CN206193397U - 研磨清洗机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种研磨清洗机构，属于研磨清洗技术领域，其可至少部分解决现有的研磨清洗机构会损伤显示面板，降低研磨布寿命，清洗效果不佳的问题。本实用新型的研磨清洗机构包括：研磨头，用于设置研磨布；振动单元，用于驱动所述研磨头沿平行于研磨面的方向振动，所述研磨面为研磨布设在研磨头上时用于进行研磨的面。
Description
技术领域
本实用新型属于研磨清洗技术领域，具体涉及一种研磨清洗机构，尤其是用于显示面板的研磨清洗机构。
背景技术
在向显示面板上贴附各种膜层(如向液晶显示面板上贴附偏光膜)前，要对显示面板的表面进行清洗，以保证贴附的均匀紧密。以上清洗可为研磨清洗，如图1所示，先在研磨头1上包裹分布有研磨颗粒(如氧化铝)的研磨布，之后驱动研磨头1旋转并在显示面板9表面移动，对显示面板9进行研磨，除去其表面的颗粒、残胶、碎屑等污染物。
如图1所示，研磨头1旋转时覆盖的区域是圆形的，而显示面板9多是矩形的，故若要磨到显示面板9的角部，则研磨头1必须部分超出显示面板9。而研磨头1超出显示面板9的部分会与显示面板9边缘发生摩擦，从而损伤边缘电极等结构；同时，也会造成研磨布严重磨损，降低其使用寿命；另外，还会造成研磨颗粒、显示面板9的玻璃颗粒等脱落，成为新的污染物，降低清洗效果。例如，下表为对研磨清洗后显示面板9表面某位置的污染物的EDS(Energy Dispersive Spectrometer)成分分析结果，可见污染物主要为碳、氧、铝、硅等元素，而这些是研磨颗粒和显示面板9的玻璃的主要成分。
| 元素 | 重量百分比(％) | 原子百分比(％) |
| C | 13.71 | 20.89 |
| O | 50.85 | 8.18 |
| Al | 7.19 | 4.88 |
| Si | 20.62 | 13.44 |
| Zr | 3.44 | 0.69 |
| Ca | 4.2 | 1.92 |
实用新型内容
本实用新型至少部分解决现有的研磨清洗机构会损伤显示面板，降低研磨布寿命，清洗效果不佳的问题，提供一种不会损伤显示面板，可延长研磨布寿命，清洗效果好的研磨清洗机构。
解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种研磨清洗机构，其包括：
研磨头，用于设置研磨布；
振动单元，用于驱动所述研磨头沿平行于研磨面的方向振动，所述研磨面为研磨布设在研磨头上时用于进行研磨的面。
优选的是，所述研磨清洗机构还包括：连接在研磨头上的缓冲结构，其远离研磨头的一侧用于设置研磨布，且其用于朝向研磨面的部分为由柔性材料构成的缓冲层。
进一步优选的是，所述缓冲层由海绵构成。
进一步优选的是，所述缓冲结构与研磨头可拆卸连接。
进一步优选的是，所述缓冲结构还包括与研磨头可拆卸连接的连接部，所述缓冲层连接在所述连接部上。
进一步优选的是，所述连接部由树脂材料构成。
进一步优选的是，所述连接部与所述研磨头卡接连接。
优选的是，所述振动单元包括：驱动器，其用于向转轴输出转动运动；偏心传动器，其固定连接所述转轴，并具有偏离所述转轴的传动轴；支架，其一端与所述驱动器固定连接，另一端设有沿滑轨；滑块，其设于滑轨中，并能在滑轨中沿第一方向滑动，所述滑块中设有沿与第一方向垂直的方向延伸的凹槽，所述传动轴插入所述凹槽中；所述研磨头连接在所述滑块上。
进一步优选的是，所述驱动器为伺服电机。
进一步优选的是，所述研磨头与所述滑块卡接连接。
本实用新型的研磨清洗机构中，振动单元驱动研磨头进行振动而非旋转，研磨头振动时覆盖的区域是矩形的，故在这种情况下只要驱动研磨头移动，即可在研磨头不超出显示面板的情况下对显示面板的所有位置进行研磨清洗，从而可避免边缘电极等的损坏，延长研磨布的使用寿命，改善清洗效果。
附图说明
图1为现有技术中研磨清洗时研磨头的运动轨迹示意图；
图2为本实用新型的实施例的一种研磨清洗机构的结构示意图；
图3为本实用新型的实施例的一种研磨清洗机构的另一角度的结构示意图；
图4为本实用新型的实施例的一种研磨清洗机构进行研磨清洗时的结构示意图；
图5为本实用新型的实施例的研磨清洗机构的研磨头的运动轨迹示意图；
其中，附图标记为：1、研磨头；2、研磨布；31、缓冲层；32、连接部；41、驱动器；411、转轴；42、偏心传动器；421、传动轴；43、滑块；431、凹槽；49、支架；491、滑轨；9、显示面板。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。
实施例1：
如图2至图5所示，本实施例提供一种研磨清洗机构。
该研磨清洗机构优选用于显示面板9的研磨清洗，尤其是液晶显示面板的研磨清洗。当然，该研磨清洗机构也可用于半导体基片、太阳能晶片等的研磨清洗。
具体的，以上研磨清洗机构包括：
研磨头1，用于设置研磨布2；
振动单元，用于驱动研磨头1沿平行于研磨面的方向振动，研磨面为研磨布2设在研磨头1上时用于进行研磨的面(即图2中研磨布2朝下的表面)。
本实施例的研磨清洗机构中，振动单元驱动研磨头1进行振动而非旋转，研磨头1振动时覆盖的区域是矩形的，故在这种情况下只要驱动研磨头1移动，即可在研磨头1不超出显示面板9的情况下对显示面板9的所有位置进行研磨清洗，从而可避免边缘电极等的损坏，延长研磨布2的使用寿命，改善清洗效果。
例如，研磨头1的振动方向可如图4、图5所示，此时研磨头1振动时覆盖的区域是矩形，只要使研磨清洗机构边振动，边沿图中标示的弯折的“弓字形”线路移动，即可在保证研磨头1的任意位置均不超出显示面板9的情况下，对显示面板9的所有位置(包括角部)实现均匀的研磨清洗。
优选的，研磨清洗机构还包括：连接在研磨头1上的缓冲结构，其远离研磨头1的一侧用于设置研磨布2，且其用于朝向研磨面的部分为由柔性材料构成的缓冲层31。
现有技术中，研磨布2是直接设置在刚性的研磨头1上的。由此，研磨布2(研磨头1)对显示面板9施加的压力难以调节反馈，研磨头1为至少有偏差即会导致压力产生很大变化，压力过大则容易损坏显示面板9，压力过小则清洗效果不好。而本实施例的研磨清洗机构中，研磨布2与研磨头1之间具有缓冲层31，该缓冲层31由柔性材料构成，故可起到调节研磨布2的压力(压入量)的作用，实现更好的清洗效果。
更优选的，缓冲层31由海绵构成。
作为最简便的方式，可用海绵作为以上的缓冲层31，由此研磨布2用于进行研磨的面上方为海绵。
更优选的，缓冲结构与研磨头1可拆卸连接；进一步优选的。缓冲结构还包括与研磨头1可拆卸连接的连接部32，缓冲层31连接在连接部32上。
缓冲结构比较容易磨损，故需要更换，因此其优选与研磨头1可拆卸连接，当一个缓冲结构损坏后，即可从研磨头1上拆下更换新的。而缓冲层31是由海绵等柔性材料构成的，较难实现与研磨头1的可拆卸连接，因此，优选设置刚形材料构成的连接部32，缓冲层31连接在该连接部32上，而连接部32再与研磨头1可拆卸连接。
更优选的，连接部32由树脂材料构成。
也就是说，连接部32可由树脂材料，由于树脂材料一般都是从液态转变为固态并形成所需结构的，故其可方便的与缓冲层31实现连接。
更优选的，连接部32与研磨头1卡接连接。
从简便的角度出发，连接部32可通过卡接的方式实现与研磨头1的可拆卸连接。例如，连接部32和研磨头1中的一个可具有卡槽，另一个具有可伸入卡槽中的卡头，通过将卡头插入卡槽中，即可实现二者的可拆卸连接。
优选的，以上振动单元包括：
驱动器41，其用于向转轴411输出转动运动；
偏心传动器42，其固定连接转轴411，并具有偏离转轴411的传动轴421；
支架49，其一端与驱动器41固定连接，另一端设有沿滑轨491；
滑块43，其设于滑轨491中，并能在滑轨491中沿第一方向滑动，滑块43中设有沿与第一方向垂直的方向延伸的凹槽431，传动轴421插入凹槽431中；
研磨头1连接在滑块43上。
如图2至图4所示，本实施例的研磨清洗机构中，振动单元可包括能输出转动运动的驱动器41，该驱动器41的转轴411连接偏心传动器42(如偏心轮)；偏心传动器42的传动轴421插在滑块43的凹槽431中，而滑块43则设置在支架49的滑轨491中，能在滑轨491中沿与凹槽431垂直的方向滑动；同时，支架49另一端则与驱动器41固定连接。由此，当驱动器41输出转动时，偏心传动器42的传动轴421以转轴411为圆心进行圆周运动，由于传动轴421可在凹槽431中移动，传动轴421在凹槽431方向的运动并不会带动滑块43，而只带动滑块43在滑轨491中沿与凹槽431垂直的方向往复运动，而滑块43则带动研磨头1、研磨布2振动。
当然，以上只是举出了振动单元一个具体例子，只要能带动研磨头1在与研磨面平行的方向上振动，振动单元也可采用其它的已知形式。
更优选的，驱动器41为伺服电机。
也就是说，可用高频伺服电机作为以上的驱动器41，这样可使研磨头1的振动频率达到2000次/分钟，远大于现有技术中研磨头1的转动速度(一般为400转/分钟)，从而大大的提高研磨效率，改善清洗效果。
更优选的，研磨头1与滑块43卡接连接。
也就是说，研磨头1优选也可以是以卡接的方式与滑块43可拆卸连接的，从而便于研磨头1的更换。例如，如图3、图4所示，研磨头1上可设有卡槽，而滑块43上可设有插入卡槽中的卡块；其中，为避免研磨头1从滑块43上掉下，卡槽处还可设有锁止结构等。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种研磨清洗机构，其特征在于，包括：
研磨头，用于设置研磨布；
振动单元，用于驱动所述研磨头沿平行于研磨面的方向振动，所述研磨面为研磨布设在研磨头上时用于进行研磨的面。
2.根据权利要求1所述的研磨清洗机构，其特征在于，还包括：
连接在研磨头上的缓冲结构，其远离研磨头的一侧用于设置研磨布，且其用于朝向研磨面的部分为由柔性材料构成的缓冲层。
3.根据权利要求2所述的研磨清洗机构，其特征在于，
所述缓冲层由海绵构成。
4.根据权利要求2所述的研磨清洗机构，其特征在于，
所述缓冲结构与研磨头可拆卸连接。
5.根据权利要求4所述的研磨清洗机构，其特征在于，
所述缓冲结构还包括与研磨头可拆卸连接的连接部，所述缓冲层连接在所述连接部上。
6.根据权利要求5所述的研磨清洗机构，其特征在于，
所述连接部由树脂材料构成。
7.根据权利要求5所述的研磨清洗机构，其特征在于，
所述连接部与所述研磨头卡接连接。
8.根据权利要求1所述的研磨清洗机构，其特征在于，所述振动单元包括：
驱动器，其用于向转轴输出转动运动；
偏心传动器，其固定连接所述转轴，并具有偏离所述转轴的传动轴；
支架，其一端与所述驱动器固定连接，另一端设有沿滑轨；
滑块，其设于滑轨中，并能在滑轨中沿第一方向滑动，所述滑块中设有沿与第一方向垂直的方向延伸的凹槽，所述传动轴插入所述凹槽中；
所述研磨头连接在所述滑块上。
9.根据权利要求8所述的研磨清洗机构，其特征在于，
所述驱动器为伺服电机。
10.根据权利要求8所述的研磨清洗机构，其特征在于，
所述研磨头与所述滑块卡接连接。
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| CN201621292267.3U CN206193397U (zh) | 2016-11-28 | 2016-11-28 | 研磨清洗机构 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110281102A (zh) * | 2019-06-24 | 2019-09-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 清洗机构及清洗方法 |
| CN111558865A (zh) * | 2020-05-23 | 2020-08-21 | 安徽财经大学 | 一种大尺寸tft-lcd玻璃基板的面研磨装置及方法 |
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2016
- 2016-11-28 CN CN201621292267.3U patent/CN206193397U/zh not_active Expired - Fee Related
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