CN206312943U - 阻隔膜、oled器件及显示器 - Google Patents
阻隔膜、oled器件及显示器 Download PDFInfo
- Publication number
- CN206312943U CN206312943U CN201621355994.XU CN201621355994U CN206312943U CN 206312943 U CN206312943 U CN 206312943U CN 201621355994 U CN201621355994 U CN 201621355994U CN 206312943 U CN206312943 U CN 206312943U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- obstruct membrane
- substrate
- aqueous vapor
- separation layer
- vapor separation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 87
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 40
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 7
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 6
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 31
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 14
- 238000005452 bending Methods 0.000 abstract description 13
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 74
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920001621 AMOLED Polymers 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 241000209094 Oryza Species 0.000 description 2
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 2
- -1 Polyethylene Terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 2
- 229920002972 Acrylic fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 208000026106 cerebrovascular disease Diseases 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005622 photoelectricity Effects 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
一种阻隔膜、OLED器件及显示器,阻隔膜包括衬底及设置在所述衬底表面的水汽阻隔层,所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置有凹凸部。上述阻隔膜,通过在所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置凹槽,能够降低所述阻隔膜的应力,在所述阻隔膜弯曲时不会产生挤压,使得所述阻隔膜的可折叠性能、弯曲性能较好,从而提高了所述阻隔膜的柔性性能,柔性性能较好。所述凹槽通过刻蚀工艺或者采用半镂空的掩模板工艺等即可完成,工艺简单,且成本较低。
Description
技术领域
本实用新型涉及膜技术领域,特别是涉及一种阻隔膜与包含该阻隔膜的OLED器件及显示器。
背景技术
目前,在电子和光器件领域,一些产品在完成之后需要在其表面贴附阻隔膜,以阻隔水汽等的进入,从而保证产品的性能。而无机物的阻水汽性能较好,常常被应用于阻隔膜,下简称无机物阻隔膜。无机物阻隔膜因其硬度高、化学稳定性好、热稳定性优良以及具有良好的绝缘性而得到广泛应用。常应用于阻隔膜的无机物阻隔膜有氮化硅(SiNx),氧化硅等。
然而,无机物阻隔膜通常是使用气相沉积法将无机物沉积在衬底上形成水汽阻隔膜,在沉积的过程中产生的残余应力,使得无机物阻隔膜的应力较大,这也成为了限制无机物阻隔膜运用的一个关键因素。无机物阻隔膜经过多次弯折,或者弯折半径小的情况下,容易出现裂缝以及缺陷密度的增加等问题,从而导致产品性能的衰减。
目前,有以下几类方案来调控无机阻隔膜的应力。一种方案为,精细优化成膜条件,然而,成膜过程需要控制较多的工艺参数,使得优化过程非常复杂,且在将阻隔膜的应力优化至目标数值时,阻隔膜的其他性能也会发生改变或者减小,比如薄膜质量,杨氏模量,薄膜硬度,光学带隙等。另一种方案是修改薄膜沉积系统,例如,催化CVD(catalytical-CVD,catalytical cerebrovascular disease,催化化学气相沉积)和双频率PECVD(dual-frequency PECVD,Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,双频率等离子体增强化学气相沉积法)技术,然而这种方案成本太高,并且会对沉积的薄膜产生负面的影响,如,会掺杂杂质进入阻隔膜,使得阻隔膜的阻水汽性能较差。又一种方案是,在无机物层上面叠层设置有机物来改善无机物阻隔膜的应力性能,这样可以部分缓解无机物阻隔膜的高应力,但是有机物和无机物的性能不同,经过长时间放置或者长时间的弯折、折叠等操作后,有机物和无机物结合的界面处性能都会发生很大变化,使得阻隔膜的应力依旧较大。
上述调控阻隔膜应力的方案仍然存在着应力较大而使得阻隔膜的柔性性能较差的问题。此外,上述方案的工艺繁琐复杂,成本较高。
实用新型内容
基于此,有必要提供一种柔性性能较好、工艺简单及成本较低的阻隔膜、OLED器件及显示器。
一种阻隔膜,包括衬底及设置在所述衬底表面的水汽阻隔层,所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置有凹凸部。
在其中一个实施例中,所述水汽阻隔层为氮化硅层、氧化硅层或氧化铝层。
在其中一个实施例中,所述凹凸部包括凹槽和凸起中至少一种。
在其中一个实施例中,所述凹凸部设置有多个凹槽,所述多个凹槽呈矩形阵列分布于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上。
在其中一个实施例中,所述多个凹槽具有圆形开口或多边形开口。
在其中一个实施例中,所述多边形包括三角形、长方形、正方形、正五边形、正六边形和正八边形中的至少一种。
在其中一个实施例中,所述凹槽的深度为所述水汽阻隔层厚度的1%~10%。
在其中一个实施例中,还包括聚甲基丙烯酸甲酯层,所述聚甲基丙烯酸甲酯层设置于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上。
一种OLED器件,其具有如上任一项所述的阻隔膜。
一种显示器,包括显示屏及如上任一实施例所述的阻隔膜,所述阻隔膜设置于所述显示屏外表面。
在其中一个实施例中,所述显示屏为OLED显示屏。
上述阻隔膜,通过在所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置凹凸部,能够降低所述阻隔膜的应力,在所述阻隔膜弯曲时不会产生挤压,使得所述阻隔膜的可折叠性能、弯曲性能较好,从而提高了所述阻隔膜的柔性性能。所述凹凸部通过刻蚀工艺或者采用半镂空的掩模板(mask)工艺等即可完成,工艺简单,且成本较低。
附图说明
图1为本实用新型一实施方式的阻隔膜的结构示意图;
图2为本实用新型另一实施方式的阻隔膜的结构示意图;
图3为本实用新型又一实施方式的阻隔膜的结构示意图;
图4为本实用新型又一实施方式的阻隔膜的结构示意图;
图5为本实用新型又一实施方式的阻隔膜的结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本实用新型,下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是,本实用新型可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施方式。相反地,提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
例如,一种阻隔膜,包括衬底及设置在所述衬底表面的水汽阻隔层,所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置有凹凸部。本实用新型还提供一种显示器,所述显示器包括显示屏及所述阻隔膜。又如,所述显示屏为OLED(OrganicLight-Emitting Diode,有机发光二极管)显示屏。又如,所述显示屏为AMOLED(Active-matrix organic light emittingdiode,有源矩阵有机发光二极体)显示屏。又如,所述显示屏为柔性显示屏。又如,所述显示屏为柔性OLED显示屏。
为了进一步理解上述阻隔膜,又一个例子是,请参阅图1,阻隔膜10包括衬底100及设置在所述衬底表面的水汽阻隔层200,所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置有凹凸部(图未示)。又如,所述凹凸部为凹槽,具体的,请再次参阅图1,所述水汽阻隔层200远离所述衬底100的表面上设置有凹槽210。又如,所述凹凸部为凸起。又如,所述凹凸部包括凹槽和凸起中至少一种。又如,所述凹凸部为相间设置的凹槽和凸起。又如,所述凹凸部设置有多个凹槽,所述多个凹槽呈矩形阵列分布于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上,这样,能够有效预防与避免经过多次弯折,或者弯折半径小的情况下会出现裂缝的问题,进一步避免了微电子和光电器件性能的衰减。又如,所述凹凸部设置有多个凸起,所述多个凸起呈矩形阵列分布于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上。
所述凹凸部是通过刻蚀工艺或者采用半镂空的掩模板(mask)制备得到。
需要说明的是,水汽阻隔层的厚度也会对其应力产生较大的影响,厚度较小,会影响水汽阻隔层本身的阻隔水汽的能力,厚度太高,又会产生较大的应力,容易在弯折时出现折痕或者断裂的问题,例如,所述水汽阻隔层的厚度为500纳米~1000纳米。又如,所述水汽阻隔层的厚度为500纳米、550纳米、600纳米、650纳米、700纳米、750纳米、800纳米、850纳米、900纳米、950纳米和1000纳米中的一种,这样,能够减少水汽阻隔层的应力,还能够减少发生其在弯折时出现折痕或者断裂的问题。又如,所述衬托为PET(Polyethyleneterephthalate,聚对苯二甲酸乙二醇酯)衬底。又如,所述衬底为PMMA(polymethylmethacrylate,聚甲基丙烯酸甲酯)衬底。又如,所述衬底为OLED显示器的基板,又如,所述衬底为LTPS(Low Temperature Poly-silicon,低温多晶硅技术)的基板,这样,能够进一步减少发生其在弯折时出现折痕或者断裂的问题。
一实施例中,所述衬底的厚度为15微米~150微米,又如,所述衬底的厚度为15微米~24微米,又如,所述衬底的厚度为15微米~19微米,又如,所述衬底的厚度为126微米~150微米,又如,所述衬底的厚度为135微米~150微米,这样,可以进一步改善所述水汽阻隔层的应力,提高阻隔膜的柔性性能。
在其中一个实施例中,所述水汽阻隔层为无机物层,由于无机物的阻水汽能力很强,这样,能够增强所述水汽阻隔层的水汽阻隔能力,还能使水汽阻隔层硬度高,化学稳定性和热稳定性好,且具有良好的绝缘性。又如,所述无机物层为氮化硅(SiNx)层或/和氧化硅(SiOx)层或/和氧化铝层。又如,所述水汽阻隔层为氮化硅层(SiNx)、氧化硅层(SiOx)或氧化铝层。又如,所述氧化硅为二氧化硅。又如,所述氧化铝为三氧化二铝。又如,所述无机物层为氮化硅(SiNx)层,所述氮化硅(SiNx)层的厚度为500纳米~1000纳米。又如,所述水汽阻隔层为由水汽阻隔物形成的薄膜,又如,所述水汽阻隔物为无机物,又如,所述水汽阻隔物为氮化硅(SiNx)或/和氧化硅(SiOx)或/和氧化铝等,这样,可以进一步改善所述水汽阻隔层的应力,提高阻隔膜的柔性性能。
在其中一个实施例中,水汽阻隔层设置有多个所述凹槽,多个所述凹槽呈矩形阵列分布于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上,这样,能够有效预防与避免经过多次弯折,或者弯折半径小的情况下会出现裂缝的问题,进一步避免了微电子和光电器件性能的衰减。
在其中一个实施例中,所述凹槽具有圆形开口或多边形开口。又如,所述多边形为三角形、长方形、正方形、正五边形、正六边形和正八边形中的一种,这样,能够进一步有效预防与避免经过多次弯折,或者弯折半径小的情况下会出现裂缝的问题。
具体的,例如,请参阅图1,凹槽210具有圆形开口。又如,请参阅图2,凹槽210a具有五边形开口,又如,所述凹槽具有正五边形开口。又如,请参阅图3,凹槽210b具有三角形开口,又如,所述凹槽具有正三角形开口。又如,请参阅图4,凹槽210c具有长方形开口。又如,请参阅图5,凹槽210d具有正方形开口,这样,阻隔膜在其被弯曲时不会产生挤压,保证其在柔性产品上使用时柔性产品的可折叠性和弯曲性。
在其中一个实施例中,所述凹槽沿着向其底部的方向变窄,这样,能够在保证水汽阻隔膜有较高的水汽阻隔能力时还能预防与避免其经过多次弯折,或者弯折半径小的情况下会出现裂缝的问题,进一步避免了微电子和光电器件性能的衰减。
在其中一个实施例中,所述凹槽的深度为所述水汽阻隔层厚度的1%~10%。又如,当所述水汽阻隔层具有氮化硅(SiNx)层时,所述凹槽的深度为所述氮化硅(SiNx)层深度的1%~10%。又如,通过刻蚀工艺或或者半镂空的掩模板(mask)工艺在所述氮化硅层上设置所述凹槽。又如,所述凹槽的深度为所述水汽阻隔层厚度的1%、1.5%、2%、2.5%、3%、3.5%、4%、4.5%、5%、5.5%、6%、6.5%、7%、7.5%、8%、8.5%、9%、9.5%和10%中的一种,这样,凹槽能够减少水汽阻隔层的应力,还能够保持水汽阻隔层具有较好的阻隔水汽能力,能够减少发生其经过多次弯折,或者弯折半径小的情况下会出现裂缝的问题。
在其中一个实施例中,阻隔膜还包括有机物亚克力(acrylic based)层,所述有机物亚克力层设置于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上,又如,所述有机物亚克力层为聚甲基丙烯酸甲酯层;又如,所述有机物亚克力层为丙烯酸塑料层;又如,所述有机物亚克力层为丙烯酸型压敏胶层;这样,可以进一步改善所述水汽阻隔层的应力,提高阻隔膜的柔性性能。
上述阻隔膜,通过在所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置凹凸部,能够降低所述阻隔膜的应力,在所述阻隔膜弯曲时不会产生挤压,使得所述阻隔膜的可折叠性能、弯曲性能较好,从而提高了所述阻隔膜的柔性性能,柔性性能较好。所述凹凸部通过刻蚀工艺或者采用半镂空的mask工艺等即可完成,工艺简单,且成本较低。还能够有效预防与避免经过多次弯折,或者弯折半径小的情况下会出现裂缝的问题,进一步避免了微电子和光电器件性能的衰减。。
本实用新型还提供一种OLED器件,其具有如上任一实施例所述的阻隔膜。
本实用新型还提供一种显示器,包括显示屏及如上任一实施例所述的阻隔膜,所述阻隔膜设置于所述显示屏外表面。
在其中一个实施例中,所述显示屏为OLED显示屏。又如,所述显示屏幕为AMOLED显示屏。又如,所述显示屏为柔性显示屏。又如,所述显示屏为柔性OLED显示屏。例如,柔性OLED的基本结构为:柔性基板(PI,Polyimide Film,聚酰亚胺薄膜)/LTPS(LowTemperature Poly-silicon,低温多晶硅)/OLED/TFE(Thin film encapsulation,薄膜封装)/阻隔膜;又如,硬质或者玻璃OLED的基本结构为:玻璃基板/LTPS/OLED/Frit(玻璃粉)/后盖玻璃。也就是说,所述衬底还可为LTPS的基板。
又如,所述阻隔膜的所述水汽阻隔层包括无机层氮化硅层,通过调控无机层氮化硅(SiNx)表面形貌,形成特定图案/凹槽,能够改善其自身的应力。此外,形成的特定表面形貌,在阻隔膜薄膜弯曲时不会产生挤压,保证柔性产品的可折叠性和弯曲性。特殊图案可以通过刻蚀工艺或者采用半镂空的掩模板(mask)制备。优选的,具有特殊图案形貌的无机层氮化硅(SiNx)的形成可以通过刻蚀工艺完成。优选的,所形成的特殊图案的深度为无机层氮化硅(SiNx)厚度的1%~10%,这样,能够有效预防与避免经过多次弯折,或者弯折半径小的情况下会出现裂缝的问题,进一步避免了微电子和光电器件性能的衰减。
上述显示器,由于采用的阻隔膜在所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置凹槽,能够降低所述阻隔膜的应力,在所述阻隔膜弯曲时不会产生挤压,使得所述阻隔膜的可折叠性能、弯曲性能较好,从而提高了所述阻隔膜的柔性性能,柔性性能较好。所述凹槽通过刻蚀工艺或者采用半镂空的掩模板(mask)工艺等即可制备得到,工艺简单,且成本较低。
本实用新型提供的阻隔膜还应用于车载产品。例如,在车载产品进行传统的TFE(Thin film encapsulation,薄膜封装)工序之后,贴一张水气阻隔膜,由于无机物阻水气能力很强,无机物薄膜硬度高,化学稳定性和热稳定性好,且具有良好的绝缘性,因此能够提升薄膜封装性能。又如车载产品的TFE封装结构为无机层/有机层/无机层。
能够理解,柔性OLED的基板也是柔性的,例如LTPS的基板,通常采用柔性的PI材料,在其中一个实施例中,为了保护OLED显示器中的衬底层,使衬底层能够阻挡外界杂质液体和气体的侵入,在制备OLED器件之前,先在OLED基板上制备上述水汽阻隔层,封装形成阻隔膜,继而在该阻隔膜上制备OLED器件。此时,柔性OLED的基本结构为:阻隔膜(包括柔性衬底)/LTPS/OLED/TFE/阻隔膜。
需要说明的是,本实用新型的其他实施例还包括上述各实施例中的技术特征相互结合所形成的能够实施的阻隔膜。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施方式仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种阻隔膜,包括衬底及设置在所述衬底表面的水汽阻隔层,其特征在于,所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上设置有凹凸部。
2.根据权利要求1所述的阻隔膜,其特征在于,所述凹凸部包括凹槽和凸起中至少一种。
3.根据权利要求1所述的阻隔膜,其特征在于,所述凹凸部设置有多个凹槽,所述多个凹槽呈矩形阵列分布于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上。
4.根据权利要求3所述的阻隔膜,其特征在于,所述多个凹槽具有圆形开口或多边形开口。
5.根据权利要求4所述的阻隔膜,其特征在于,所述多边形包括三角形、长方形、正方形、正五边形、正六边形和正八边形中的至少一种。
6.根据权利要求3所述的阻隔膜,其特征在于,所述凹槽的深度为所述水汽阻隔层厚度的1%~10%。
7.根据权利要求1所述的阻隔膜,其特征在于,还包括聚甲基丙烯酸甲酯层,所述聚甲基丙烯酸甲酯层设置于所述水汽阻隔层远离所述衬底的表面上。
8.一种OLED器件,其特征在于,具有如权利要求1至7中任一项所述的阻隔膜。
9.一种显示器,其特征在于,包括显示屏及如权利要求1至7中任一项所述的阻隔膜,所述阻隔膜设置于所述显示屏外表面。
10.根据权利要求9所述的显示器,其特征在于,所述显示屏为OLED显示屏。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201621355994.XU CN206312943U (zh) | 2016-12-09 | 2016-12-09 | 阻隔膜、oled器件及显示器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201621355994.XU CN206312943U (zh) | 2016-12-09 | 2016-12-09 | 阻隔膜、oled器件及显示器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN206312943U true CN206312943U (zh) | 2017-07-07 |
Family
ID=59250684
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201621355994.XU Active CN206312943U (zh) | 2016-12-09 | 2016-12-09 | 阻隔膜、oled器件及显示器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN206312943U (zh) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107662385A (zh) * | 2017-10-12 | 2018-02-06 | 丹阳市维尼光学有限公司 | 双层阻隔膜 |
CN108281388A (zh) * | 2018-01-23 | 2018-07-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板、其制作方法及显示面板 |
CN109032251A (zh) * | 2018-06-28 | 2018-12-18 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种柔性显示模组及其承载中框 |
CN110571251A (zh) * | 2019-08-16 | 2019-12-13 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 柔性盖板及其制备方法和显示装置 |
WO2020042518A1 (zh) * | 2018-08-29 | 2020-03-05 | 武汉华星光电技术有限公司 | 柔性显示面板的弯折区构造 |
-
2016
- 2016-12-09 CN CN201621355994.XU patent/CN206312943U/zh active Active
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107662385A (zh) * | 2017-10-12 | 2018-02-06 | 丹阳市维尼光学有限公司 | 双层阻隔膜 |
CN108281388A (zh) * | 2018-01-23 | 2018-07-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板、其制作方法及显示面板 |
CN108281388B (zh) * | 2018-01-23 | 2021-02-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板、其制作方法及显示面板 |
CN109032251A (zh) * | 2018-06-28 | 2018-12-18 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种柔性显示模组及其承载中框 |
WO2020042518A1 (zh) * | 2018-08-29 | 2020-03-05 | 武汉华星光电技术有限公司 | 柔性显示面板的弯折区构造 |
CN110571251A (zh) * | 2019-08-16 | 2019-12-13 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 柔性盖板及其制备方法和显示装置 |
WO2021031525A1 (zh) * | 2019-08-16 | 2021-02-25 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 柔性盖板及其制备方法和显示装置 |
US11357124B2 (en) | 2019-08-16 | 2022-06-07 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Flexible cover board, manufacturing method thereof, and display device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN206312943U (zh) | 阻隔膜、oled器件及显示器 | |
US20230422547A1 (en) | Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same | |
US20170170415A1 (en) | Method for manufacturing flexible display device and flexible display device so manufactured | |
EP3340330A1 (en) | Organic light-emitting diode device, manufacturing method, and display apparatus | |
US20180212187A1 (en) | Packaging method for organic semiconductor device | |
US9594190B2 (en) | Anti-scratch film for flexible display | |
CN105870355A (zh) | 一种柔性oled器件及其制备方法 | |
EP2581958A2 (en) | Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same | |
US20120024722A1 (en) | Package of environmental sensitive element and encapsulation method of the same | |
EP1914808A3 (en) | Solar cell structure with localized doping of cap layer | |
CN103378229A (zh) | 以填胶烧结方式制造选择性成长遮罩的方法 | |
US20190221761A1 (en) | Stretchable display | |
US8410518B2 (en) | Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same | |
CN106450026A (zh) | Oled显示器及其制作方法 | |
US10644259B2 (en) | Package of electronic device and display panel | |
CN107810555A (zh) | 氮氧化硅梯度构思 | |
CN106992253A (zh) | 封装结构、薄膜太阳能电池及有机发光显示装置 | |
CN105552091A (zh) | 阵列基板及其制备方法、显示面板 | |
US20190051862A1 (en) | Display panel and method of manufacturing same | |
WO2019075853A1 (zh) | 柔性oled面板的封装方法及封装结构 | |
KR102696647B1 (ko) | 플렉서블 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
WO2020248420A1 (zh) | 封装体、显示面板及显示面板的封装方法 | |
WO2020113829A1 (zh) | 一种显示装置及其封装方法 | |
CN107369717A (zh) | 薄膜晶体管及其光电装置 | |
US10468600B2 (en) | Method of fabricating an organic electroluminescent display device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |