CN205710923U - Hdi板刻蚀液电解再生装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及刻蚀废液处理技术领域，具体而言，涉及一种HDI板刻蚀液电解再生装置，包括电解槽（1），该电解槽内设有阴极（2）、和阳极（3），所述阴极（2）与阳极（3）由陶瓷隔膜（4）隔开，阴极设计增大电极面积的结构，同时向阴极电解液中加入铜粉、石墨粉或其他导电微粉，采用气泵鼓入空气扰动阴极电解液。电解过程中，阴极液中导电微粉与阴极碰撞过程中，铜离子在导电微粉上还原成单质铜，实现高效脱铜，尤其是当电解液铜离子浓度逐渐减少，仍有较高电流效率，析氢副反应少；同时，阳极发生氧化反应，产生H+并析出氧气，随着反应进行，刻蚀废液酸度逐渐恢复，过滤后电解液可回收用于线路板刻蚀反应。
Description
技术领域
本实用新型涉及刻蚀废液处理技术领域，具体而言，涉及一种HDI板刻蚀液电解再生装置。
背景技术
普通刻蚀废液处理通常采用化学处理铜盐沉淀法、刻蚀废液加臭氧（氧化剂）析出氧化铜方法、浓缩后电解再生或加阳离子铜络合物电解法等。采用浓缩再电解处理的方法浓缩成本较大；采用化学铜盐沉淀或者析出氧化铜方法，废液成分发生变化，难以再生使用；络合电解法，在铜离子浓度低时电解效率不高，同时再生液中由于添加了铜络合离子，影响了刻蚀过程铜腐蚀速度。
例如授权公告号为CN 203546157 U的中国实用新型专利，其公开了一种碱性刻蚀液铜回收再生系统，包括有主控单元、收集单元、调配单元、电解单元以及回用单元，该收集单元包括有收集缸和旧液储罐，该收集缸与刻蚀机的废液出口连接，该调配单元包括有循环泵和循环槽，该电解单元包括有复数个电解槽，该回用单元包括有再生液储罐、再生液调节罐以及再生子液储罐，该循环槽的入口与旧液储罐的出口相连通，该循环槽的出口与电解槽的入口相连通，该电解槽的出口与再生液储罐的入口相连通，该再生液调节罐的入口与再生液储罐的出口连通，该再生液调节罐的出口与再生子液储罐的入口连通，该再生子液储罐的出口与刻蚀机连通。该碱性刻蚀液铜回收再生系统，采用直接电解技术不仅能回收蚀刻废液中的金属铜离子，而且实现了刻蚀液的循环回用，是零污染的在线循环，符合安全指标和环保要求。但该回收再生系统的设备较为复杂，回收成本较高，且不适于低浓度铜离子溶液的回收。
实用新型内容
为了解决现有技术存在的上述技术缺陷，本实用新型的目的在于提供一种HDI板刻蚀液电解再生装置，该装置能够有效解决HDI板刻蚀液中低铜离子浓度时电解效率低，回收成本高的问题。
按照本实用新型的一种HDI板刻蚀液电解再生装置，包括电解槽，该电解槽内设有阴极、和阳极，所述电解槽由陶瓷隔膜分隔；阴极的电解液中设有气泵。所述阴极与阳极均为不锈钢电极，阴极设计增大电极面积的结构，同时向阴极室电解液中加入铜粉、石墨粉或其他导电微粉，采用气泵鼓入空气扰动阴极电解液。电解过程中，阴极液中导电微粉与阴极碰撞过程中，铜离子在导电微粉上还原成单质铜，实现高效脱铜，尤其是当电解液铜离子浓度逐渐减少，仍有较高电流效率，析氢副反应少；同时，阳极发生氧化反应，产生H+并析出氧气，随着反应进行，刻蚀废液酸度逐渐恢复，过滤后电解液可回收用于线路板刻蚀反应。
优选的是，所述阴极与阳极之间的极间距为5～8cm。
在上述任一方案中优选的是，所述阴极部分的电解液中加有150～500目的微粉。
在上述任一方案中优选的是，所述微粉为铜粉或石墨粉。
在上述任一方案中优选的是，所述阳极的电流密度为100～300A/m2。
综上所述，本实用新型中的HDI板刻蚀液电解再生装置具有以下优点：采用三维电极电解处理刻蚀废液，既能高效处理废液中低浓度铜离子，又能电解产生H+，恢复刻蚀废液刻蚀过程中消耗的酸；电解槽用陶瓷隔膜分隔，阴、阳极均采用不锈钢电极，阴极设计增大电极面积的结构，同时向阴极电解液中加入铜粉、石墨粉或其他导电微粉，电解过程中，阴极液中导电微粉与阴极碰撞过程中，铜离子在导电微粉上还原成单质铜，实现高效脱铜，尤其是当电解液铜离子浓度逐渐减少，仍有较高电流效率，析氢副反应少；采用气泵鼓入空气扰动阴极电解液，使电解速度加快。
附图说明
图1为按照本实用新型的HDI板刻蚀液电解再生装置的一优选实施例的结构示意图。
附图中标号：电解槽1，阴极2，阳极3，陶瓷隔膜4。
具体实施方式
以下的说明本质上仅仅是示例性的而并不是为了限制本公开、应用或用途。下面结合说明书附图对本实用新型HDI板刻蚀液电解再生装置的具体实施方式作进一步的说明。
如图1所示，按照本实用新型的HDI板刻蚀液电解再生装置的一优选实施例的结构示意图。按照本实用新型的HDI板刻蚀液电解再生装置，包括电解槽1，该电解槽内设有阴极2和阳极3，并通过陶瓷隔膜4分隔。所述阴极2与阳极3均为不锈钢电极，阴极2设计增大电极面积的结构，阴极2的电解液中设有气泵。同时，向阴极电解液中加入铜粉、石墨粉或其他导电微粉，采用气泵鼓入空气扰动阴极电解液。电解过程中，阴极液中导电微粉与阴极碰撞过程中，铜离子在导电微粉上还原成单质铜，实现高效脱铜，尤其是当电解液铜离子浓度逐渐减少，仍有较高电流效率，析氢副反应少；同时，阳极发生氧化反应，产生H+并析出氧气，随着反应进行，刻蚀废液酸度逐渐恢复，过滤后电解液可回收用于线路板刻蚀反应。
在本实施例中，所述阳极3的尺寸为10cm×10cm，极间距为5cm。
在本实施例中，所述阴极2的电解液中加有200目的微粉。
在本实施例中，所述微粉为铜粉或石墨粉。
在本实施例中，所述阳极3的电流密度为200A/m2。
本实用新型的HDI板刻蚀液电解再生装置的工作过程具有两种实施方式。
实施方式一：
电解槽1、阴极2、阳极3结构，阴极2、阳极3均采用不锈钢，阳极3的尺寸为10 cm×10cm，极间距5cm，向阴极2的电解液加入200目铜粉，固液比1:1000，控制阳极3的电流密度2100～300A/m2，当铜离子脱除90%，电流效率达85%以上，电解槽1的电压在6.3～7.8V之间变化。
实施方式二：
电解槽1、阴极2、阳极3结构，阴极2、阳极3均采用不锈钢，阳极3的尺寸为10 cm×10cm，极间距5cm，向阴极2的电解液加入200目石墨粉，固液比1:2000，控制阳极3的电流密度2100～300A/m2，当铜离子脱除90%，电流效率达82%以上，电解槽1的电压在6.6～7.9V之间变化。
综上所述，本实用新型中的HDI板刻蚀液电解再生装置具有以下优点：采用三维电极电解处理刻蚀废液，既能高效处理废液中低浓度铜离子，又能电解产生H+，恢复刻蚀废液刻蚀过程中消耗的酸；阴、阳极均采用不锈钢电极，阴阳极用陶瓷隔膜等分隔，阴极设计增大电极面积的结构，同时向阴极电解液中加入铜粉、石墨粉或其他导电微粉，电解过程中，阴极液中导电微粉与阴极碰撞过程中，铜离子在导电微粉上还原成单质铜，实现高效脱铜，尤其是当电解液铜离子浓度逐渐减少，仍有较高电流效率，析氢副反应少；采用气泵鼓入空气扰动阴极电解液，使电解速度加快。
本领域技术人员不难理解，本实用新型的HDI板刻蚀液电解再生装置包括本说明书中各部分的任意组合。限于篇幅且为了使说明书简明，在此没有将这些组合一一详细介绍，但看过本说明书后，由本说明书构成的各部分的任意组合构成的本实用新型的范围已经不言自明。
Claims (5)
1.一种HDI板刻蚀液电解再生装置，包括电解槽（1），该电解槽内设有阴极（2）和阳极（3），其特征在于：阴极（2）与阳极（3）均为不锈钢电极；电解槽（1）由陶瓷隔膜（4）分隔；阴极（2）的电解液中设有气泵。
2.如权利要求1所述的HDI板刻蚀液电解再生装置，其特征在于：阴极（2）部分的电解液中加有150～500目的微粉。
3.如权利要求2所述的HDI板刻蚀液电解再生装置，其特征在于：所述微粉为铜粉或石墨粉。
4.如权利要求1所述的HDI板刻蚀液电解再生装置，其特征在于：阴极（2）和阳极（3）之间的极间距为5～15cm。
5.如权利要求1所述的HDI板刻蚀液电解再生装置，其特征在于：阳极（3）的电流密度为100～300A/m2。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201620357445.XU CN205710923U (zh) | 2016-04-26 | 2016-04-26 | Hdi板刻蚀液电解再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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| CN201620357445.XU CN205710923U (zh) | 2016-04-26 | 2016-04-26 | Hdi板刻蚀液电解再生装置 |
Publications (1)
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|---|---|
| CN205710923U true CN205710923U (zh) | 2016-11-23 |
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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| CN (1) | CN205710923U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114657566A (zh) * | 2022-05-23 | 2022-06-24 | 江油星联电子科技有限公司 | 一种电路板生产用药水再生装置 |
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2016
- 2016-04-26 CN CN201620357445.XU patent/CN205710923U/zh active Active
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