CN206216882U - 一种陶瓷生产用均匀喷涂装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种陶瓷生产用均匀喷涂装置,包括操作台,所述操作台的下端四角均设有支撑腿,所述操作台的上端中部设有圆柱,所述圆柱的两侧均设有滑轨,所述滑轨相对的一端均安装有限位块,所述滑轨上设有滑块,所述滑块的上端设有旋转装置,所述旋转装置上放置有固定吸盘,所述圆柱的侧壁上固定安装有两个固定盘,两个所述固定盘上分别连接有伸缩机构,所述伸缩机构远离固定盘的一端连接有固定刷头,所述固定刷头上设有刷毛,所述圆柱的上端设有支撑柱,所述支撑柱的上端设有储液箱。本实用新型,结构简单,通过陶瓷旋转进行喷涂,刷毛将旋转的陶瓷进行均匀粉刷,操作简单,实用方便。
Description
技术领域
本实用新型涉及喷涂装置技术领域,尤其涉及一种陶瓷生产用均匀喷涂装置。
背景技术
喷涂通过喷嘴或碟式雾化器,借助于压力或离心力,分散成均匀而微细的雾滴,施涂于被涂物表面的涂装方法。可分为空气喷涂、无空气喷涂、静电喷涂以及上述基本喷涂形式的各种派生的方式,如大流量低压力雾化喷涂、热喷涂、自动喷涂、多组喷涂等。而陶瓷喷涂是指在陶瓷的表面喷涂一层陶瓷薄膜,以改善原材料的性能,传统的我陶瓷喷涂方法是直接用喷嘴将涂层喷涂到工件上,利用这种方法对陶瓷进行陶瓷涂层时,其精度、涂层厚度等误差大。而现有的没有通过旋转进行喷涂,然后在通过毛刷对旋转喷涂再次进行粉刷的功能,为此,针对现有的不足之处,本实用新型提供一种陶瓷生产用均匀喷涂装置。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种陶瓷生产用均匀喷涂装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种陶瓷生产用均匀喷涂装置,包括操作台,所述操作台的下端四角均设有支撑腿,所述操作台的上端中部设有圆柱,所述圆柱的两侧均设有滑轨,所述滑轨相对的一端均安装有限位块,所述滑轨上设有滑块,所述滑块的上端设有旋转装置,所述旋转装置上放置有固定吸盘,所述圆柱的侧壁上固定安装有两个固定盘,两个所述固定盘上分别连接有伸缩机构,所述伸缩机构远离固定盘的一端连接有固定刷头,所述固定刷头上设有刷毛,所述圆柱的上端设有支撑柱,所述支撑柱的上端设有储液箱,储液箱的两侧均安装有横板,所述支撑柱的两侧壁上均连接有支撑杆,所述支撑杆远离固定板的一端固定连接在横板上,所述横板的末端设有凹槽,所述凹槽内通过转轴连接有竖杆,所述竖杆的一侧设有空心管,所述空心管远离竖杆的一侧安装有喷嘴,所述储液箱的两端设有输送管,所述输送管远离储液箱的一端贯穿空心管并连接在喷嘴上。
优选地,所述喷嘴的表面上均匀分布有喷孔,所述喷孔均设有过滤网。
优选地,所述输送管为伸缩软管。
优选地,所述伸缩机构为伸缩杆。
优选地,所述旋转装置为伺服电机。
本实用新型中,通过滑块和滑轨移动靠近限位块,然后通过固定吸盘将陶瓷固定在上面进行旋转,在操作台的两端安装有刷毛,通过圆柱上端的储液箱,分别在储液箱的两侧壁上通过输送管连接到喷嘴,且刷毛和喷嘴均相对应在固定吸盘的上方两侧。本实用新型结构简单,通过陶瓷旋转进行喷涂,刷毛将旋转的陶瓷进行均匀粉刷,操作简单,实用方便。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种陶瓷生产用均匀喷涂装置的结构示意图;
图2为本实用新型提出的一种陶瓷生产用均匀喷涂装置的喷嘴的表面结构。
图中:1支撑腿、2旋转装置、3操作台、4滑轨、5竖杆、6转轴、7凹槽、8横板、9支撑杆、10输送管、11储液箱、12固定盘、13伸缩机构、14毛刷、15空心管、16喷嘴、17固定吸盘、18滑块。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-2,一种陶瓷生产用均匀喷涂装置,包括操作台3,操作台3的下端四角均设有支撑腿1,对整个机体起到支撑作用,操作台3的上端中部设有圆柱,圆柱的两侧均设有滑轨4,滑轨4相对的一端均安装有限位块,限制滑块18的范围,防止滑块18超出限位块所在的位置,滑轨4上设有滑块18,滑块18的上端设有旋转装置2,旋转装置2上放置有固定吸盘17,圆柱的侧壁上固定安装有两个固定盘12,两个固定盘12上分别连接有伸缩机构13,伸缩机构13远离固定盘的一端连接有固定刷头,固定刷头上设有刷毛14,刷毛14的数量为若干个,且刷毛14为软毛,更具有抗腐蚀性,耐磨,圆柱的上端设有支撑柱,支撑柱的上端设有储液箱11,储液箱11的两侧均安装有横板8,支撑柱的两侧壁上均连接有支撑杆9,支撑杆9对横板8起到稳固支撑作用,支撑杆9远离固定板的一端固定连接在横板8上,横板8的末端设有凹槽7,凹槽7内通过转轴6连接有竖杆5,竖杆5的一侧设有空心管15,空心管15远离竖杆5的一侧安装有喷嘴16,储液箱11的两端设有输送管10,输送管10远离储液箱11的一端贯穿空心管15并连接在喷嘴16上。
本实用新型中,喷嘴16的表面上均匀分布有喷孔,喷孔处均设有过滤网,可过滤喷涂效果的有害大颗粒,从而减少喷孔堵塞并大幅提升表面梳理质量,输送管10为伸缩软管,伸缩机构13为伸缩杆,旋转装置2为伺服电机,通过伺服电机上丝杆和螺母带动固定吸盘17旋转。
本实用新型中,通过滑块18和滑轨4移动靠近限位块,然后通过固定吸盘17将陶瓷固定在上面进行旋转,在操作台3的两端安装有刷毛14,通过圆柱上端的储液箱11,分别在储液箱11的两侧壁上通过输送管10连接有喷嘴16,且刷毛14和喷嘴16均相对应在固定吸盘17的上方两侧。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种陶瓷生产用均匀喷涂装置,包括操作台(3),其特征在于,所述操作台(3)的下端四角均设有支撑腿(1),所述操作台(3)的上端中部设有圆柱,所述圆柱的两侧均设有滑轨(4),所述滑轨(4)相对的一端均安装有限位块,所述滑轨(4)上设有滑块(18),所述滑块(18)的上端设有旋转装置(2),所述旋转装置(2)上放置有固定吸盘(17),所述圆柱的侧壁上固定安装有两个固定盘(12),两个所述固定盘(12)上分别连接有伸缩机构(13),所述伸缩机构(13)远离固定盘的一端连接有固定刷头,所述固定刷头上设有刷毛(14),所述圆柱的上端设有支撑柱,所述支撑柱的上端设有储液箱(11),储液箱(11)的两侧均安装有横板(8),所述支撑柱的两侧壁上均连接有支撑杆(9),所述支撑杆(9)远离固定板的一端固定连接在横板(8)上,所述横板(8)的末端设有凹槽(7),所述凹槽(7)内通过转轴(6)连接有竖杆(5),所述竖杆(5)的一侧设有空心管(15),所述空心管(15)远离竖杆(5)的一侧安装有喷嘴(16),所述储液箱(11)的两端设有输送管(10),所述输送管(10)远离储液箱(11)的一端贯穿空心管(15)并连接在喷嘴(16)上。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷生产用均匀喷涂装置,其特征在于,所述喷嘴(16)的表面上均匀分布有喷孔,所述喷孔均设有过滤网。
3.根据权利要求1所述的一种陶瓷生产用均匀喷涂装置,其特征在于,所述输送管(10)为伸缩软管。
4.根据权利要求1所述的一种陶瓷生产用均匀喷涂装置,其特征在于,所述伸缩机构(13)为伸缩杆。
5.根据权利要求1所述的一种陶瓷生产用均匀喷涂装置,其特征在于,所述旋转装置(2)为伺服电机。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107186871A (zh) * | 2017-07-14 | 2017-09-22 | 蔡惠文 | 一种陶瓷产品生产用气动式调节喷釉设备 |
CN110385776A (zh) * | 2019-08-01 | 2019-10-29 | 梁红侠 | 一种陶瓷制品外表面处理系统及方法 |
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2016
- 2016-11-16 CN CN201621229783.1U patent/CN206216882U/zh not_active Expired - Fee Related
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