CN106450026A - Oled显示器及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种OLED显示器及其制作方法。本发明的OLED显示器，包括基板、设于所述基板上的OLED器件、及设于所述基板、及OLED器件上并覆盖OLED器件的薄膜封装层；所述薄膜封装层包括至少两层无机材料钝化层、及至少一层有机材料缓冲层，所述薄膜封装层中的无机材料钝化层和有机材料缓冲层交替层叠设置，且薄膜封装层中至少有一层有机材料缓冲层为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层，不但能起到抗紫外线照射的作用，还能提高该有机材料缓冲层的力学性能，从而能够提高OLED显示器抗紫外线以及光老化的性能，延长其使用寿命。

Description

OLED显示器及其制作方法
技术领域
本发明涉及平板显示技术领域，尤其涉及一种OLED显示器及其制作方法。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示器，具备自发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗等特性，因此受到广泛的关注，并作为新一代的显示方式，已开始逐渐取代传统液晶显示器。目前,从小尺寸的移动电话显示屏，到大尺寸高分辨率的平板电视，应用OLED显示面板都成为一种高端的象征。
OLED显示技术与传统的液晶显示技术不同，无需背光灯，采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板，当有电流通过时，这些有机材料就会发光。但是由于有机材料易与水汽或氧气反应，作为基于有机材料的显示设备，OLED显示屏对封装的要求非常高，因此，通过OLED器件的封装提高器件内部的密封性，尽可能的与外部环境隔离，对于OLED器件的稳定发光至关重要。
目前OLED器件的封装主要在硬质封装基板(如玻璃或金属)上通过封装胶封装，但是该方法并不适用于柔性器件，因此，也有技术方案通过叠层的薄膜对OLED器件进行封装，该薄膜封装方式一般是在基板上的OLED器件上方形成两层为无机材料的阻水性好的阻挡层(barrier layer)，在两层阻挡层之间形成一层为有机材料的柔韧性好的缓冲层(bufferlayer)。具体请参阅图1，为现有的一种薄膜封装的OLED显示器，包括基板100、设于基板100上的OLED器件200、形成于OLED器件200上的薄膜封装层300，其中，所述薄膜封装层300包括形成于OLED器件200上的第一无机材料阻挡层310、形成于第一无机材料阻挡层310上的有机材料缓冲层320、及形成于有机材料缓冲层320上的第二无机材料阻挡层330。
另外，由于OLED显示器内的发光材料为有机物，在受紫外线照射后，易发生变性，发光效率以及寿命降低，从而限制了OLED显示器在户外的广泛应用。
相关研究表明，某些无机物颗粒能透过可见光，且纳米级别的微粒对特定波长范围的光线具有遮蔽能力；此外，纳米无机粒子添加在聚合物中，能改善聚合物的力学性能，具体表现在：(1)刚性无机纳米粒子的存在产生应力集中效应，易引发周围聚合物产生微开裂，吸收一定变形功。(2)刚性纳米粒子存在时，基体聚合物裂纹扩展受阻钝化，最终终止裂纹，不致发展为破坏性开裂。
发明内容
本发明的目的在于提供一种OLED显示器，薄膜封装层中至少有一层有机材料缓冲层为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层，不但能起到抗紫外线照射的作用，还能提高该有机材料缓冲层的力学性能。
本发明的另一目的在于提供一种OLED显示器的制作方法，薄膜封装层中至少有一层有机材料缓冲层为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层，能够提高OLED显示器抗紫外线以及光老化的性能，延长其使用寿命，并且提高薄膜封装中有机材料缓冲层的力学性能。
为实现上述目的，本发明提供一种OLED显示器，包括基板、设于所述基板上的OLED器件、及设于所述基板、及OLED器件上并覆盖OLED器件的薄膜封装层；
所述薄膜封装层包括至少两层无机材料钝化层、及至少一层有机材料缓冲层；所述薄膜封装层中，无机材料钝化层和有机材料缓冲层交替层叠设置，且无机材料钝化层比有机材料缓冲层在层数上多一层；
所述有机材料缓冲层的材料包括有机材料，所述薄膜封装层中至少有一层有机材料缓冲层为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层。
所述无机物纳米粒子为金属纳米粒子、金属氧化物纳米粒子、及金属盐纳米粒子中的一种或多种组合，所述无机物纳米粒子的粒径为20nm-300nm。
所述无机物纳米粒子为ZnO纳米粒子、TiO2纳米粒子、SiO2纳米粒子、及Al2O3纳米粒子中一种或多种组合。
所述有机材料缓冲层的有机材料为聚乙烯醇、聚氨酯丙烯酸酯聚合物、及聚酰亚胺树脂中的一种或几种的组合，所述有机材料缓冲层的厚度为100-2000nm；
所述无机材料钝化层的材料为SiNx、SiO2、或Al2O3，所述无机材料钝化层的厚度为50-2000nm。
所述薄膜封装层包括2-5层无机材料钝化层、及1-4层有机材料缓冲层。
本发明还提供一种OLED显示器的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、提供基板，在所述基板上形成OLED器件；
步骤2、在所述基板、及OLED器件上依次交替形成无机材料钝化层、及有机材料缓冲层，得到覆盖所述OLED器件的薄膜封装层；
所述薄膜封装层包括至少两层无机材料钝化层、及至少一层有机材料缓冲层，且所述薄膜封装层中，无机材料钝化层比有机材料缓冲层在层数上多一层；
所述有机材料缓冲层的材料包括有机材料，所述薄膜封装层中至少有一层有机材料缓冲层为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层。
所述无机物纳米粒子为金属纳米粒子、金属氧化物纳米粒子、及金属盐纳米粒子中的一种或多种组合，所述无机物纳米粒子的粒径为20nm-300nm。
所述无机物纳米粒子为ZnO纳米粒子、TiO2纳米粒子、SiO2纳米粒子、及Al2O3纳米粒子中一种或多种组合。
所述步骤2中，所述有机材料缓冲层通过旋涂、喷墨打印、或丝网印刷方法形成，所述有机材料缓冲层的有机材料为聚乙烯醇、聚氨酯丙烯酸酯聚合物、及聚酰亚胺树脂中的一种或几种的组合，所述有机材料缓冲层的厚度为100-2000nm；
其中，所述抗紫外线膜层的具体形成方法为：将所述无机物纳米粒子与有机材料混溶，得到抗紫外线涂布液，然后通过旋涂、喷墨打印、或丝网印刷方法将所述抗紫外线涂布液涂布在所述无机材料钝化层上，形成抗紫外线膜层；
所述步骤2中，所述无机材料钝化层通过化学气相沉积法、或原子气相沉积法形成，所述无机材料钝化层的材料为SiNx、SiO2、或Al2O3，所述无机材料钝化层的厚度为50-2000nm。
所述薄膜封装层包括2-5层无机材料钝化层、及1-4层有机材料缓冲层。
本发明的有益效果：本发明的OLED显示器，包括基板、设于所述基板上的OLED器件、及设于所述基板、及OLED器件上并覆盖OLED器件的薄膜封装层；所述薄膜封装层包括至少两层无机材料钝化层、及至少一层有机材料缓冲层，所述薄膜封装层中的无机材料钝化层和有机材料缓冲层交替层叠设置，且薄膜封装层中至少有一层有机材料缓冲层为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层，不但能起到抗紫外线照射的作用，还能提高该有机材料缓冲层的力学性能，从而能够提高OLED显示器抗紫外线以及光老化的性能，延长其使用寿命；本发明的OLED显示器的制作方法，采用薄膜封装方式对OLED器件进行封装，且薄膜封装层中至少有一层有机材料缓冲层为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层，不但能起到抗紫外线照射的作用，还能提高该有机材料缓冲层的力学性能，从而能够提高OLED显示器抗紫外线以及光老化的性能，延长其使用寿命。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
附图中，
图1为一种现有的OLED显示器的结构示意图；
图2为本发明的OLED显示器的结构示意图；
图3为本发明的OLED显示器的制作方法的流程示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图2，本发明提供一种OLED显示器，包括基板1、设于所述基板1上的OLED器件2、及设于所述基板1、及OLED器件2上并覆盖OLED器件2的薄膜封装层3；
所述薄膜封装层3包括至少两层无机材料钝化层31、及至少一层有机材料缓冲层32；所述薄膜封装层3中，无机材料钝化层31和有机材料缓冲层32交替层叠设置，且无机材料钝化层31比有机材料缓冲层32在层数上多一层，从而使得所述薄膜封装层3的最外面的两侧膜层均为无机材料钝化层31；
所述有机材料缓冲层32的材料包括有机材料，所述薄膜封装层3中至少有一层有机材料缓冲层32为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层32’。
本发明的OLED显示器，薄膜封装层3中至少有一层有机材料缓冲层32为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层32’，不但能起到抗紫外线照射的作用，还能提高该有机材料缓冲层32的力学性能，从而能够提高OLED显示器抗紫外线以及光老化的性能，延长其使用寿命。
具体地，所述无机物纳米粒子为金属纳米粒子、金属氧化物纳米粒子、及金属盐纳米粒子中的一种或多种组合，所述无机物纳米粒子的粒径为20nm-300nm。
优选地，所述无机物纳米粒子可以为氧化锌(ZnO)纳米粒子、二氧化钛(TiO2)纳米粒子、二氧化硅(SiO2)纳米粒子、氧化铝(Al2O3)纳米粒子中一种或多种组合。
具体地，所述有机材料缓冲层32的有机材料为聚乙烯醇、聚氨酯丙烯酸酯聚合物、及聚酰亚胺树脂中的一种或几种的组合，所述有机材料缓冲层32的厚度为100-2000nm。
具体地，所述无机材料钝化层31的材料为氮化硅(SiNx)、SiO2、或Al2O3，所述无机材料钝化层31的厚度为50-2000nm。
具体地，所述薄膜封装层3包括2-5层无机材料钝化层31、及1-4层有机材料缓冲层32。
具体地，所述基板1包括衬底基板、及设于衬底基板上的TFT阵列层，所述衬底基板为玻璃基板、或柔性基板。
具体地，所述OLED器件2包括由上至下依次层叠设置的阴极、电子注入层、第一电子传输层、发光层、第一空穴传输层、空穴注入层、及阳极。
具体地，在本实施例中，所述薄膜封装层3包括2层无机材料钝化层31、及1层有机材料缓冲层32，该层有机材料缓冲层32为抗紫外线膜层32’。
请参阅图3，基于上述OLED显示器，本发明还提供一种OLED显示器的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、提供基板1，在所述基板1上形成OLED器件2。
具体地，所述基板1包括衬底基板、及设于衬底基板上的TFT阵列层，所述衬底基板为玻璃基板、或柔性基板。
具体地，所述基板1还包括设于TFT阵列层上的平坦层。
具体地，形成OLED器件2的具体过程为：在所述平坦层上采用溅射工艺沉积透明ITO导电膜，得到阳极；然后在阳极上采用真空蒸镀或者溶液成膜的方法依次制备形成空穴注入层(25nm)、第一空穴传输层(60nm)、发光层、第一电子传输层(20nm)、电子注入层(1nm)、及阴极(20～200nm)，得到OLED器件2。
步骤2、在所述基板1、及OLED器件2上依次交替形成无机材料钝化层31、及有机材料缓冲层32，得到覆盖所述OLED器件2的薄膜封装层3；
所述薄膜封装层3包括至少两层无机材料钝化层31、及至少一层有机材料缓冲层32，且所述薄膜封装层3中，无机材料钝化层31比有机材料缓冲层32在层数上多一层，从而使得所述薄膜封装层3的最外面的两侧膜层均为无机材料钝化层31；
所述有机材料缓冲层32的材料包括有机材料，所述薄膜封装层3中至少有一层有机材料缓冲层32为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层32’。
具体地，所述无机物纳米粒子为金属纳米粒子、金属氧化物纳米粒子、及金属盐纳米粒子中的一种或多种组合，所述无机物纳米粒子的粒径为20nm-300nm。
优选地，所述无机物纳米粒子为ZnO纳米粒子、TiO2纳米粒子、SiO2纳米粒子、Al2O3纳米粒子中一种或多种组合。
具体地，所述步骤2中，所述有机材料缓冲层32通过旋涂、喷墨打印、或丝网印刷方法形成，所述有机材料缓冲层32的有机材料为聚乙烯醇、聚氨酯丙烯酸酯聚合物、及聚酰亚胺树脂中的一种或几种的组合，所述有机材料缓冲层32的厚度为100-2000nm；
其中，所述抗紫外线膜层32’的具体形成方法为：将所述无机物纳米粒子与有机材料混溶，得到抗紫外线涂布液，然后通过旋涂、喷墨打印、或丝网印刷方法将所述抗紫外线涂布液涂布在所述无机材料钝化层31上，形成抗紫外线膜层32’。
具体地，所述步骤2中，所述无机材料钝化层31通过化学气相沉积法、或原子气相沉积法形成，所述无机材料钝化层31的材料为SiNx、SiO2、或Al2O3，所述无机材料钝化层31的厚度为50-2000nm。
具体地，所述薄膜封装层3包括2-5层无机材料钝化层31、及1-4层有机材料缓冲层32。在本实施例中，所述薄膜封装层3包括2层无机材料钝化层31、及1层有机材料缓冲层32，该层有机材料缓冲层32为抗紫外线膜层32’。
综上所述，本发明的OLED显示器，包括基板、设于所述基板上的OLED器件、及设于所述基板、及OLED器件上并覆盖OLED器件的薄膜封装层；所述薄膜封装层包括至少两层无机材料钝化层、及至少一层有机材料缓冲层，所述薄膜封装层中的无机材料钝化层和有机材料缓冲层交替层叠设置，且薄膜封装层中至少有一层有机材料缓冲层为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层，不但能起到抗紫外线照射的作用，还能提高该有机材料缓冲层的力学性能，从而能够提高OLED显示器抗紫外线以及光老化的性能，延长其使用寿命；本发明的OLED显示器的制作方法，采用薄膜封装方式对OLED器件进行封装，且薄膜封装层中至少有一层有机材料缓冲层为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层，不但能起到抗紫外线照射的作用，还能提高该有机材料缓冲层的力学性能，从而能够提高OLED显示器抗紫外线以及光老化的性能，延长其使用寿命。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种OLED显示器，其特征在于，包括基板(1)、设于所述基板(1)上的OLED器件(2)、及设于所述基板(1)、及OLED器件(2)上并覆盖OLED器件(2)的薄膜封装层(3)；
所述薄膜封装层(3)包括至少两层无机材料钝化层(31)、及至少一层有机材料缓冲层(32)；所述薄膜封装层(3)中，无机材料钝化层(31)和有机材料缓冲层(32)交替层叠设置，且无机材料钝化层(31)比有机材料缓冲层(32)在层数上多一层；
所述有机材料缓冲层(32)的材料包括有机材料，所述薄膜封装层(3)中至少有一层有机材料缓冲层(32)为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层(32’)。
2.如权利要求1所述的OLED显示器，其特征在于，所述无机物纳米粒子为金属纳米粒子、金属氧化物纳米粒子、及金属盐纳米粒子中的一种或多种组合，所述无机物纳米粒子的粒径为20nm-300nm。
3.如权利要求2所述的OLED显示器，其特征在于，所述无机物纳米粒子为ZnO纳米粒子、TiO2纳米粒子、SiO2纳米粒子、及Al2O3纳米粒子中一种或多种组合。
4.如权利要求1所述的OLED显示器，其特征在于，所述有机材料缓冲层(32)的有机材料为聚乙烯醇、聚氨酯丙烯酸酯聚合物、及聚酰亚胺树脂中的一种或几种的组合，所述有机材料缓冲层(32)的厚度为100-2000nm；所述无机材料钝化层(31)的材料为SiNx、SiO2、或Al2O3，所述无机材料钝化层(31)的厚度为50-2000nm。
5.如权利要求1所述的OLED显示器，其特征在于，所述薄膜封装层(3)包括2-5层无机材料钝化层(31)、及1-4层有机材料缓冲层(32)。
6.一种OLED显示器的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供基板(1)，在所述基板(1)上形成OLED器件(2)；
步骤2、在所述基板(1)、及OLED器件(2)上依次交替形成无机材料钝化层(31)、及有机材料缓冲层(32)，得到覆盖所述OLED器件(2)的薄膜封装层(3)；
所述薄膜封装层(3)包括至少两层无机材料钝化层(31)、及至少一层有机材料缓冲层(32)，且所述薄膜封装层中，无机材料钝化层(31)比有机材料缓冲层(32)在层数上多一层；
所述有机材料缓冲层(32)的材料包括有机材料，所述薄膜封装层(3)中至少有一层有机材料缓冲层(32)为含有无机物纳米粒子的抗紫外线膜层(32’)。
7.如权利要求6所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述无机物纳米粒子为金属纳米粒子、金属氧化物纳米粒子、及金属盐纳米粒子中的一种或多种组合，所述无机物纳米粒子的粒径为20nm-300nm。
8.如权利要求7所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述无机物纳米粒子为ZnO纳米粒子、TiO2纳米粒子、SiO2纳米粒子、及Al2O3纳米粒子中一种或多种组合。
9.如权利要求6所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述步骤2中，所述有机材料缓冲层(32)通过旋涂、喷墨打印、或丝网印刷方法形成，所述有机材料缓冲层(32)的有机材料为聚乙烯醇、聚氨酯丙烯酸酯聚合物、及聚酰亚胺树脂中的一种或几种的组合，所述有机材料缓冲层(32)的厚度为100-2000nm；
其中，所述抗紫外线膜层(32’)的具体形成方法为：将所述无机物纳米粒子与有机材料混溶，得到抗紫外线涂布液，然后通过旋涂、喷墨打印、或丝网印刷方法将所述抗紫外线涂布液涂布在所述无机材料钝化层(31)上，形成抗紫外线膜层(32’)；
所述步骤2中，所述无机材料钝化层(31)通过化学气相沉积法、或原子气相沉积法形成，所述无机材料钝化层(31)的材料为SiNx、SiO2、或Al2O3，所述无机材料钝化层(31)的厚度为50-2000nm。
10.如权利要求6所述的OLED显示器的制作方法，其特征在于，所述薄膜封装层(3)包括2-5层无机材料钝化层(31)、及1-4层有机材料缓冲层(32)。
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