CN205614500U - 一种排屑磨盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及磨具磨料技术领域，名称是一种排屑磨盘，包括圆形的基体和多个粘接在基体上的磨块，基体中间具有安装孔，所述的基体上有排屑槽，所述的排屑槽是弧线结构，按照工进方向，弧线的凸出部分朝前、弧线在基体周围是向后设置的，所述的排屑槽具有靠近基体中心细小、靠近基体边缘变大的结构，所述的排屑槽的截面是超过半圆的凹槽，这样的磨盘具有排屑顺畅、排屑效果好的优点；所述的排屑槽具有靠近基体中心细小、靠近基体边缘变大的结构，所述的排屑槽的截面是超过半圆的凹槽，具有排屑效果更好的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及磨具磨料技术领域，具体地说是涉及磨盘。
背景技术
磨盘包括圆形的基体和多个粘接在基体上的磨块，基体中间具有安装孔；现有技术中，磨块是圆周阵列安装在基体上，磨块之间的间隙就是排屑槽，这样的排屑槽具有设计不合理的现象，具有排屑槽浅、排屑槽是直线的等不合理因素，影响了磨盘的排屑效果。
发明内容
本实用新型的目的就是针对上述缺点，提供一种排屑顺畅、排屑效果好的磨盘——一种排屑磨盘。
本实用新型的技术方案是这样实现的：一种排屑磨盘，包括圆形的基体和多个粘接在基体上的磨块，基体中间具有安装孔，所述的基体上有排屑槽，其特征是：所述的排屑槽是弧线结构，按照工进方向，弧线的凸出部分朝前、弧线在基体周围是向后设置的。
进一步地讲，所述的排屑槽具有靠近基体中心细小、靠近基体边缘变大的结构。
进一步打开，所述的排屑槽的截面是超过半圆的凹槽。
本实用新型的有益效果是：这样的磨盘具有排屑顺畅、排屑效果好的优点；所述的排屑槽具有靠近基体中心细小、靠近基体边缘变大的结构，所述的排屑槽的截面是超过半圆的凹槽，具有排屑效果更好的优点。
附图说明
图1是本实用新型的俯视结构示意图。
图2是图1的A—A剖面结构示意图。
其中：1、基体 2、磨块 3、安装孔 4、排屑槽。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
如图1、2所示，一种排屑磨盘，包括圆形的基体1和多个粘接在基体上的磨块2，基体中间具有安装孔3，所述的基体上有排屑槽4，其特征是：所述的排屑槽是弧线结构，按照工进方向，弧线的凸出部分朝前、弧线在基体周围是向后设置的，图中箭头方向表示工进的方向，弧线的尾部B在后面，凸出部分C在前面，许多磨盘是有研磨方向限定的。
进一步地讲，所述的排屑槽4具有靠近基体中心细小、靠近基体边缘变大的结构，图中C处的排屑槽截面就细小，B处的就排屑槽截面就较大。
进一步打开，所述的排屑槽的截面是超过半圆的凹槽，这样排屑更顺畅，不易积存。
以上所述仅为本实用新型的具体实施例，但本实用新型的结构特征并不限于此，任何本领域的技术人员在本实用新型的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本实用新型的专利范围内。
Claims (3)
1.一种排屑磨盘，包括圆形的基体和多个粘接在基体上的磨块，基体中间具有安装孔，所述的基体上有排屑槽，其特征是：所述的排屑槽是弧线结构，按照工进方向，弧线的凸出部分朝前、弧线在基体周围是向后设置的。
2.根据权利要求1所述的磨盘，其特征是：所述的排屑槽具有靠近基体中心细小、靠近基体边缘变大的结构。
3.根据权利要求1或2所述的磨盘，其特征是:所述的排屑槽的截面是超过半圆的凹槽。
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| CN201620345344.0U CN205614500U (zh) | 2016-04-25 | 2016-04-25 | 一种排屑磨盘 |
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| CN (1) | CN205614500U (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106670987A (zh) * | 2017-01-23 | 2017-05-17 | 苏州诺纳可电子科技有限公司 | 一种多用型砂轮 |
| CN109848843A (zh) * | 2019-04-03 | 2019-06-07 | 中山北方晶华精密光学有限公司 | 一种精细的镜片打磨组件 |
| CN110497273A (zh) * | 2019-08-22 | 2019-11-26 | 詹赛红 | 一种道路施工用混凝土磨平机 |
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2016
- 2016-04-25 CN CN201620345344.0U patent/CN205614500U/zh not_active Expired - Fee Related
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