过多个实施例举例说明本实用新型玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃及其加工过程。
实施例1
玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,包含玻璃基板和功能膜层,该功能膜层由从玻璃基板一表面由内到外依次沉积有29.1nm的第一电介质膜层、16nm的铜膜层、1.8nm的第一保护膜层、74.7nm的第二电介质膜层、6.4nm的银膜层、3.3nm的第二保护膜层和39nm的第三电介质膜层构成。
其加工过程为按照上述加工方法在玻璃基板一表面上依次沉积有如下厚度的膜层,第一电介质膜层(ZnO)29.1nm、铜膜层(Cu)16nm、第一保护膜层(NiCr)1.8nm、第二电介质膜层(ZnO)74.7nm、银膜层(Ag)6.4nm、第二保护膜层(NiCr)3.3nm、第三电介质膜层(SiNx)39nm,其外观颜色如表1所示,光谱曲线如附图2(a)、2(b)、2(c)所示。
实施例2
玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,包含玻璃基板和功能膜层,该功能膜层由从玻璃基板一表面由内到外依次沉积有34.8nm的第一电介质膜层、19.1nm的铜膜层、1.0nm的第一保护膜层、48.5nm的第二电介质膜层、6.6nm的银膜层、2.6nm的第二保护膜层和26.9nm的第三电介质膜层构成。
其加工过程为按照上述加工方法在玻璃基板一表面上依次沉积有如下厚度的膜层,第一电介质膜层(ZnO)34.8nm、铜膜层(Cu)19.1nm、第一保护膜层(NiCr)1.0nm、第二电介质膜层(ZnO)48.5nm、银膜层(Ag)6.6nm、第二保护膜层(NiCr)2.6nm、第三电介质膜层(SiNx)26.9nm,其外观颜色如表1所示,光谱曲线如附图3(a)、3(b)、3(c)所示。
实施例3
玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,包含玻璃基板和功能膜层,该功能膜层由从玻璃基板一表面由内到外依次沉积有39.5nm的第一电介质膜层、10.2nm的铜膜层、1.6nm的第一保护膜层、41.3nm的第二电介质膜层、8.3nm的银膜层、3.4nm的第二保护膜层和35.4nm的第三电介质膜层构成。
其加工过程为按照上述加工方法在玻璃基板一表面上依次沉积有如下厚度的膜层,第一电介质膜层(ZnO)39.5nm、铜膜层(Cu)10.2nm、第一保护膜层(NiCr)1.6nm、第二电介质膜层(ZnO)41.3nm、银膜层(Ag)8.3nm、第二保护膜层(NiCr)3.4nm、第三电介质膜层(ZnO+SiNx)35.4nm,其外观颜色如表1所示,光谱曲线如附图4(a)、4(b)、4(c)所示。
实施例4
玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,包含玻璃基板和功能膜层,该功能膜层由从玻璃基板一表面由内到外依次沉积有13.1nm的第一电介质膜层、13.9nm的铜膜层、3.4nm的第一保护膜层、67.5nm的第二电介质膜层、8.2nm的银膜层、1.5nm的第二保护膜层和47.1nm的第三电介质膜层构成。
其加工过程为按照上述加工方法在玻璃基板一表面上依次沉积有如下厚度的膜层,第一电介质膜层(ZnO)13.1nm、铜膜层(Cu)13.9nm、第一保护膜层(NiCr)3.4nm、第二电介质膜层(ZnO)67.5nm、银膜层(Ag)8.2nm、第二保护膜层(NiCr)1.5nm、第三电介质膜层(SiNx)47.1nm,其外观颜色如表1所示,光谱曲线如附图5(a)、5(b)、5(c)所示。
实施例5
玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,包含玻璃基板和功能膜层,该功能膜层由从玻璃基板一表面由内到外依次沉积有18.9nm的第一电介质膜层、14.5nm的铜膜层、3.4nm的第一保护膜层、75.3nm的第二电介质膜层、6.0nm的银膜层、1.0nm的第二保护膜层和45.8nm的第三电介质膜层构成。
其加工过程为按照上述加工方法在玻璃基板一表面上依次沉积有如下厚度的膜层,第一电介质膜层(ZnO)18.9nm、铜膜层(Cu)14.5nm、第一保护膜层(NiCr)3.4nm、第二电介质膜层(ZnO)75.3nm、银膜层(Ag)6.0nm、第二保护膜层(NiCr)1.0nm、电介质膜层(SiNx)45.8nm,其外观颜色如表1所示,
光谱曲线如附图6(a)、6(b)、6(c)所示。
实施例6
玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,包含玻璃基板和功能膜层,该功能膜层由从玻璃基板一表面由内到外依次沉积有22.3nm的第一电介质膜层、13.2nm的铜膜层、1.7nm的第一保护膜层、75.3nm的第二电介质膜层、4.5nm的银膜层、3.7nm的第二保护膜层和39.3nm的第三电介质膜层构成。
其加工过程为按照上述加工方法在玻璃基板一表面上依次沉积有如下厚度的膜层,第一电介质膜层(ZnO)22.3nm、铜膜层(Cu)13.2nm、第一保护膜层(NiCr)1.7nm、第二电介质膜层(ZnO)75.3nm、银膜层(Ag)4.5nm、第二保护膜层(NiCr)3.7nm、第三电介质膜层(SiNx)39.3nm,其外观颜色如表1所示,光谱曲线如附图7(a)、7(b)、7(c)所示。
表1实施例1~6中玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃外观颜色
其中,上表1中字母的含义如下
G:表示镀膜玻璃的玻璃面;R*g:表示镀膜玻璃玻璃面的反射率;a*g,b*g:表示镀膜玻璃玻璃面的颜色值(a*g越正表示颜色越红,a*g越负表示颜色越绿;b*g越正表示颜色越黄,b*g越负表示颜色越蓝);L*g:表示镀膜玻璃玻璃面的亮度。
F:表示镀膜玻璃的镀膜面;R*f:表示镀膜玻璃膜面的反射率;a*f,b*f:表示镀膜玻璃膜面的颜色值(a*f越正表示颜色越红,a*f越负表示颜色越绿;b*f越正表示颜色越黄,b*f越负表示颜色越蓝);L*f:表示镀膜玻璃膜面的亮度。
T:表示镀膜玻璃的透过;Tr:表示镀膜玻璃的透过率;a*T,b*T:表示镀膜玻璃透过的颜色值(a*T越正表示颜色越红,a*T越负表示颜色越绿;b*T越正表示颜色越黄,b*T越负表示颜色越蓝);L*T:表示镀膜玻璃透过的亮度。
从表1中可知,本实用新型实施例所提供的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃的玫瑰色反射率R*g在14~22之间,玫瑰金色反射适中;玻璃面颜色值a*g在13~18之间,而b*g在4~8之间,这两个玻璃面的颜色值使得反射出的颜色与玫瑰金趋近相同,实现了本实用新型的呈现玫瑰金色外观的目的;玻璃的透过率在28~38之间,在该透过率范围内,玫瑰金色的玻璃颜色效果明显。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:包括玻璃基板和功能膜层;
所述功能膜层包括从所述玻璃基板的一表面向外依次层叠结合的第一电介质膜层、铜膜层、第一保护膜层、第二电介质膜层、银膜层、第二保护膜层和第三电介质膜层。
2.如权利要求1所述的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一电介质膜层和第二电介质膜层分别为ZnO膜层、SnOx膜层、ZnSnOx膜层中的任一种。
3.如权利要求1~2任一所述的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一保护膜层和第二保护膜层分别为NiCr膜层、NiCrOx膜层中的任一种。
4.如权利要求1~2任一所述的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第三电介质膜层为SiNx膜层、ZnO膜层与SiNx膜层构成的双膜层中的任一种。
5.如权利要求4所述的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述ZnO膜层与SiNx膜层构成的双膜层中,所述ZnO膜层与所述SiNx膜层顺次层叠,所述ZnO膜层叠设于第二保护膜层的表面。
6.如权利要求1~2任一所述的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一电介质膜层、第一功能膜层、第一次保护膜层、第二电介质膜层、第二功能膜层、第二保护膜层和第三电介质膜层的厚度分别为13.1~39.5nm、10.2~19.1nm、1~3.4nm、41.3~75.3nm、4.5~8.3nm、1~3.7nm和26.9~47.1nm。
7.如权利要求6所述的玫瑰金色铜银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述玻璃基板为浮法玻璃板。
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