CN206141057U - 一种储存用的光触媒抗菌无纺布 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种储存用的光触媒抗菌无纺布,包括非织造布层、光触媒抗菌涂层及聚四氟乙烯膜,其中,非织造布层为储存用的光触媒抗菌无纺布的结构层,在所述非织造布层的表层、底层涂设光触媒抗菌涂层,在所述光触媒抗菌涂层上再覆聚四氟乙烯膜。本实用新型运用离子反应先包裹细菌以及异味,然手再将细菌与异味分解,解决了现有杀菌材料的缺陷,此外,在没有可见光的情况下亦能分解细菌,去除异味,防霉级别达到零级不生长标准,其抑菌去味功能时效性长,即使经过多次洗涤,其效果保持不变。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种非织造布,特别涉及一种储存用的光触媒抗菌无纺布。
背景技术
无纺布制品色彩丰富,时尚环保,用途广泛,图案和款式都多样,且质轻、环保,且可循环使用,被国际公认为保护地球生态的环保产品,适用于制鞋、制革、床垫、装饰、印刷、汽车、建材及家具等行业。随着社会的发展,人们对于无纺布的功能性要求也越来越高,特别是目前各种传染病蔓延的情况下,人们对无纺布的抗菌性能提出了更高的要求。
无纺布储存包装产品主要使用的是长丝无纺布,如PP材质或PP/PE材质,随着人民生活水平的提高,加上储藏要求的提高,对于衣柜、鞋柜以及相关储存产品有了各种杀菌去味的要求。然而,目前市面上销售的部分抗菌无纺布虽然具有抗菌性,但是由于是添加了化学溶剂,如银离子、氯类杀菌剂等,这些杀菌剂在效果上有一定的作用,但是容易发生化学物质泄露,特别是将该化学溶剂应用于储存用的无纺布,更是对人体的健康造成了威胁,同时,这类杀菌剂会在杀菌的同时损害长丝无纺布的材料成分,减少材料使用时效,降低产品强度,造成产品性能下降。
发明内容
本实用新型的目的就是为提供一种储存用的光触媒抗菌无纺布,为了实现上述目标,本实用新型的一种储存用的光触媒抗菌无纺布,其技术方案为:一种储存用的光触媒抗菌无纺布,包括非织造布层,其结构特点为所述储存用抗菌无纺布以非织造布层为结构层,在所述非织造布层的表层、底层涂设光触媒抗菌涂层,在所述光触媒抗菌涂层上再覆聚四氟乙烯膜。
作为进一步的优选方案,所述光触媒抗菌涂层的厚度为15-50微米,所述光触媒抗菌涂层通过浸渍或刮涂的方式复合在非织造布层的表层及底层。
作为进一步的优选方案,所述聚四氟乙烯膜的厚度为30-300微米,所述聚四氟乙烯膜通过浸渍聚四氟乙烯乳液的方式复合在光触媒抗菌涂层之上。
本实用新型实现的有益效果:本实用新型运用离子反应先包裹细菌以及异味,然手再将细菌与异味分解,解决了现有杀菌材料的缺陷,此外,本实用新型具有无光催化的功能,在没有可见光的情况下亦能分解细菌,去除异味,防霉级别达到零级不生长标准,其抑菌去味功能时效性长,稳定性优,即使经过多次洗涤,其效果依然保持不变。
附图说明
图1是一种储存用的光触媒抗菌无纺布的结构示意图。
图中,1是非织造布层,2是光触媒抗菌涂层,3是覆聚四氟乙烯膜。
具体实施方式
为了对本实用新型作进一步的了解,现结合附图对其作具体的说明。
实施例1
如附图1所示,本实施例的一种储存用的光触媒抗菌无纺布包括非织造布层1、光触媒抗菌涂层2及聚四氟乙烯膜3,其中,非织造布层1为储存用的光触媒抗菌无纺布的结构层,在所述非织造布层1的表层、底层涂设光触媒抗菌涂层2,在所述光触媒抗菌涂层2上再覆聚四氟乙烯膜3。
实施例2
在本实施例中,光触媒抗菌剂优选由完全无毒无害的纯天然矿物提取物制成的米纳露催化制剂,光触媒抗菌涂层2通过浸渍方式将米纳露催化制剂复合在非织造布层1的表层及底层,其工艺过程为:
1)按米纳露催化制剂原液的量,以57:1000的比例计算纯净水的添加量,将纯净水加入照米纳露催化制剂原液中混合均匀。
2)通过浸渍或喷淋的方式将米纳露催化制剂附着在非织造布层1的表层和底层。
3)设置烘箱的温度为150-200℃,将步骤(3)的非织造布置入烘箱内烘干,使得在非织造布层1的表层和底层涂覆一层基于米纳露催化制剂的光触媒抗菌涂层2,该光触媒抗菌涂层的厚度为15-50微米。
在本实施例中,聚四氟乙烯膜3通过浸渍聚四氟乙烯乳液的方式复合在光触媒抗菌涂层之上,聚四氟乙烯膜3的厚度为30-300微米,形成之上而下包括聚四氟乙烯膜3、光触媒抗菌涂层2、非织造布层1、光触媒抗菌涂层2、聚四氟乙烯膜3的储存用的抗菌无纺布。
虽然本实用新型描述了具体的实施案例,但是,本实用新型的范围并不局限于上述具体实施例,在不脱离本实用新型实质的情况下,对本实用新型的各种变型、变化和替换均落入本实用新型的保护范围。
Claims (3)
1.一种储存用的光触媒抗菌无纺布,包括非织造布层,其特征在于:所述储存用抗菌无纺布以非织造布层为结构层,在所述非织造布层的表层、底层涂设光触媒抗菌涂层,在所述光触媒抗菌涂层上再覆聚四氟乙烯膜。
2.根据权利要求1所述的一种储存用的光触媒抗菌无纺布,其特征在于:所述光触媒抗菌涂层的厚度为15-50微米。
3.根据权利要求1所述的一种储存用的光触媒抗菌无纺布,其特征在于:所述聚四氟乙烯膜的厚度为30-300微米。
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CN201621109789.5U Active CN206141057U (zh) | 2016-10-11 | 2016-10-11 | 一种储存用的光触媒抗菌无纺布 |
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2016
- 2016-10-11 CN CN201621109789.5U patent/CN206141057U/zh active Active
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