CN206216510U - 一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置，包括一个抛光液混合容器，抛光液混合容器倾斜置于旋转驱动装置上，旋转驱动装置中设有三个能够支撑驱动所述抛光液混合容器的驱动辊轮，抛光液混合容器的底部设有抛光液出口，抛光液出口处设有一次过滤网片，抛光液出口连接精密过滤装置，精密过滤装置中设有两层过滤介质，两层过滤介质之间设有过渡腔体，过渡腔体的侧壁上连接有杂质收集槽，精密过滤装置的出口连接抛光液供给装置和过滤介质吹气反清洗接口，过滤介质吹气反清洗接口连接有清洁压缩气源；本实用新型过滤后的抛光液中的杂质大大降低，能够定期对过滤介质进行吹气清洁，使过滤介质能够长时间使用，过滤除杂效果稳定可靠。
Description
技术领域
本实用新型涉及光学器件技术领域，尤其涉及一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置。
背景技术
在生产加工光学零件时，需要对不断光学零件进行研磨、抛光，研磨、抛光是非常光学零件生产过程中的关键加工工序。在研磨、抛光过程中需要使用大量的抛光液，这些抛光液中含有许多细小的固体颗粒，在静置一段时间后，抛光液中的固体颗粒容易出现沉淀使抛光液中的固体颗粒分布不均匀，影响研磨、抛光使用，在研磨、抛光前最好能够将抛光液混合均匀。
另外在对光学零件进行精密研磨、抛光时，需要确保抛光液中不能混杂有大颗粒的杂质，否则将可能会损坏光学零件。因此在研磨、抛光时需要对抛光液进行处理，现有技术中一般只是采用简易的静置过滤装置对抛光液进行过滤，使用时再手动摇匀混合，其过滤和混合效果不是很理想，需要进一步改进。
发明内容
为克服现有技术的不足，本实用新型提供了一种使用方便、混合均匀、过滤除杂效果好的光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置。
本实用新型为达到上述技术目的所采用的技术方案是：一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置，包括一个抛光液混合容器，所述抛光液混合容器的内部侧壁上设有便于混合抛光液的叶片，所述抛光液混合容器倾斜置于一个旋转驱动装置上，所述旋转驱动装置中设有三个能够支撑驱动所述抛光液混合容器的驱动辊轮，其中设于最低端的所述驱动辊轮连接有驱动电机，所述抛光液混合容器的底部设有一个抛光液出口，所述抛光液混合容器内部靠近所述抛光液出口处设有一次过滤网片，所述一次过滤网片上设有便于更换的过滤布，所述抛光液出口连接一个精密过滤装置，所述精密过滤装置中设有两层过滤介质，两层所述过滤介质之间设有一个过渡腔体，所述过渡腔体的侧壁上连接有一个杂质收集槽，所述精密过滤装置的出口连接抛光液供给装置，所述精密过滤装置的出口还设有一个过滤介质吹气反清洗接口，所述过滤介质吹气反清洗接口连接有清洁压缩气源。
所述抛光液混合容器和精密过滤装置之间设有一个活动连接的软管，所述软管上设有自动控制的开关阀门；精密过滤装置吹气反清洗时能够关闭阀门。
所述杂质收集槽中设有一个能够阻隔杂质又能够透气的立式过滤栅格；吹气反清洗时，气流将过滤介质中的杂质颗粒吹送到杂质收集槽中的立式过滤栅格上，使过滤介质能够长时间过滤使用。
本实用新型的有益效果是：采用上述结构，通过设置一个专用的抛光液处理装置，抛光液处理装置中的抛光液混合容器能够在持续旋转时进行过滤，混合及初步过滤除杂效果好，混合及初步过滤除杂后的抛光液再经过精密过滤装置中的两层过滤介质过滤，过滤后的抛光液中的杂质大大降低，过滤后的抛光液能够直接供给抛光机使用，精密过滤装置中还设置过滤介质吹气反清洗接口和杂质收集槽，能够定期对过滤介质进行吹气清洁，使过滤介质能够长时间过滤使用，确保过滤除杂效果稳定可靠。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。其中：
图1是本实用新型光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置的结构示意图。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详细说明。
请参阅图1所示，本实用新型光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置包括一个抛光液混合容器1，所述抛光液混合容器1的内部侧壁上设有便于混合抛光液的叶片11，所述抛光液混合容器1倾斜置于一个旋转驱动装置2上，所述旋转驱动装置2中设有三个能够支撑驱动所述抛光液混合容器1的驱动辊轮21，其中设于最低端的所述驱动辊轮21连接有驱动电机22，所述抛光液混合容器1的底部设有一个抛光液出口12，所述抛光液混合容器1内部靠近所述抛光液出口12处设有一次过滤网片13，所述一次过滤网片13上设有便于更换的过滤布14，所述抛光液出口12连接一个精密过滤装置3，所述精密过滤装置3中设有两层过滤介质31，两层所述过滤介质31之间设有一个过渡腔体32，所述过渡腔体32的侧壁上连接有一个杂质收集槽33，所述精密过滤装置3的出口连接抛光液供给装置4，所述精密过滤装置3的出口还设有一个过滤介质吹气反清洗接口34，所述过滤介质吹气反清洗接口34连接有清洁压缩气源5。
所述抛光液混合容器1和精密过滤装置2之间设有一个活动连接的软管6，所述软管6上设有自动控制的开关阀门61。
所述杂质收集槽33中设有一个能够阻隔杂质又能够透气的立式过滤栅格35。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (3)
1.一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置，其特征在于：包括一个抛光液混合容器，所述抛光液混合容器的内部侧壁上设有便于混合抛光液的叶片，所述抛光液混合容器倾斜置于一个旋转驱动装置上，所述旋转驱动装置中设有三个能够支撑驱动所述抛光液混合容器的驱动辊轮，其中设于最低端的所述驱动辊轮连接有驱动电机，所述抛光液混合容器的底部设有一个抛光液出口，所述抛光液混合容器内部靠近所述抛光液出口处设有一次过滤网片，所述一次过滤网片上设有便于更换的过滤布，所述抛光液出口连接一个精密过滤装置，所述精密过滤装置中设有两层过滤介质，两层所述过滤介质之间设有一个过渡腔体，所述过渡腔体的侧壁上连接有一个杂质收集槽，所述精密过滤装置的出口连接抛光液供给装置，所述精密过滤装置的出口还设有一个过滤介质吹气反清洗接口，所述过滤介质吹气反清洗接口连接有清洁压缩气源。
2.根据权利要求1所述的一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置，其特征在于：所述抛光液混合容器和精密过滤装置之间设有一个活动连接的软管，所述软管上设有自动控制的开关阀门。
3.根据权利要求1所述的一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置，其特征在于：所述杂质收集槽中设有一个能够阻隔杂质又能够透气的立式过滤栅格。
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